一种微结构阵列的多层材料搅拌头制备方法

    公开(公告)号:CN114986092B

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN202210582012.4

    申请日:2022-05-26

    Abstract: 一种微结构阵列的多层材料搅拌头制备方法,其特征是它包括以下步骤:首先,对搅拌头内芯的轴肩及搅拌针表面预置的内外层不同组分Ni60/WC粉末施加振动方式以形成梯度界面混合,并采用粉末压制及高温烧结方式将Ni60和WC冶金结合在轴肩和搅拌针表面上,使搅拌头的强度、耐磨性、耐高温性得到大幅提升,一定程度上延长了搅拌头的使用寿命,制备过程操作步骤简单而且效果好;通过激光熔覆方法在轴肩下表面和搅拌针底部制备微结构圆弧状凸起阵列,以增加轴肩与加工工件表面的接触面积,提高搅拌摩擦焊过程中的热量输入,一定程度使得材料流动更充分,减少轴肩的磨损和孔洞型缺陷的出现,提升焊接质量和效率。

    一种多靶共沉积的磁过滤镀膜装置

    公开(公告)号:CN116497326A

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN202310398569.7

    申请日:2023-04-14

    Abstract: 一种多靶共沉积的磁过滤镀膜装置,包括:第一阴极电弧源和第二阴极电弧源,所述第一阴极电弧源和第二阴极电弧源分别包含第一靶材和第二靶材,所述第一靶材和第二靶材外围均设有绝缘材料,所述绝缘材料用于防止次放电现;T型磁过滤弯管,所述T型磁过滤弯管入口两端分别与所述第一阴极电弧源和第二阴极电弧源的前端相连接,出口端与真空镀膜腔室的内腔体相连接;真空镀膜腔室室内为真空状态,且包含待镀膜的衬底,所述衬底与阳极源相连接,所述阳极源与负脉冲偏压相连接。本发明通过控制线圈模组中的电流,能够实现单靶材高效沉积以及多靶材共同沉积,结构简单、控制灵活、镀膜效率高、满足多元多层复合涂层制备需求。

    一种整体式搅拌摩擦连接头磨损部位采用梯度材料激光熔覆修复方法

    公开(公告)号:CN114990544A

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202210583876.8

    申请日:2022-05-26

    Abstract: 一种整体式搅拌摩擦连接头磨损部位采用梯度材料激光熔覆修复方法,其特征是它包括下列步骤:S1.使用超声波探伤,对磨损后的搅拌头进行探伤,探伤无缺陷视为合格进入下一步;S2.对搅拌头进行清洗,去除搅拌头氧化层以及相关杂质,如搅拌头上存在裂纹,则铣削掉相关部位,去除相关影响;S3.配置激光熔覆修复梯度材料,原料为梯度合金粉末;S4.对搅拌头进行扫描,确定加工激光熔覆的扫描路径;S5.按扫描路径对搅拌头进行激光熔覆修复;S6.对修复的搅拌头进行后处理(如磨削等),将搅拌头修形到既定形状。本发明可以对磨损的搅拌头进行修复,经过修复后的搅拌头耐磨、耐蚀、强度等均优于修复前,提高了搅拌头的使用寿命,降低使用成本。

Patent Agency Ranking