一种用于改善真空窗口元件激光诱发损伤的系统和方法

    公开(公告)号:CN109683309B

    公开(公告)日:2021-08-24

    申请号:CN201811486222.3

    申请日:2018-12-06

    Abstract: 本发明公开了一种用于改善真空窗口元件激光诱发损伤的系统和方法,属于高功率激光装置研究与设计领域。该系统沿光路方向依次包括:聚焦透镜(2)、真空窗口(3)、真空靶室(6)、第二屏蔽片(9)、第一屏蔽片(4);所述聚焦透镜(2)将入射主激光(1)汇聚于真空靶室(6)的焦平面(5)上,真空窗口(3)用于隔离靶室的真空环境(8)和终端系统的大气环境(7)。本发明提出的系统和方法实现了真空窗口多种需求的功能分离,从而可针对性地对真空窗口的使用环境进行管控;增加屏蔽片作为耗材承担真空面易损伤的特性,能将真空窗口和屏蔽片之间形成低压密闭动态的气体环境,可进一步提升真空窗口元件的使用寿命,为含真空腔体的光学和结构设计提供了技术指导。

    兼容多角度注入束靶耦合瞄准定位方法

    公开(公告)号:CN110070950B

    公开(公告)日:2020-08-11

    申请号:CN201910339735.X

    申请日:2019-04-25

    Abstract: 本发明公开了一种兼容多角度注入束靶耦合瞄准定位方法,包括:用主动靶作为中介传递目的弹着点和光斑位置信息;打靶前测量出实验靶的三维空间信息;将靶准直器定位于真空靶室中心后,利用靶准直器的视觉测量功能引导定位主动靶,使其中心与处于打靶位置时的实验靶的各个靶孔中心位置重合,并适当选取主动靶面朝向;再利用主动靶自身的成像功能,依次接收和引导各打靶瞄准光束,使其光斑与主动靶中心位置重合;从真空靶室中撤出主动靶,再利用靶准直器的视觉测量功能将实验靶定位至目标位置,完成束靶耦合步骤;最后撤出靶准直器,正式激光打靶。本发明通过事先精密测量,在线匹配复位的手段,换取了对实验靶精密机械加工和精密光学加工的需求。

    兼容多角度注入束靶耦合瞄准定位方法

    公开(公告)号:CN110070950A

    公开(公告)日:2019-07-30

    申请号:CN201910339735.X

    申请日:2019-04-25

    Abstract: 本发明公开了一种兼容多角度注入束靶耦合瞄准定位方法,包括:用主动靶作为中介传递目的弹着点和光斑位置信息;打靶前测量出实验靶的三维空间信息;将靶准直器定位于真空靶室中心后,利用靶准直器的视觉测量功能引导定位主动靶,使其中心与处于打靶位置时的实验靶的各个靶孔中心位置重合,并适当选取主动靶面朝向;再利用主动靶自身的成像功能,依次接收和引导各打靶瞄准光束,使其光斑与主动靶中心位置重合;从真空靶室中撤出主动靶,再利用靶准直器的视觉测量功能将实验靶定位至目标位置,完成束靶耦合步骤;最后撤出靶准直器,正式激光打靶。本发明通过事先精密测量,在线匹配复位的手段,换取了对实验靶精密机械加工和精密光学加工的需求。

    基于等离子体调控的光束焦斑整形及动态控制系统和方法

    公开(公告)号:CN109683327A

    公开(公告)日:2019-04-26

    申请号:CN201811486217.2

    申请日:2018-12-06

    CPC classification number: G02B27/0938 G02B27/0927

    Abstract: 本发明公开了一种基于等离子体调控的光束焦斑整形及动态控制系统和方法,属于激光光束控制技术领域。针对光束焦斑形态和尺寸有快速变化的动态需求,所述系统在光束聚焦的近场或准近场区域引入等离子体器件,利用等离子体的色散性质,通过对其密度和厚度进行调控,实现连续相位板的整形功能;利用等离子体的动态性质,通过其扩散和复合等物理效应形成动态波前的功能,实现光束焦斑的动态整形。本发明可实现焦斑形态的连续变化,整个过程且近场都具有能量全部使用和位相整体随机的特点,从而在整个动态过程中不影响光束性能;由于等离子体介质相对传统固体介质有极高的损伤阈值,可以应用在高功率/高能激光装置的任何位置,增强了方法应用的灵活性。

    一种基于发散光束的倍频晶体特征角度的测量装置和方法

    公开(公告)号:CN108168470A

    公开(公告)日:2018-06-15

    申请号:CN201810233020.1

    申请日:2018-03-21

    Abstract: 本发明公开了一种基于发散光束的倍频晶体特征角度的测量装置和测量方法。该装置由照明光源、定位基准元件、发散透镜、待测晶体、匹配透镜和CCD组成。用于照明的平行光束注入整个测量装置,经过定位基准元件、发散透镜后垂直入射到待测晶体表面。然后通过匹配透镜和CCD组成的光学系统将入射光成像于监视CCD上,通过CCD采集图像中的灰度值最大点的位置坐标来反推使倍频效率最大时对应的倍频晶体偏离准直位的夹角,从而得出倍频晶体的特征角度。本方法有效的解决了快速精确测量晶体特征角度的难题,消除了在测量过程中因为入射光束不稳定性引入的光束角漂对测试结果的影响,具有测量原理简单,操作简便等优点。

    一种用于靶点焦斑整形和光束匀滑的激光设备

    公开(公告)号:CN104102009B

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201410255412.X

    申请日:2014-06-10

    Abstract: 本发明公开了一种用于靶点焦斑整形和光束匀滑的激光设备,其特征在于,包括,入射激光束,凸透镜,相位板,靶面,相位板由单轴晶体构成,且相位板的前后表面与单轴晶体的光轴平行,且前后表面的其中一面,其上有使用已有技术刻蚀的连续相位板面形;入射激光束进入光路时与凸透镜表面垂直,其偏振方向与单轴晶体光轴夹45度角;相位板位于透镜和靶面之间并靠近透镜一侧,且其上刻蚀有连续相位板面形的一面与靶面相对。本发明在不降低激光驱动器性能的前提下,保留了焦斑整形和偏振匀滑的功能,取代了连续相位板和偏振匀滑晶体板的组合,相比以前的方法更加简洁;同时降低了光束通过光学元件的总厚度,可有效地降低光学元件的损伤风险。

    一种双路共用多程主放大系统

    公开(公告)号:CN104716556A

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201510106209.0

    申请日:2015-03-11

    Abstract: 本发明涉及高功率激光系统放大领域,尤其涉及一种双路共用多程主放大系统,包括:一组腔内放大器,其中心设置有第一空间滤波器;第一组助推放大器和第二组助推放大器,其以第一空间滤波器为对称中心设置;两束入射激光同时分别通过第一组助推放大器和第二组助推放大器的入口进入系统,并经腔内放大器多级放大后分别通过第二组助推放大器和第一组助推放大器的出口输出。还包括另一种系统,两束入射激光同时分别通过第一组助推放大器和第二组助推放大器的入口进入系统,并经腔内放大器多级放大后分别通过第一组助推放大器和第二组助推放大器的出口输出。本发明能够同时实现两束激光等效多程放大,在保证高能量和高质量输出的同时,显著降低成本。

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