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公开(公告)号：CN119310796A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202410918861.1
申请日：2024-07-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C381/12 , C07D333/76 , C07C309/42 , C07D333/54 , C07D307/00 , C07C25/18 , G03F7/00
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供可为正型亦可为负型，具有高感度，LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料，以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是包含含有下式(1)表示的鎓盐的酸产生剂的抗蚀剂材料。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118005520A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202311472011.5
申请日：2023-11-07
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C219/14 , C07D203/08 , C07D295/088 , C07D493/08 , C07D495/08 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及胺化合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供为正型、负型皆是高感度，且能改善LWR、CDU的化学增幅抗蚀剂组成物、该化学增幅抗蚀剂组成物使用的淬灭剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。下式(1)表示的胺化合物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118812364A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410467762.6
申请日：2024-04-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C69/92 , G03F7/004 , C07C69/90 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07D333/76
Abstract: 本发明涉及单体、抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供优于已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且边缘粗糙度、尺寸变异小，且曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料，以及为前述抗蚀剂材料的原料的单体、含有前述抗蚀剂材料的抗蚀剂组成物、及图案形成方法。该课题的解决手段是一种单体，其特征为：以下述通式(a)‑1M或(a)‑2M表示。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116425626A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202211683249.8
申请日：2022-12-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C65/21 , G03F7/00 , G03F7/004 , C07C65/24 , C07D305/06 , C07C59/70 , C07C311/51 , C07C311/09 , C07C69/63 , C07C69/75 , C07C69/753 , C07C69/16 , C07C381/12 , C07D333/08 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07D327/08 , C07D335/16 , C07D279/20 , C07D333/76 , C07D339/08 , C07C25/18 , C07C69/76 , C07C69/712 , C07C43/225 , C07C39/367
Abstract: 本发明涉及盐化合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中不损及感度且CDU、LWR等光刻性能优异的抗蚀剂组成物、使用于其中的酸扩散抑制剂、以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为提供下式(1)或(2)表示的盐化合物、由该盐化合物构成的酸扩散抑制剂、以及包含该酸扩散抑制剂的抗蚀剂组成物。
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公开(公告)号：CN119270589A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202410882572.0
申请日：2024-07-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀材料和图案形成方法。[课题]提供灵敏度高且LWR、CDU得以改善的抗蚀材料和使用其的图案形成方法。[解决手段]一种抗蚀材料，其包含含有重复单元a的基础聚合物，所述重复单元a由取代或非取代的芳基磺酸阴离子和鎓阳离子形成，所述取代或非取代的芳基磺酸阴离子键合于具有包含碘原子或溴原子的基团的聚合物主链。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118812766A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410467831.3
申请日：2024-04-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F220/18 , C07C69/54 , C07C69/76 , C07C69/84 , C07C69/90 , C07C69/92 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07C309/73 , C07D333/76 , C08F212/14 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/039 , C08F220/38
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、图案形成方法、及单体。本发明的课题为提供超过已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且边缘粗糙度、尺寸变异小，曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料，以及提供含有前述抗蚀剂材料的抗蚀剂组成物、图案形成方法、及为前述抗蚀剂材料的原料的单体。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，其特征为：含有含自聚合物主链间隔酯键而键结的有取代或无取代的经碘化的1价芳香族羧酸的锍盐或錪盐的重复单元a。
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公开(公告)号：CN112979458A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202011462505.1
申请日：2020-12-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C59/68 , C07C65/21 , C07C59/66 , C07C59/90 , C07C51/41 , C07C381/12 , C07D333/74 , C07C69/92 , C07C69/76 , C07C309/75 , C07C69/757 , C07D335/02 , C07D307/00 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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公开(公告)号：CN118818895A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410458885.3
申请日：2024-04-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供优于已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且边缘粗糙度、尺寸变异小，且曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料，以及使用了前述抗蚀剂材料的抗蚀剂组成物、及图案形成方法。该课题的解决手段是一种抗蚀剂材料，含有：在聚合物主链与羧酸盐之间含有至少1个以上的碘原子的重复单元a，及键结于聚合物主链的磺酸的锍盐或錪盐的重复单元b。
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公开(公告)号：CN117586162A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311025714.3
申请日：2023-08-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/004 , C07D333/76 , C07D327/08 , C07D333/54 , C07D307/00 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07C25/18 , C07C17/00
Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的目的在于提供于使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度、曝光余裕度、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物使用的鎓盐、含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种下式(1)表示的鎓盐。
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公开(公告)号：CN117384130A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202310849357.6
申请日：2023-07-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D333/76 , C07D333/54 , C07D327/08 , C07C381/12 , C07C211/63 , C07C25/18 , C07C65/26 , C07C65/24 , C07C69/96 , G03F7/20 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039
Abstract: 本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明提供于光刻中，正型、负型皆为高感度且分辨性优异、LWR、CDU有所改善且能抑制抗蚀剂图案崩塌的抗蚀剂组成物使用的新颖鎓盐。一种鎓盐，其特征为以下列通式(1)表示。式中，RALU表示和相邻的氧原子一起形成的具有环状结构的叔醚、叔碳酸酯、或缩醛中的任一者。RF为氟原子、碳数1～6的含氟烷基、硝基中的任一者。又，Ra为碳数1～20的烃基。n1为0或1的整数。n2及n3为1或2的整数。RF与‑O‑RALU中的各1个键结于互相相邻的碳原子。n4为0～3的整数。Z+表示鎓阳离子。
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