光提取结构、发光基板和图像显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN102412107A

    公开(公告)日:2012-04-11

    申请号:CN201110267992.0

    申请日:2011-09-13

    CPC classification number: H01J9/20

    Abstract: 本发明涉及光提取结构、发光基板和图像显示装置的制造方法。光提取结构可有效地提取从发光层发射的光。将捕获层形成于在基板上形成的第一半透明材料膜上。通过将粒子分散到分散介质中获得的分散液被涂敷到捕获层上。分散介质被挥发。将粒子沉积层形成于捕获层上。沉积层的最下层中的粒子以对于2维最密充填为93%或更大的填充率被捕获到捕获层中。未捕获的粒子被去除。通过使用捕获的粒子作为掩模来执行蚀刻。在第一半透明材料膜中形成凹部。在蚀刻之后保留的粒子和捕获层被去除。之后,用具有不同折射率的第二半透明材料嵌入凹部。

    记录方法、记录设备和记录物

    公开(公告)号:CN110962485A

    公开(公告)日:2020-04-07

    申请号:CN201910923509.6

    申请日:2019-09-27

    Abstract: 本发明涉及记录方法、记录设备和记录物。一种记录方法,其包括将第一墨施加至记录介质的步骤;和通过施加第二墨使得第二墨与施加有第一墨的区域至少部分地重叠而在记录介质上记录图像的步骤。第一墨为包含银颗粒的水性墨。第二墨为包含着色材料的水性墨。记录介质具有包含选自由溴化物离子和碘化物离子组成的组的卤化物离子的墨接收层。墨接收层具有0.1mmol/m2以上且0.8mmol/m2以下的卤化物离子的含量。

    记录介质
    13.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103507463B

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201310258590.3

    申请日:2013-06-26

    Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括原纸、配置于所述原纸上的聚合物层和配置于所述聚合物层上的墨接收层。所述原纸具有50μm以上且130μm以下的厚度。所述聚合物层具有20μm以上且60μm以下的厚度。聚合物层具有0.12μm以上且0.18μm以下的算术平均表面粗糙度Ra1。聚合物层具有0.01mm以上和0.20mm以下的粗糙度曲线要素平均长度RSm。记录介质具有0.13μm以下的算术平均表面粗糙度Ra2。

    记录介质
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104228387A

    公开(公告)日:2014-12-24

    申请号:CN201410282900.X

    申请日:2014-06-23

    Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括基材和墨接收层。所述墨接收层包含氧化铝颗粒、二氧化硅颗粒和粘结剂。当从表面侧向基材侧进行蚀刻时,通过X射线光电子光谱法进行的记录介质的组成分析提供,在0分钟的蚀刻时间时Si元素的存在量相对于Al元素与Si元素的合计存在量的比例为10原子%-90原子%,和在5分钟的蚀刻时间时Si元素的存在量相对于Al元素与Si元素的合计存在量的比例为50原子%以上。

    记录介质
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103568617A

    公开(公告)日:2014-02-12

    申请号:CN201310344109.2

    申请日:2013-08-08

    CPC classification number: B41M5/502 B41M5/506 B41M5/52 B41M5/5218 B41M2205/42

    Abstract: 本发明涉及记录介质。一种记录介质依次包括支持体、包含第一无机颗粒和第一粘结剂的第一墨接收层、包含第二无机颗粒和第二粘结剂的第二墨接收层以及作为最外表面层并包含第三无机颗粒、第三粘结剂和不同于所述第三无机颗粒且具有1.0至20.0μm的平均二次粒径的颗粒的第三墨接收层。所述第一粘结剂的含量与所述第一无机颗粒的含量的质量比大于第二粘结剂的含量与第二无机颗粒的含量的质量比。所述具有特定平均二次粒径的颗粒的含量相对于所述第三无机颗粒的含量为0.5质量%以上。

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