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公开(公告)号:CN1332485C
公开(公告)日:2007-08-15
申请号:CN200380100294.5
申请日:2003-12-04
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: H01S5/028 , G02B1/02 , G02B5/1857 , G02B5/1871 , G02B27/1086
Abstract: 本发明以高效率、低成本提供一种实用的微型光发射器件,其在光输出面上具有光衍射膜。该光发射器件(LD)包括形成在其光输出面上的衍射膜(DF);该衍射膜包括一个透明DLC(似金刚石碳)层;并且,该DLC层包括一个折射率调制型衍射光栅,该衍射光栅包含具有相对较高折射率的局部区域和具有相对较低折射率的局部区域。
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公开(公告)号:CN101283453A
公开(公告)日:2008-10-08
申请号:CN200680037634.8
申请日:2006-07-13
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: H01L27/14627 , H01L27/14621
Abstract: 本发明公开一种固态成像装置,包括:多个光电二极管区域(2),其以阵列方式排列;不透光分界区域(6),其存在于每个光电二极管区域周围;以及微透镜阵列(8a),其包括与所述多个光电二极管区域对应地以阵列方式排列的多个微透镜;其中,每个微透镜用于使得朝向对应光电二极管区域周围的不透光分界区域直线传播的入射光会聚到所述光电二极管区域内,微透镜阵列是使用透光类金刚石碳(DLC)膜而形成的,所述DLC膜包括与各微透镜对应的折射率受调制的区域,当光束通过所述折射率受调制的区域时产生光会聚效应。
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公开(公告)号:CN101253426A
公开(公告)日:2008-08-27
申请号:CN200680032121.8
申请日:2006-08-25
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: G02B1/00 , G02B5/1857 , G02B6/1221 , Y10T428/24942
Abstract: 本发明涉及一种光学装置,该光学装置包括含有硅、氧、碳和氢作为主要成分的透明薄膜,其中所述薄膜包括具有较高折射率的局部区和具有较低折射率的局部区。
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公开(公告)号:CN1989069A
公开(公告)日:2007-06-27
申请号:CN200580024200.X
申请日:2005-04-28
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: G02B5/1866 , B01D53/228 , B01D67/002 , B01D67/0072 , B01D69/141 , B01D71/021 , B01D2323/34 , C01B32/05 , C23C14/0605 , C23C16/26
Abstract: 本发明提供了一种具有新颖性能的含氢碳膜。例如,可以有效地防止在基底上形成的该含氢碳膜从基底上剥离。该含氢碳膜含有碳和氢。一种该含氢碳膜的氢含量大于50原子%并且小于65原子%、该膜的密度大于1.3g/cm3并且小于1.5g/cm3。另一种该含氢碳膜的氢含量大于0原子%并且小于50原子%、该膜的密度大于1.4g/cm3并且小于1.9g/cm3。再一种所述的含氢碳膜可以包括其中氢含量高于50原子%的区域和其中氢含量低于50原子%的区域。
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公开(公告)号:CN1950733A
公开(公告)日:2007-04-18
申请号:CN200580008379.X
申请日:2005-03-11
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: G02B5/32 , G02B5/18 , G02F1/1335 , G02B5/20
Abstract: 本发明公开了一种全息滤色片,该滤色片具有这样的滤色片功能,即利用全息图将入射光波进行衍射分离,并将如此分离的具有不同波长的光波以特定空间周期投射到所需位置处。所述全息滤色片包括透光基板(21)和在所述基板上形成的透光类金刚石碳(DLC)膜(22)。在DLC膜中,较低衍射率带形区域(n1,22a)和较高衍射率带形区域(n2,22b)交替放置。
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公开(公告)号:CN101253426B
公开(公告)日:2010-11-03
申请号:CN200680032121.8
申请日:2006-08-25
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: G02B1/00 , G02B5/1857 , G02B6/1221 , Y10T428/24942
Abstract: 本发明涉及一种光学装置,该光学装置包括含有硅、氧、碳和氢作为主要成分的透明薄膜,其中所述薄膜包括具有较高折射率的局部区和具有较低折射率的局部区。
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公开(公告)号:CN101535177A
公开(公告)日:2009-09-16
申请号:CN200780041911.7
申请日:2007-10-31
Applicant: 住友电气工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种作为光学膜的含有Si-O的氢化碳膜,其对于波长为520nm的光的折射率为至少1.48到至多1.85,并且对于波长为248nm的光的消光系数小于0.15,其中,通过使用能量束照射,折射率和消光系数都降低。通过使用这种含有Si-O的氢化碳膜,可以提供包括该含有Si-O的氢化碳膜的各种光学元件和光学装置。
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公开(公告)号:CN101010604A
公开(公告)日:2007-08-01
申请号:CN200580029156.1
申请日:2005-07-06
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: G02B5/1857 , G02B3/0087
Abstract: 本发明提供一种具有光学元件的功能并且可以容易地小型化或集成化的DLC薄膜、以及用于形成该DLC薄膜的方法。一种DLC薄膜的折射率在该DLC薄膜的至少一个宽度方向上从该DLC薄膜的中心O开始连续变化。更具体地说,一种DLC薄膜的折射率在该DLC薄膜的至少一个宽度方向上从该DLC薄膜的中心O开始连续减小,从而该DLC薄膜具有凸透镜的功能。一种DLC薄膜的折射率在该DLC薄膜至少一个宽度方向上从该DLC薄膜的中心开始连续增大,从而该DLC薄膜具有凹透镜的功能。一种DLC薄膜的折射率在厚度方向上连续变化。另外,一种用于形成DLC薄膜的方法包括:用能量束照射该DLC薄膜,从而所述DLC薄膜的折射率在该DLC薄膜的至少一个宽度方向上从该DLC薄膜的中心开始连续地改变和/或在所述DLC薄膜的厚度方向上连续地改变。
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