-
公开(公告)号:CN105437809B
公开(公告)日:2018-07-13
申请号:CN201510616908.X
申请日:2015-09-24
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/40
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/508 , B41M5/52 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及记录介质。记录介质包括基材和第一墨接收层。所述第一墨接收层包含平均粒径为1.0μm以上的无定形二氧化硅,和平均粒径为50nm以下的无机颗粒。所述第一墨接收层中的无定形二氧化硅的含量基于所有无机颗粒的总含量为30质量%以上且95质量%以下。
-
公开(公告)号:CN105437814B
公开(公告)日:2018-04-06
申请号:CN201510616917.9
申请日:2015-09-24
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/508 , B41M5/52 , B41M2205/38 , B41M2205/42
Abstract: 本发明提供记录介质。记录介质依次包括基材、第一墨接收层、和作为最表层的第二墨接收层。第一墨接收层包含平均粒径为1.0μm以上的无定形二氧化硅。第二墨接收层包含胶体二氧化硅。第二墨接收层的表面的JIS B0601:2001中规定的粗糙度轮廓单元的均方根斜率RΔq为0.3以上。
-
公开(公告)号:CN104553424B
公开(公告)日:2017-04-12
申请号:CN201410562152.0
申请日:2014-10-21
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/00 , B05D1/28 , B05D1/38 , C09D129/04 , C09D7/12
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/506 , B41M5/508 , B41M5/5227 , B41M5/5254 , B41M2205/42 , C04B41/009 , C04B41/45 , C04B41/5031 , C04B41/5036 , C04B41/52
Abstract: 本发明涉及记录介质和记录介质的制造方法。一种记录介质,其依次包括基材,包含无机颗粒、聚乙烯醇和硼酸化合物的第一墨接收层,以及包含树脂的树脂层。在第一墨接收层中,水合氧化铝占无机颗粒的70质量%以上。在记录介质中,硼酸化合物含量与聚乙烯醇含量的比例为30质量%以上。
-
公开(公告)号:CN102248828A
公开(公告)日:2011-11-23
申请号:CN201110098408.3
申请日:2011-04-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/00
CPC classification number: B41M5/5245 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254 , B41M2205/42
Abstract: 在具有至少两个墨接受层的喷墨记录介质中,接近支持基材的下层墨接受层的硼酸、硼酸盐和水溶性锆盐的总含量:其氧化铝和水合氧化铝的总含量高于远离该支持基材的上层墨接受层的硼酸、硼酸盐和水溶性锆盐的总含量:其氧化铝和水合氧化铝的总含量。
-
公开(公告)号:CN105437814A
公开(公告)日:2016-03-30
申请号:CN201510616917.9
申请日:2015-09-24
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/508 , B41M5/52 , B41M2205/38 , B41M2205/42
Abstract: 本发明提供记录介质。记录介质依次包括基材、第一墨接收层、和作为最表层的第二墨接收层。第一墨接收层包含平均粒径为1.0μm以上的无定形二氧化硅。第二墨接收层包含胶体二氧化硅。第二墨接收层的表面的JIS B0601:2001中规定的粗糙度轮廓单元的均方根斜率RΔq为0.3以上。
-
公开(公告)号:CN102248828B
公开(公告)日:2014-12-31
申请号:CN201110098408.3
申请日:2011-04-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/00
CPC classification number: B41M5/5245 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及喷墨记录介质。在具有至少两个墨接受层的喷墨记录介质中,接近支持基材的下层墨接受层的硼酸、硼酸盐和水溶性锆盐的总含量∶其氧化铝和水合氧化铝的总含量高于远离该支持基材的上层墨接受层的硼酸、硼酸盐和水溶性锆盐的总含量∶其氧化铝和水合氧化铝的总含量。本发明涉及的喷墨记录介质在改善墨吸收性、显色性和耐泛金光性的同时,抑制辊痕的产生和弯曲开裂的产生。
-
公开(公告)号:CN102336083B
公开(公告)日:2014-01-22
申请号:CN201110196315.4
申请日:2011-07-14
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/52 , B41M5/5227 , B41M5/5254
Abstract: 记录介质在基材上包括墨接受层,其中该墨接受层含有水合氧化铝、C1-4烷基磺酸和通式(1):X1-R1-(S)n-R2-X2的化合物的盐,其中n表示1或2;X1和X2各自独立地表示H、NH2或COOH,并且X1和X2的至少一个表示NH2或COOH;R1和R2各自独立地表示亚烷基、亚芳基或亚杂芳基,并且它们可彼此键合以形成环,设C1-4烷基磺酸的比例为A质量%,相对于水合氧化铝时,A在1.0-2.0的范围内,并且设通式(1)的化合物的盐的比例为B质量%,相对于水合氧化铝时,B在0.5-5.0的范围内。
-
公开(公告)号:CN103085521A
公开(公告)日:2013-05-08
申请号:CN201210418338.X
申请日:2012-10-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5227 , B41M5/5254 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及一种记录介质,其依次包括支持体、第一墨接收层和第二墨接收层,其中该第一墨接收层包含选自氧化铝、氧化铝水合物和气相法二氧化硅的至少一种、聚乙烯醇和硼酸,其中第一墨接收层中的硼酸的含量与第一墨接收层中的聚乙烯醇的含量的质量比为2.0质量%以上且7.0质量%以下,其中该第二墨接收层包含气相法二氧化硅、聚乙烯醇和硼酸,其中第二墨接收层中的硼酸的含量与第二墨接收层中的聚乙烯醇的含量的质量比为10.0质量%以上且30.0质量%以下。
-
公开(公告)号:CN103223796B
公开(公告)日:2015-07-08
申请号:CN201310036568.4
申请日:2013-01-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/506 , B41M5/502 , B41M5/504 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括基材和至少一层墨接收层。其中作为墨接收层的一层的第一墨接收层包含平均一次粒径为1μm以下的无机颗粒和涂布有金属氧化物的无机颗粒。所述涂布有金属氧化物的无机颗粒具有15.0μm以上的平均一次粒径。当记录介质的FLOP值的最大值由FLOPMax表示和FLOP值的最小值由FLOPMin表示时,FLOPMin为2.5以上和FLOPMin/FLOPMax值为0.80以上且1.00以下。
-
公开(公告)号:CN103568617B
公开(公告)日:2015-06-10
申请号:CN201310344109.2
申请日:2013-08-08
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及记录介质。一种记录介质依次包括支持体、包含第一无机颗粒和第一粘结剂的第一墨接收层、包含第二无机颗粒和第二粘结剂的第二墨接收层以及作为最外表面层并包含第三无机颗粒、第三粘结剂和不同于所述第三无机颗粒且具有1.0至20.0μm的平均二次粒径的颗粒的第三墨接收层。所述第一粘结剂的含量与所述第一无机颗粒的含量的质量比大于第二粘结剂的含量与第二无机颗粒的含量的质量比。所述具有特定平均二次粒径的颗粒的含量相对于所述第三无机颗粒的含量为0.5质量%以上。
-
-
-
-
-
-
-
-
-