膜形成方法、物品制造方法、供应设备、膜形成装置和基板

    公开(公告)号:CN116348207A

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN202180066711.7

    申请日:2021-09-03

    Inventor: 加藤顺

    Abstract: 在基板上形成膜的膜形成方法中,所述基板包括:包含第一凹陷部分和第二凹陷部分的区域,所述第一凹陷部分的宽度大于所述第二凹陷部分的宽度,并且所述膜形成方法包括:第一步骤,将第一材料选择性地供应到所述第一凹陷部分中,并对所述第一材料进行成型;以及第二步骤,将第二材料供应到所述区域上,并对所述第二材料进行成型,使得所述第二凹陷部分被所述第二材料填充,并且在整个所述区域上形成所述第二材料的平坦化膜。

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