带载体的金属箔以及其使用方法和制造方法

    公开(公告)号:CN113826194A

    公开(公告)日:2021-12-21

    申请号:CN202080035517.8

    申请日:2020-05-18

    Abstract: 提供一种带载体的金属箔,其能够以相同的对准标记为基准进行布线形成时的粗大电路用的曝光及微细电路用的曝光这两者,其结果,可以在1阶段的电路形成工艺中同时形成粗大电路及微细电路。该带载体的金属箔具备:载体、设置在载体的至少一面上的剥离层、和设置在剥离层上的金属层,带载体的金属箔具有布线用区域和至少2个定位用区域,所述布线用区域遍布其整个区域地存在载体、剥离层及金属层,所述至少2个定位用区域设置于带载体的金属箔的上述至少一面,形成在伴随曝光及显影的布线形成时用于位置对准的对准标记。

    带载体的铜箔
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111278644A

    公开(公告)日:2020-06-12

    申请号:CN201880070531.4

    申请日:2018-12-03

    Abstract: 提供即使在350℃以上的高温下长时间加热后,也能保持稳定的剥离性的带载体的极薄铜箔。该带载体的极薄铜箔具备:载体,其由玻璃或陶瓷构成;中间层,其设置于载体上,由选自由Cu、Ti、Al、Nb、Zr、Cr、W、Ta、Co、Ag、Ni、In、Sn、Zn、Ga和Mo组成的组中的至少1种金属构成;剥离层,其设置于中间层上,包含碳层和金属氧化物层或者包含金属氧化物和碳;以及,极薄铜层,其设置于剥离层上。

    多层电路板的制造方法
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110024496A

    公开(公告)日:2019-07-16

    申请号:CN201680091253.1

    申请日:2016-12-22

    Abstract: 提供能够一边降低多层层叠体挠曲一边以准确的探测进行电检查的多层电路板的制造方法。该方法包括如下工序:准备依次具备第1支撑体、第1剥离层和金属层的层叠片的工序;在金属层的表面交替地形成布线层和绝缘层而得到多层层叠体的工序,其中,作为最后形成的布线层的第n布线层包含第n连接焊盘;在多层层叠体的与层叠片相反侧的表面,夹着第2剥离层粘接具备开口部的第2支撑体,以使得第n连接焊盘的至少一部分位于开口部内,得到经增强的多层层叠体的工序,其中,第2剥离层被适用于第2支撑体的被粘接面的全部区域或仅被适用于一部分区域;在第1剥离层的位置将第1支撑体从经增强的多层层叠体剥离的工序;以及,使导电体与经增强的多层层叠体的第n连接焊盘接触来进行电检查的工序。

    多层布线板的制造方法
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109997418A

    公开(公告)日:2019-07-09

    申请号:CN201780073228.5

    申请日:2017-11-24

    Abstract: 提供一种多层布线板的制造方法,其包括如下工序:交替形成布线层及绝缘层,从而制作多层层叠体的工序;在多层层叠体的一个面夹着可溶性粘合层层叠增强片的工序,其中,在增强片与多层层叠体相对的相对区域内存在未形成可溶性粘合层的非占有区域;使能够将可溶性粘合层溶解的液体浸入非占有区域,使可溶性粘合层溶解或软化的工序;及在可溶性粘合层的位置将增强片从多层层叠体剥离,从而得到多层布线板的工序。根据该方法,能够不使局部大幅弯曲地增强多层布线层,由此能够提高多层布线层的连接可靠性和多层布线层表面的平坦性(共面性)。另外,也能够将施加至多层层叠体的应力最小化并且以极短的时间进行发挥了作用的增强片的剥离。

    带载体铜箔、带树脂铜箔以及印刷电路板的制造方法

    公开(公告)号:CN108349208A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201680063741.1

    申请日:2016-12-01

    Inventor: 松浦宜范

    CPC classification number: B32B9/00 B32B15/08 H05K1/03

    Abstract: 本发明提供对于在激光加工以及去钻污处理后剥离载体的电路形成工序特别适宜的带载体铜箔,即载体的加热压制耐性(耐热性)、激光加工性、去钻污处理中的载体的耐腐蚀性、去钻污处理中的剥离层的耐腐蚀性、以及载体剥离强度优异的带载体铜箔。该带载体铜箔具备:由选自聚萘二甲酸乙二醇酯树脂(PEN)、聚醚砜树脂(PES)、聚酰亚胺树脂以及聚苯硫醚树脂的至少1种树脂构成的载体;在载体上设置且主要包含硅而成的硅层;在硅层上设置且主要包含碳而成的碳层;和在碳层上设置的极薄铜层。

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