双轴取向聚芳硫醚膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN101678604B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN200880015409.3

    申请日:2008-05-07

    Abstract: 本发明提供一种断裂伸长率及平面性优异的仅由聚芳硫醚树脂形成的双轴取向膜。所述双轴取向聚芳硫醚膜的长度或宽度方向的断裂伸长率为110%以上,长度或宽度方向的断裂应力为200MPa以下,在260℃、10分钟条件下的长度及宽度方向的热收缩率为0%以上至10%以下。另外,提供一种双轴取向聚芳硫醚膜,其长度及宽度方向的平均断裂伸长率为110%以上,长度及宽度方向的平均断裂应力为200MPa以下,在260℃、10分钟条件下的长度及宽度方向的热收缩率为0%以上至10%以下。另外,本发明提供一种双轴取向聚芳硫醚膜的制造方法,是在长度及宽度方向以面积拉伸倍率为13倍以下进行拉伸,拉伸后的热定形分2步以上进行,每步的温度不同,第1步的热定形温度为160℃以上至220℃以下,第2步以后的热定形最高温度为240℃以上至280℃以下。

    双轴取向聚芳硫醚膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN101678604A

    公开(公告)日:2010-03-24

    申请号:CN200880015409.3

    申请日:2008-05-07

    Abstract: 本发明提供一种断裂伸长率及平面性优异的仅由聚芳硫醚树脂形成的双轴取向膜。所述双轴取向聚芳硫醚膜的长度或宽度方向的断裂伸长率为110%以上,长度或宽度方向的断裂应力为200MPa以下,在260℃、10分钟条件下的长度及宽度方向的热收缩率为0%以上至10%以下。另外,提供一种双轴取向聚芳硫醚膜,其长度及宽度方向的平均断裂伸长率为110%以上,长度及宽度方向的平均断裂应力为200MPa以下,在260℃、10分钟条件下的长度及宽度方向的热收缩率为0%以上至10%以下。另外,本发明提供一种双轴取向聚芳硫醚膜的制造方法,是在长度及宽度方向以面积拉伸倍率为13倍以下进行拉伸,拉伸后的热定形分2步以上进行,每步的温度不同,第1步的热定形温度为160℃以上至220℃以下,第2步以后的热定形最高温度为240℃以上至280℃以下。

    双轴取向聚酯膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN105637018A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201480056290.X

    申请日:2014-11-06

    CPC classification number: C08J5/18 C08J2367/02 C08K3/04 C08L67/02

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种遮光性、隐蔽性、阻燃性优异,连续生产性优异的双轴取向聚酯膜及其制造方法。本发明为满足下述(1)~(4)的双轴取向聚酯膜。(1)在构成膜的聚酯树脂组合物中含有炭黑粒子。(2)在构成膜的聚酯树脂组合物中实质上不含有阻燃剂、分散剂。(3)膜的光密度为3.5以上。(4)阻燃性为VTM-0、VTM-1或VTM-2中的任一种。

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