公开(公告)号：CN101401198B

公开(公告)日：2012-05-02

申请号：CN200680053935.X

申请日：2006-12-26

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 加藤光雄 ,  堀江茂齐 ,  青井辰史 ,  河野将树 ,  津元良公 ,  小笠原弘明 ,  小林敏郎

IPC: H01L21/683 ,  H02N13/00 ,  B65G49/06

CPC classification number: B65G49/061 ,  H01L21/6831 ,  H02N13/00

Abstract: 本发明公开了一种静电吸引设备和一种能够可靠吸引和快速释放玻璃基板的吸引/释放方法。根据玻璃基板的物理性质获得用于吸引玻璃基板的吸引力。除了获得用于获得吸引力所要求的吸引电压(Vc(t))之外，也获得了用于保持吸引状态的保持电压(Vh(t))和用于释放玻璃基板的释放电压(Vr(t))(S1到S7)。吸引时间周期(tc)被实际测量，并且如果此测量的时间不同于预设吸引时间(t1)，根据实际测量的吸引时间周期(tc)重新计算保持电压(Vh(t))和释放电压(Vr(t))(S8到S11)。

公开(公告)号：CN101440471B

公开(公告)日：2012-02-15

申请号：CN200810178118.8

申请日：2008-11-19

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 神川进 ,  佐藤惠一 ,  北本博子 ,  小林敏郎

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  H05B33/10

CPC classification number: C23C14/12 ,  C23C14/243 ,  C23C14/568

Abstract: 本发明公开一种线式膜形成装置，包括：淀积源、防淀积板和屏。淀积源存储不同膜形成材料，并且包括在垂直于传送方向的基板的宽度方向上延伸的开口。所述开口相互平行地分别设置在传送方向的上游侧和下游侧。所述防淀积板隔开与共淀积室相邻的淀积室，并且相互平行地设置在传送方向的上游侧和下游侧，限制来自开口的蒸汽的淀积区域。屏限制并且使来自开口的蒸汽在基板的淀积区域与通过板限定的淀积区域重合。因而，防止单成分模形成而只有混合膜形成在基板上。

公开(公告)号：CN101981223A

公开(公告)日：2011-02-23

申请号：CN200980111673.1

申请日：2009-09-24

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 平野竜也 ,  小林敏郎

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C14/243 ,  C23C14/12

Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。该真空蒸镀装置包括：能够收容从外部搬入的被蒸镀体(B)的真空室(1)；设置在所述真空室(1)内并收容蒸镀材料(M)的坩埚(2)；加热所述坩埚(2)并使所述蒸镀材料(M)气化的加热源(3)；分散配置在坩埚(2)的底部(2c)并支承坩埚(2)，并且在坩埚(2)与真空室(1)的底部(1a)之间进行传热的多个支承部(5)。通过该真空蒸镀装置，能够实现温度分布的均一化，并能够降低材料的多余的填充。

公开(公告)号：CN100503881C

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200610006228.7

申请日：2006-01-23

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 佐藤惠一 ,  小林敏郎 ,  加藤光雄 ,  神川进 ,  和田宏三

IPC: C23C14/24

Abstract: 一种坩锅为在汽化室的整个区域上延伸的整体结构，并具有至少一个设置在坩锅上表面内的狭缝凹槽。所述至少一个狭缝凹槽具有从该坩锅上表面的一端到其另一端的长度。所述至少一个狭缝凹槽用作为用于容纳蒸发材料(掺杂材料等)的部分。可替换地，一种坩锅为在汽化室的整个区域上延伸的整体结构，并具有多个设置在坩锅上表面内的孔。这些孔用作为用于容纳蒸发材料的部分。另外，该坩锅分成多个区域，在坩锅下表面之下为相应区域设置单独的电加热器，从而能通过这些电加热器为相应区域单独控制温度。

公开(公告)号：CN100339502C

公开(公告)日：2007-09-26

申请号：CN200410071635.7

申请日：2004-07-15

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 三崎雅信 ,  树神幸夫 ,  中村荣造 ,  和田佳宏 ,  安井丰明 ,  小林敏郎 ,  花中胜保

IPC: C23C14/06

CPC classification number: C23C14/024 ,  C23C14/0641 ,  C23C28/044 ,  C23C28/42 ,  Y10T83/04 ,  Y10T407/27 ,  Y10T428/265

Abstract: 一种高耐磨硬质薄膜，其特征在于它包括：由金属氮化物构成的涂层，它形成在所要处理的物体的外表面上；由Ti或Cr氮化物构成的基底层，它设在涂层和所要处理的物体之间；以及一中间层，它包含有与中间层接触的涂层和基底层的组分，该中间层设在涂层和基底层之间的界面处，并且一种刀具设有该薄膜。提供一种甚至在1000℃或更高温度下也具有优异的抗氧化性并且还具有非常高的耐磨性的硬质薄膜。

公开(公告)号：CN1576387A

公开(公告)日：2005-02-09

申请号：CN200410071635.7

申请日：2004-07-15

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 三崎雅信 ,  树神幸夫 ,  中村荣造 ,  和田佳宏 ,  安井丰明 ,  小林敏郎 ,  花中胜保

IPC: C23C14/06

CPC classification number: C23C14/024 ,  C23C14/0641 ,  C23C28/044 ,  C23C28/42 ,  Y10T83/04 ,  Y10T407/27 ,  Y10T428/265

Abstract: 一种高耐磨硬质薄膜，其特征在于它包括：由金属氮化物构成的涂层，它形成在所要处理的物体的外表面上；由Ti或Cr氮化物构成的基底层，它设在涂层和所要处理的物体之间；以及一中间层，它包含有与中间层接触的涂层和基底层的组分，该中间层设在涂层和基底层之间的界面处，并且一种刀具设有该薄膜。提供一种甚至在1000℃或更高温度下也具有优异的抗氧化性并且还具有非常高的耐磨性的硬质薄膜。