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公开(公告)号:CN104339909A
公开(公告)日:2015-02-11
申请号:CN201410383990.1
申请日:2014-08-06
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/508 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质顺次包括基材、第一墨接收层和作为最表层的第二墨接收层,其中第一墨接收层为邻接第二墨接收层的层,第一墨接收层包含气相法二氧化硅,第二墨接收层包含胶体二氧化硅和树脂颗粒,且胶体二氧化硅存在于记录介质表面的面积为10%以上且70%以下。
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公开(公告)号:CN102248828B
公开(公告)日:2014-12-31
申请号:CN201110098408.3
申请日:2011-04-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/00
CPC classification number: B41M5/5245 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及喷墨记录介质。在具有至少两个墨接受层的喷墨记录介质中,接近支持基材的下层墨接受层的硼酸、硼酸盐和水溶性锆盐的总含量∶其氧化铝和水合氧化铝的总含量高于远离该支持基材的上层墨接受层的硼酸、硼酸盐和水溶性锆盐的总含量∶其氧化铝和水合氧化铝的总含量。本发明涉及的喷墨记录介质在改善墨吸收性、显色性和耐泛金光性的同时,抑制辊痕的产生和弯曲开裂的产生。
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公开(公告)号:CN102336083B
公开(公告)日:2014-01-22
申请号:CN201110196315.4
申请日:2011-07-14
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/52 , B41M5/5227 , B41M5/5254
Abstract: 记录介质在基材上包括墨接受层,其中该墨接受层含有水合氧化铝、C1-4烷基磺酸和通式(1):X1-R1-(S)n-R2-X2的化合物的盐,其中n表示1或2;X1和X2各自独立地表示H、NH2或COOH,并且X1和X2的至少一个表示NH2或COOH;R1和R2各自独立地表示亚烷基、亚芳基或亚杂芳基,并且它们可彼此键合以形成环,设C1-4烷基磺酸的比例为A质量%,相对于水合氧化铝时,A在1.0-2.0的范围内,并且设通式(1)的化合物的盐的比例为B质量%,相对于水合氧化铝时,B在0.5-5.0的范围内。
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公开(公告)号:CN103358746A
公开(公告)日:2013-10-23
申请号:CN201310112098.5
申请日:2013-04-02
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/529 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5245 , B41M5/5254 , B41M5/5263
Abstract: 本发明涉及记录介质。一种记录介质,其包括支承体和墨接受层。所述墨接受层包括无机颗粒、粘结剂、聚(二烯丙基二甲基胺盐酸盐)、具有磺酰基的阳离子性聚合物和多价金属。
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公开(公告)号:CN103085521A
公开(公告)日:2013-05-08
申请号:CN201210418338.X
申请日:2012-10-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5227 , B41M5/5254 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及一种记录介质,其依次包括支持体、第一墨接收层和第二墨接收层,其中该第一墨接收层包含选自氧化铝、氧化铝水合物和气相法二氧化硅的至少一种、聚乙烯醇和硼酸,其中第一墨接收层中的硼酸的含量与第一墨接收层中的聚乙烯醇的含量的质量比为2.0质量%以上且7.0质量%以下,其中该第二墨接收层包含气相法二氧化硅、聚乙烯醇和硼酸,其中第二墨接收层中的硼酸的含量与第二墨接收层中的聚乙烯醇的含量的质量比为10.0质量%以上且30.0质量%以下。
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公开(公告)号:CN103085521B
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:CN201210418338.X
申请日:2012-10-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5227 , B41M5/5254 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及一种记录介质,其依次包括支持体、第一墨接收层和第二墨接收层,其中该第一墨接收层包含选自氧化铝、氧化铝水合物和气相法二氧化硅的至少一种、聚乙烯醇和硼酸,其中第一墨接收层中的硼酸的含量与第一墨接收层中的聚乙烯醇的含量的质量比为2.0质量%以上且7.0质量%以下,其中该第二墨接收层包含气相法二氧化硅、聚乙烯醇和硼酸,其中第二墨接收层中的硼酸的含量与第二墨接收层中的聚乙烯醇的含量的质量比为10.0质量%以上且30.0质量%以下。
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公开(公告)号:CN104339910A
公开(公告)日:2015-02-11
申请号:CN201410384073.5
申请日:2014-08-06
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/502 , B41M5/52 , B41M5/5227
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。一种记录介质,其具有基材和墨接收层,其中所述墨接收层含有胶体二氧化硅、锆化合物、铵盐和羟基羧酸,并且包含于所述墨接收层中的所述胶体二氧化硅的90%以上存在于距离所述记录介质的最外表面沿深度方向0nm以上且300nm以下的区域。
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公开(公告)号:CN104228387A
公开(公告)日:2014-12-24
申请号:CN201410282900.X
申请日:2014-06-23
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/502 , B41M5/504 , B41M5/506 , B41M5/508 , B41M5/52 , B41M5/5254
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括基材和墨接收层。所述墨接收层包含氧化铝颗粒、二氧化硅颗粒和粘结剂。当从表面侧向基材侧进行蚀刻时,通过X射线光电子光谱法进行的记录介质的组成分析提供,在0分钟的蚀刻时间时Si元素的存在量相对于Al元素与Si元素的合计存在量的比例为10原子%-90原子%,和在5分钟的蚀刻时间时Si元素的存在量相对于Al元素与Si元素的合计存在量的比例为50原子%以上。
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公开(公告)号:CN103129200B
公开(公告)日:2014-12-24
申请号:CN201210465892.3
申请日:2012-11-16
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/00
CPC classification number: B41M5/508 , B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及记录介质。所述记录介质依次包括支持体、第一墨接收层和第二墨接收层,其中第一墨接收层中硼酸的含量相对于第一墨接收层中聚乙烯醇的含量为2.0质量%以上且7.0质量%以下,第二墨接收层中硼酸的含量相对于第二墨接收层中聚乙烯醇的含量为10.0质量%以上且30.0质量%以下,记录介质的最外表面层具有相对于无机颜料的含量为0.5质量%以上且5.0质量%以下的颗粒含量,所述颗粒具有1.0μm以上且20.0μm以下的平均二次粒径。
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公开(公告)号:CN102785500B
公开(公告)日:2014-07-23
申请号:CN201210153337.7
申请日:2012-05-17
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/52
CPC classification number: B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5227 , B41M5/5245 , B41M5/5254 , B41M5/5281
Abstract: 本发明涉及一种喷墨记录介质。喷墨记录介质包括支持体和墨接收层,所述墨接收层设置在所述支持体上并且包含氧化铝颜料和碳数为1以上至4以下的烷基磺酸。所述墨接收层进一步包含高分子化合物、水溶性锆化合物和硼酸或硼酸盐。所述高分子化合物是通过将生成物的至少一个氨基用酸阳离子化而获得的高分子化合物,所述生成物通过至少3种化合物的反应获得,所述3种化合物即,(i)包含2个以上活性氢原子的含硫有机化合物,(ii)包含2个以上异氰酸酯基的多异氰酸酯化合物,和(iii)包含2个以上活性氢原子的胺化合物。
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