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公开(公告)号:CN108701594A
公开(公告)日:2018-10-23
申请号:CN201780014830.1
申请日:2017-02-23
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H01L21/265 , H01L21/268
CPC classification number: H01L21/268 , B23K26/0006 , B23K26/0604 , B23K26/0648 , B23K26/0823 , B23K26/0869 , B23K26/0876 , B23K26/352 , B23K26/705 , B23K2101/40 , B23K2103/56 , H01L21/26513
Abstract: 热处理装置具备振荡得到激光的激光振荡器(1)、使从激光振荡器(1)振荡得到的激光向被处理物(5)照射的一个以上的光学系统(2)、以及供被处理物(5)搭载的旋转台(3),在将通过激光的一次照射得到的被处理物(5)的激活率达到目标值的被处理物(5)的达到温度设为第1温度时,将比第1温度低的第2温度设定为被处理物(5)的达到温度的目标值,从光学系统(2)对被处理物(5)反复进行两次以上激光的照射。