公开(公告)号：CN112979458B

公开(公告)日：2023-08-25

申请号：CN202011462505.1

申请日：2020-12-11

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 藤原敬之 ,  渡边朝美 ,  片山和弘

IPC: C07C59/68 ,  C07C65/21 ,  C07C59/66 ,  C07C59/90 ,  C07C51/41 ,  C07C381/12 ,  C07D333/74 ,  C07C69/92 ,  C07C69/76 ,  C07C309/75 ,  C07C69/757 ,  C07D335/02 ,  C07D307/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。