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公开(公告)号：CN101568666B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN200780048068.5
申请日：2007-12-26
Applicant: 株式会社COWINDST
Inventor： 金一镐
IPC: C23C16/448
CPC classification number: C23C16/4481 , C23C16/4412 , Y02C20/30
Abstract: 本发明涉及一种薄膜沉积装置，具体地说，涉及一种包括：原料气体供应装置，用于对薄膜沉积装置提供形成薄膜的金属材料；残留气体处理装置，在薄膜沉积后处理残留气体。本发明薄膜沉积装置的原料气体供应装置，包括：运输气体供应部，与薄膜沉积目标物隔一定间隔安装，向沉积薄膜的薄膜沉积用腔室提供用于运输金属材料的运输气体；原料气体产生部，储存上述金属材料，升华上述金属材料与上述运输气体混合；运输气体注入线，连接上述运输气体供应部和原料气体产生部，将运输气体和原料气体转送到上述薄膜沉积用腔室，具有用于将运输气体或原料气体维持在金属材料升华点以上的加热器。
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公开(公告)号：CN101568666A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200780048068.5
申请日：2007-12-26
Applicant: 株式会社COWINDST , 金一镐
Inventor： 金一镐
IPC: C23C16/448
CPC classification number: C23C16/4481 , C23C16/4412 , Y02C20/30
Abstract: 本发明涉及一种薄膜沉积装置，具体地说，涉及一种包括：原料气体供应装置，用于对薄膜沉积装置提供形成薄膜的金属材料；残留气体处理装置，在薄膜沉积后处理残留气体。本发明薄膜沉积装置的原料气体供应装置，包括：运输气体供应部，与薄膜沉积目标物隔一定间隔安装，向沉积薄膜的薄膜沉积用腔室提供用于运输金属材料的运输气体；原料气体产生部，储存上述金属材料，升华上述金属材料与上述运输气体混合；运输气体注入线，连接上述运输气体供应部和原料气体产生部，将运输气体和原料气体转送到上述薄膜沉积用腔室，具有用于将运输气体或原料气体维持在金属材料升华点以上的加热器。
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公开(公告)号：CN108423977B
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：CN201710405277.6
申请日：2017-05-31
Applicant: 株式会社COWINDST
Abstract: 本发明公开了低辐射玻璃热处理方法以及系统。低辐射玻璃热处理方法包括如下的步骤：将在一面形成有金属膜的玻璃板装载于传送装置的一侧；在从传送装置的一侧向另一侧的传送方向的第一区域中使用第一温度的微波首次选择性热处理金属膜至固定深度以下；在使用微波热处理的步骤之前或者之后，在传送方向的第二区域中用第二温度的激光束选择性热处理金属膜，其中该第二区域位于第一区域的前端或者后端。
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公开(公告)号：CN108423977A
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：CN201710405277.6
申请日：2017-05-31
Applicant: 株式会社COWINDST
Abstract: 本发明公开了低辐射玻璃热处理方法以及系统。低辐射玻璃热处理方法包括如下的步骤：将在一面形成有金属膜的玻璃板装载于传送装置的一侧；在从传送装置的一侧向另一侧的传送方向的第一区域中使用第一温度的微波首次选择性热处理金属膜至固定深度以下；在使用微波热处理的步骤之前或者之后，在传送方向的第二区域中用第二温度的激光束选择性热处理金属膜，其中该第二区域位于第一区域的前端或者后端。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102939544B
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201180018013.6
申请日：2011-04-06
Applicant: 株式会社COWINDST
IPC: G01R1/06 , H01L21/66 , G02F1/1345
CPC classification number: G02F1/1309 , G02F1/13458 , G02F1/136259 , H01L22/32
Abstract: 本发明涉及一种焊垫图案修复设备。本发明提供一种用于修复在配备成将信号施加于多个基板中的一者的焊垫电极中的缺陷的设备，包括：阶台，基板装载进阶台的参考面；腔室，第一排放口、保护气体出口及第二排放口关于激光发射孔而依序地形成在腔室的下表面中，腔室被装备在阶台上并移动至焊垫电极的缺陷位置，且腔室在激光发射孔的中间具有将净化气体及原料气体排出的结构；以及夹钳，被安装在阶台上并支撑紧密黏附于参考面的基板的相对面，其中基板及腔室的下表面之间的间隙在腔室的下表面的内部及外部变化。根据本发明的焊垫图案修复设备将在进行修复缺陷的区域中的压力维持于不变的层级，而改善工艺合格率。
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公开(公告)号：CN102779953A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201210149047.5
申请日：2012-05-14
Applicant: 株式会社COWINDST
Abstract: 本发明涉及一种像素重新生成设备和使用该设备的像素重新生成方法。根据本发明的重新生成有机发光二极管的像素的方法，包括：第一步，将包括第一电极和第二电极的有机发光二极管排列在平台上，第一电极和第二电极形成于基板上，以将有机发光层置于其间，并彼此交叉；和第二步，通过使用像素重新生成设备将激光照射到第一电极和第二电极之间的有机发光层中存在的导电粒子的区域。本发明的优势在于由于导电粒子造成的AMOLED的像素的缺陷区域可通过将激光照射到该区域上而被重新生成，从而能够保证产品的可靠性，并提高生产量。
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公开(公告)号：CN101611339B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200780048403.1
申请日：2007-12-24
Applicant: 株式会社COWINDST
Inventor： 金一镐
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1303 , B23K26/0006 , B23K26/066 , B23K26/354 , B23K2103/50 , C23C16/0263 , C23C16/06 , C23C16/483 , G02F2001/136263
Abstract: 本发明涉及一种形成金属薄膜的装置及方法，其中，当液晶显示器装置的金属图案为开路时，利用镭射在上部绝缘层中形成孔和在孔之间形成金属薄膜，进而连接所述开路金属图案的非连接部位。当沉积在基板上的金属图案(41)为开路时，所述金属薄膜形成方法连接开路金属图案的非连接部位。通过照射第一镭射清除金属图案上的绝缘层，可在其上沉积薄膜的第一和第二连接孔(44)形成于金属图案中。通过照射第二镭射，以金属薄膜(46)填充连接孔。通过照射第二镭射在孔之间形成金属薄膜。
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公开(公告)号：CN101617262B
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200780047250.9
申请日：2007-12-18
Applicant: 株式会社COWINDST
Inventor： 金一镐
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1309 , G02F1/1303 , G02F2201/508
Abstract: 本发明涉及修补液晶显示器(LCD；Liquid Crystal Display Device)的缺陷，具体地说，涉及一种黑化装置及方法，用于消除液晶单元内部因杂质而发生漏光现象。本发明液晶显示器的黑化装置包括：多个镭射振荡器；光束调整单元，用于调整上述镭射振荡器振荡出的光束强度；镭射振荡单元，包括变换上述镭射光束的轮廓的光束形成单元及可选择性地透射或反射上述光束特性的半透半反镜；扫描单元，用于调整光束的方向使上述镭射光束照射到需要黑化的部位。
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公开(公告)号：CN101617262A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200780047250.9
申请日：2007-12-18
Applicant: 株式会社COWINDST , 金一镐
Inventor： 金一镐
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1309 , G02F1/1303 , G02F2201/508
Abstract: 本发明涉及修补液晶显示器(LCD；Liquid Crystal Display Device)的缺陷，具体地说，涉及一种黑化装置及方法，用于消除液晶单元内部因杂质而发生漏光现象。本发明液晶显示器的黑化装置包括：多个镭射振荡器；光束调整单元，用于调整上述镭射振荡器振荡出的光束强度；镭射振荡单元，包括变换上述镭射光束的轮廓的光束形成单元及可选择性地透射或反射上述光束特性的半透半反镜；扫描单元，用于调整光束的方向使上述镭射光束照射到需要黑化的部位。
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