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公开(公告)号：CN117384130A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202310849357.6
申请日：2023-07-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D333/76 , C07D333/54 , C07D327/08 , C07C381/12 , C07C211/63 , C07C25/18 , C07C65/26 , C07C65/24 , C07C69/96 , G03F7/20 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039
Abstract: 本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明提供于光刻中，正型、负型皆为高感度且分辨性优异、LWR、CDU有所改善且能抑制抗蚀剂图案崩塌的抗蚀剂组成物使用的新颖鎓盐。一种鎓盐，其特征为以下列通式(1)表示。式中，RALU表示和相邻的氧原子一起形成的具有环状结构的叔醚、叔碳酸酯、或缩醛中的任一者。RF为氟原子、碳数1～6的含氟烷基、硝基中的任一者。又，Ra为碳数1～20的烃基。n1为0或1的整数。n2及n3为1或2的整数。RF与‑O‑RALU中的各1个键结于互相相邻的碳原子。n4为0～3的整数。Z+表示鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN112979458B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202011462505.1
申请日：2020-12-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C59/68 , C07C65/21 , C07C59/66 , C07C59/90 , C07C51/41 , C07C381/12 , C07D333/74 , C07C69/92 , C07C69/76 , C07C309/75 , C07C69/757 , C07D335/02 , C07D307/00 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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公开(公告)号：CN111440104A
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN202010046427.0
申请日：2020-01-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D307/33 , C07D307/93 , C07D327/06 , C07D333/76 , C07D495/08 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖鎓盐，其是在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、曝光裕度、掩膜误差因子、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用；并提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种鎓盐，是以下式(1)表示的。
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公开(公告)号：CN105717744B
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201510955723.1
申请日：2015-12-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/38 , C07C69/533 , C07C69/54
Abstract: 提供具有多个叔醇羟基的单体。通过将该单体聚合而得到的有用的聚合物。由包含该聚合物的抗蚀剂组合物，以高分辨率形成在碱显影剂中不可溶并且具有高耐蚀刻性的负型图案。
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公开(公告)号：CN108623506A
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201810234145.6
申请日：2018-03-21
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C309/12 , C07C309/30 , C07C309/31 , C07C303/32 , C07C59/115 , C07C51/41 , C07D335/02 , C07D333/46 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/039 , C07C381/12 , C08K5/098 , C08K5/42 , C08L33/06 , G03F7/0048 , G03F7/029 , G03F7/2059
Abstract: 本发明提供一种锍盐，其中，通过将其用作光产酸剂，在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，能够提供缺陷少且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物。所述锍盐含有阴离子及阳离子，所述阳离子具有下述通式(1)所示的局部结构。其中，排除具有下述通式(1’)所示的阳离子的锍盐。[化学式1][化学式2]
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116068854A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202211358180.1
申请日：2022-11-01
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及分子抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，感度、解析性及LWR优良的分子抗蚀剂组成物、以及使用该分子抗蚀剂组成物的图案形成方法。解决手段是一种分子抗蚀剂组成物，含有下式(1)或(2)表示的锍盐及有机溶剂，且不含有基础聚合物。
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公开(公告)号：CN109324478B
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN201810854838.5
申请日：2018-07-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案形成方法。包含经由连接基键合至聚合物骨架的具有在侧链端的高度稠合的高金刚烷骨架的单元的聚合物具有适当的溶剂溶解度并且能够抑制酸扩散。包含所述聚合物和特定的光致产酸剂的抗蚀剂组合物显示出良好的DOF边限、CD均匀性和在PPD期间最小的CD改变，并且在精确微图案化方面相当有效。
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公开(公告)号：CN111793054A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN202010256383.4
申请日：2020-04-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D319/06 , C07D321/06 , C07C381/12 , C07C309/12 , C07D333/48 , C07D307/00 , C07D317/18 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及锍化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖锍化合物，其是在以高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、各种光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的；并提供含有该锍化合物作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明提供一种锍化合物，以下式(A)表示；以及提供一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有由前述锍化合物构成的光酸产生剂及基础树脂。
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公开(公告)号：CN109725015A
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201811256005.5
申请日：2018-10-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种用于抗蚀剂的品质管理及探明不良产生时的早期原因的简便的经机械化的解析方法。本发明提供一种抗蚀剂的品质管理方法，其特征在于，包括：(1)对抗蚀剂进行前处理，得到分析样本的工序；(2)将所述分析样本供于机器分析，得到分析结果的工序；(3)将所述分析结果变换为数值数据，进行多变量解析的工序；以及(4)由得到的解析结果对品质进行管理的工序。
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公开(公告)号：CN109426080A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810957182.X
申请日：2018-08-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , C08F220/28 , C08F220/20 , C08F220/38 , C07C67/297 , C07C69/54 , C07D493/08 , C07D493/18 , C07D307/00
Abstract: 本发明为单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。提供了具有在酸的作用下能够极性转换的取代基的单体和聚合物。包含所述聚合物的抗蚀剂组合物以高分辨率形成不溶于碱性显影剂中并且具有高的耐蚀刻性的负型图案。
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