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公开(公告)号：CN1323046A
公开(公告)日：2001-11-21
申请号：CN01113672.3
申请日：2001-06-07
Applicant: 东南大学
Abstract: 锰锌铁氧体复合的二氧化钛纳米磁性材料是一种以锰锌铁氧体为核心,以二氧化钛为包覆层的复合材料,制备的方法为:以硝酸铁、硝酸锰、硝酸锌、柠檬酸、乙二醇为原料,用sol－gel法制备出纳米磁性核心锰锌铁氧体,经高温处理获得强磁性的尖晶石相;分离纯化后,分散于酸性水溶液中,然后将钛酸酯的醇溶液滴加入其中进行水解反应,产生TiO2并沉积在磁性核心锰锌铁氧体表面,经焙烧处理,以获得高纯度的锐钛矿型TiO2复合材料。
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公开(公告)号：CN100369206C
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：CN200410065950.9
申请日：2004-12-28
Applicant: 东南大学
Abstract: 制备纳米间隙的外电场诱导取向沉积方法是一种纳米结构的加工技术，该方法基于电场诱导与选择性化学沉积法相结合，同步诱导金属在电极尖端处优先沉积并取向生长，使电极对的间隙从微米级或亚微米级减小到纳米级，从而获得纳米间隙结构。制备的工艺如下：用普通光刻工艺制备出微米级或亚微米级间隙的原型电极；在原型电极表面组装双功能分子“X-R-Y”、化学吸附化学镀引发剂，使电极表面具有催化活性；将具有催化活性的原型电极放入化学镀溶液中，同时沿着原型电极对的方向上施加一个外置分立交变电场，同步诱导金属在电极对尖端处优先沉积与取向生长，从而实现电极间隙的减小，获得纳米间隙结构。
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公开(公告)号：CN1315157C
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200410014078.5
申请日：2004-02-17
Applicant: 东南大学
Abstract: 纳米间隙电极的制备方法是一种基于分子组装技术的制备纳米间隙电极的选择性化学沉积方法，其制备的方法为：首先，用传统光刻工艺制备出微米或亚微米间隙的原型电极；在上述电极表面采用分子组装技术获得双功能分子“X-R-Y”的单分子膜；再利用该单分子膜朝向外表面的活性端基Y化学吸附化学镀引发剂；继而在电极表面引发金属的选择性化学沉积，通过金属层在电极表面的自催化外延生长使原型电极的间隙从微米或亚微米级缩小到纳米级。方法操作简单、制造成本低廉，无须昂贵的设备投入就能非常简便地达到电极的纳米加工；是一种简便易行、成本低廉、易于推广的纳米间隙电极的制备方法。
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公开(公告)号：CN1631766A
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：CN200410065951.3
申请日：2004-12-28
Applicant: 东南大学
IPC: B82B3/00 , H01L21/288 , H01L21/445
Abstract: 磁场诱导取向沉积方法制备磁性纳米间隙电极，涉及一种纳米结构、纳米器件的加工技术。该方法通过磁性金属在普通光刻电极上的选择性沉积与沿着电极对方向的磁场同步诱导取向生长，在不相应增加电极的侧向宽度情况下将普通光刻电极对的间隙小到纳米级，实现磁性纳米间隙电极的简便低廉加工。制备的方法如下：首先，用普通光刻工艺制备出微米级或亚微米级间隙的原型电极；在原形电极表面组装双功能分子、键合引发剂，使电极表面具有催化活性；将具有催化括性的原型电极放入磁性金属或合金的化学镀溶液中，同时沿着原型电极对方向上施加一个外磁场，同步诱导磁性金属或合金在电极对尖端处优先沉积与取向生长，获得磁性纳米间隙电极。
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公开(公告)号：CN1560904A
公开(公告)日：2005-01-05
申请号：CN200410014078.5
申请日：2004-02-17
Applicant: 东南大学
Abstract: 纳米间隙电极的制备方法是一种基于分子组装技术的制备纳米间隙电极的选择性化学沉积方法，其制备的方法为：首先，用传统光刻工艺制备出微米或亚微米间隙的原型电极；在上述电极表面采用分子组装技术获得双功能分子“X－R－Y”的单分子膜；再利用该单分子膜朝向外表面的活性端基Y化学吸附化学镀引发剂；继而在电极表面引发金属的选择性化学沉积，通过金属层在电极表面的自催化外延生长使原型电极的间隙从微米或亚微米级缩小到纳米级。方法操作简单、制造成本低廉，无须昂贵的设备投入就能非常简便地达到电极的纳米加工；是一种简便易行、成本低廉、易于推广的纳米间隙电极的制备方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1323635A
公开(公告)日：2001-11-28
申请号：CN01113643.X
申请日：2001-05-28
Applicant: 东南大学
IPC: A61L15/46
Abstract: 复合纳米材料的抗菌医用敷料是一种具有亲水和疏水功能同时具有高抗菌性能的医用敷料,该敷料由三层功能层和一层支撑层所组成,第一层为抗菌层,该层是将纱布层上通过自组装方法与纳米抗菌材料进行复合;第二层是亲水层,该层是将纱布通过热浸渍结合紫外光照的方法,将复合在纱布上的纳米材料作超亲水处理;第三层是疏水层,该层是具有可通透水气的多孔结构的高分子薄层,在该薄层上表面复合一层纳米材料,然后作超疏水处理,最外面是支撑层。
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公开(公告)号：CN1165347C
公开(公告)日：2004-09-08
申请号：CN01113643.X
申请日：2001-05-28
Applicant: 东南大学
IPC: A61L15/46
Abstract: 复合纳米材料的抗菌医用敷料是一种具有亲水和疏水功能同时具有高抗菌性能的医用敷料，该敷料由三层功能层和一层支撑层所组成，第一层为抗菌层，该层是将纱布层上通过自组装方法与纳米抗菌材料进行复合；第二层是亲水层，该层是将纱布通过热浸渍结合紫外光照的方法，将复合在纱布上的纳米材料作超亲水处理；第三层是疏水层，该层是具有可通透水气的多孔结构的高分子薄层，在该薄层上表面复合一层纳米材料，然后作超疏水处理，最外面是支撑层。
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公开(公告)号：CN1164373C
公开(公告)日：2004-09-01
申请号：CN02113026.4
申请日：2002-05-20
Applicant: 东南大学
IPC: B05D5/00 , B05D7/14 , B05D1/18 , C09D183/04
CPC classification number: B82Y30/00
Abstract: 有机超薄阻蚀膜的复合自组装方法是一种超薄膜制备方法，该方法以含Si-H键的有机聚硅氧烷作为分子自组装膜的主体成份，再以小分子化合物进行填入，自组装成致密有机超薄阻蚀层；具体的组装方法为：a、将金属基底进行预处理；b、在金属基底上自组装聚硅氧烷膜：将金属基底浸入以二对氯苯乙烯基二氯化铂或者二苯乙烯基二氯化铂作为铂金属有机促进剂的含Si-H键的有机聚硅氧烷组装液中进行自组装，c、填入小分子巯基化合物：将组装了Si-H键的有机聚硅氧烷薄膜的金属基底再浸入含小分子巯基化合物的组装液中12小时～24小时，通过巯基与金属基底的空位强烈的化学吸附作用进行填入式复合组装；其中，小分子巯基化合物为各种巯基烷烃衍生物HS(CH2)nR。
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公开(公告)号：CN1327894A
公开(公告)日：2001-12-26
申请号：CN01113644.8
申请日：2001-05-28
Applicant: 东南大学
Abstract: 以天然花粉为核心骨架的轻质金属微球的制备方法是一种以非金属物质为核心骨架的轻质金属微球的制备方法,制备的方法如下:①将花粉作表面活性处理,使原呈强亲油性的表面转变为亲水性;②用氯化亚锡胶体对上述花粉进行敏化处理,然后放入含钯活化液中活化处理,在花粉表面获一层钯的活性引发剂层;③将经过上述处理的花粉通过分散剂作用均匀分散于化学镀液中,然后进行化学镀包覆;④经纯化和筛分获得从天然花粉为核心骨架的轻质金属微球。
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公开(公告)号：CN1322855A
公开(公告)日：2001-11-21
申请号：CN01113578.6
申请日：2001-04-26
Applicant: 东南大学
IPC: C23C18/06 , H01L21/288 , H01L21/445
Abstract: 选择性化学镀制备纳米间隙电极的方法是一种制备纳米级电子器件的方法，第一步:通过一般的光刻技术加工出所需的双电极结构的器件,其中电极可为任意金属材料,基底为硅基材料;第二步:通过分子组装技术获得暴露的硅基材料表面的光敏薄层,通过浸涂工艺涂上一层化学镀引发剂层,通过显影工艺将已曝光的自组装光敏层去除,只留下金属材料表面的引发剂层;第三步:在调制引发剂层图形的基础上进行化学镀,获得纳米尺度间隙的双电极结构器件。
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