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公开(公告)号：CN102248828A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201110098408.3
申请日：2011-04-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/00
CPC classification number: B41M5/5245 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254 , B41M2205/42
Abstract: 在具有至少两个墨接受层的喷墨记录介质中，接近支持基材的下层墨接受层的硼酸、硼酸盐和水溶性锆盐的总含量：其氧化铝和水合氧化铝的总含量高于远离该支持基材的上层墨接受层的硼酸、硼酸盐和水溶性锆盐的总含量：其氧化铝和水合氧化铝的总含量。
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公开(公告)号：CN103223796B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201310036568.4
申请日：2013-01-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/506 , B41M5/502 , B41M5/504 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括基材和至少一层墨接收层。其中作为墨接收层的一层的第一墨接收层包含平均一次粒径为1μm以下的无机颗粒和涂布有金属氧化物的无机颗粒。所述涂布有金属氧化物的无机颗粒具有15.0μm以上的平均一次粒径。当记录介质的FLOP值的最大值由FLOPMax表示和FLOP值的最小值由FLOPMin表示时，FLOPMin为2.5以上和FLOPMin/FLOPMax值为0.80以上且1.00以下。
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公开(公告)号：CN103568617B
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201310344109.2
申请日：2013-08-08
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及记录介质。一种记录介质依次包括支持体、包含第一无机颗粒和第一粘结剂的第一墨接收层、包含第二无机颗粒和第二粘结剂的第二墨接收层以及作为最外表面层并包含第三无机颗粒、第三粘结剂和不同于所述第三无机颗粒且具有1.0至20.0μm的平均二次粒径的颗粒的第三墨接收层。所述第一粘结剂的含量与所述第一无机颗粒的含量的质量比大于第二粘结剂的含量与第二无机颗粒的含量的质量比。所述具有特定平均二次粒径的颗粒的含量相对于所述第三无机颗粒的含量为0.5质量%以上。
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公开(公告)号：CN102632736B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201210031509.3
申请日：2012-02-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/508 , B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254 , B41M2205/38
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括支持体和墨接收层，所述墨接收层具有下层和上层，其中所述下层包含无机细颗粒、聚乙烯醇和硼酸，所述无机细颗粒包括选自氧化铝、水合氧化铝和气相法二氧化硅中的至少一种化合物，其中所述上层包含无机细颗粒、聚乙烯醇和硼酸，所述无机细颗粒包括选自氧化铝和水合氧化铝中的至少一种化合物，其中所述下层具有相对于聚乙烯醇为2.0质量％至7.0质量％的硼酸含量，和其中所述上层具有相对于聚乙烯醇为10.0质量％至30.0质量％的硼酸含量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103223796A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201310036568.4
申请日：2013-01-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/506 , B41M5/502 , B41M5/504 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括基材和至少一层墨接收层。其中作为墨接收层的一层的第一墨接收层包含平均一次粒径为1μm以下的无机颗粒和涂布有金属氧化物的无机颗粒。所述涂布有金属氧化物的无机颗粒具有15.0μm以上的平均一次粒径。当记录介质的FLOP值的最大值由FLOPMax表示和FLOP值的最小值由FLOPMin表示时，FLOPMin为2.5以上和FLOPMin/FLOPMax值为0.80以上且1.00以下。
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公开(公告)号：CN102632736A
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN201210031509.3
申请日：2012-02-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/508 , B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254 , B41M2205/38
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括支持体和墨接收层，所述墨接收层具有下层和上层，其中所述下层包含无机细颗粒、聚乙烯醇和硼酸，所述无机细颗粒包括选自氧化铝、水合氧化铝和气相法二氧化硅中的至少一种化合物，其中所述上层包含无机细颗粒、聚乙烯醇和硼酸，所述无机细颗粒包括选自氧化铝和水合氧化铝中的至少一种化合物，其中所述下层具有相对于聚乙烯醇为2.0质量％至7.0质量％的硼酸含量，和其中所述上层具有相对于聚乙烯醇为10.0质量％至30.0质量％的硼酸含量。
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公开(公告)号：CN103085521B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201210418338.X
申请日：2012-10-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5227 , B41M5/5254 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及一种记录介质，其依次包括支持体、第一墨接收层和第二墨接收层，其中该第一墨接收层包含选自氧化铝、氧化铝水合物和气相法二氧化硅的至少一种、聚乙烯醇和硼酸，其中第一墨接收层中的硼酸的含量与第一墨接收层中的聚乙烯醇的含量的质量比为2.0质量%以上且7.0质量%以下，其中该第二墨接收层包含气相法二氧化硅、聚乙烯醇和硼酸，其中第二墨接收层中的硼酸的含量与第二墨接收层中的聚乙烯醇的含量的质量比为10.0质量%以上且30.0质量%以下。
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公开(公告)号：CN104339910A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201410384073.5
申请日：2014-08-06
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/502 , B41M5/52 , B41M5/5227
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。一种记录介质，其具有基材和墨接收层，其中所述墨接收层含有胶体二氧化硅、锆化合物、铵盐和羟基羧酸，并且包含于所述墨接收层中的所述胶体二氧化硅的90％以上存在于距离所述记录介质的最外表面沿深度方向0nm以上且300nm以下的区域。
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公开(公告)号：CN104228387A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201410282900.X
申请日：2014-06-23
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/502 , B41M5/504 , B41M5/506 , B41M5/508 , B41M5/52 , B41M5/5254
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括基材和墨接收层。所述墨接收层包含氧化铝颗粒、二氧化硅颗粒和粘结剂。当从表面侧向基材侧进行蚀刻时，通过X射线光电子光谱法进行的记录介质的组成分析提供，在0分钟的蚀刻时间时Si元素的存在量相对于Al元素与Si元素的合计存在量的比例为10原子％-90原子％，和在5分钟的蚀刻时间时Si元素的存在量相对于Al元素与Si元素的合计存在量的比例为50原子％以上。
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