一种二维范德华异质结场效应晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN116110973A

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN202310257918.3

    申请日:2023-03-17

    Applicant: 南昌大学

    Abstract: 本发明涉及一种二维范德华异质结场效应晶体管及其制备方法,属于晶体管技术领域。所述晶体管包括:SiO2/Si衬底;设置在衬底上的第一个二维材料层为半导体层;分别设置在所述第一个二维材料层两端的源电极和漏电极,在所述源电极和漏电极之间为沟道区;设置在第一个二维材料层上的第二个二维材料层为绝缘介质层;设置在第二个二维材料层上的栅电极。本发明提供的二维范德华异质结场效应晶体管在源极电压+0.1V情况下开关比高达106;接近理论极限的亚阈值摆幅;并且顶栅调制的传输曲线表现出很小的迟滞。

    一种碲烯纳米结构的制备方法

    公开(公告)号:CN116443823B

    公开(公告)日:2024-09-13

    申请号:CN202310260943.7

    申请日:2023-03-17

    Applicant: 南昌大学

    Abstract: 本发明属于材料制备领域,具体涉及一种碲烯纳米结构的制备方法。该方法是采用激光辐照,基于高功率密度下产生的局部热效应来改变材料的结构,以碲化物为基体,制备碲烯纳米结构。该方法得到的碲烯纳米结构采用激光辐照光斑小,可进行局域微区的精确调控,操作简单、耗时短,可以大规模应用。

    在钛酸锶衬底上生长大面积二硫化钨薄膜的方法

    公开(公告)号:CN117702261A

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN202311370552.7

    申请日:2023-10-23

    Applicant: 南昌大学

    Abstract: 本发明提出一种在钛酸锶衬底上生长大面积二硫化钨薄膜的方法,所述方法采用碱金属盐辅助低压化学气相沉积法,选用钛酸锶衬底,以一定配比的WO3、NaBr以及单质硫粉的混合物作为前驱体源,制备大面积二硫化钨薄膜。本发明提出的在钛酸锶衬底上生长大面积二硫化钨薄膜的方法,实现了通过化学气相沉积法在钛酸锶衬底上制备二硫化钨薄膜,所得到的二硫化钨薄膜具有面积大,均匀性好,结晶性好等特点,该方法可重复性强,操作简单,耗时短,效率高,可以实现大规模生产和应用。

    激光面扫氧化制备阻变器件的方法

    公开(公告)号:CN116634777A

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202310438489.X

    申请日:2023-04-21

    Applicant: 南昌大学

    Abstract: 本发明提出一种激光面扫氧化制备阻变器件的方法,所述方法采用机械剥离法与拉曼激光氧化结合的方式,以金属硫化物、硒化物单晶为初始材料,经机械剥离后得到相应二维薄膜材料,再拉曼激光氧化制备二维平面异质结构材料。本发明提出的激光面扫氧化制备阻变器件的方法,通过机械剥离法与拉曼激光氧化结合制备二维材料阻变存储器的方法,该方法制备得到的阻变存储器具有可控性强、重复性好、操作简单、耗时短等优点。

    一种ZrS3/ZrO异质结顶栅场效应晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN116487264A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202310405533.7

    申请日:2023-04-17

    Applicant: 南昌大学

    Abstract: 本发明属于二维材料晶体管器件领域,公开了一种ZrS3/ZrO异质结顶栅场效应晶体管及其制备方法。本发明通过直接氧化法,结合电子束刻蚀和真空镀膜技术制得ZrS3/ZrO异质结顶栅场效应晶体管。该制备方法操作简单,成本低、耗时短,只通过一次样品转移即制备出了ZrS3/ZrO异质结且可实现大量异质结同时制备;与常规的异质结制备方法不同,本发明首次提出通过热氧化处理沟道材料表层以获得介电层,且无需考虑介电材料与沟道材料的晶格匹配和结合性问题,制得的ZrS3/ZrO异质结顶栅场效应晶体管。

    大面积二硒化钼薄膜的制备方法
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116479401A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202310405528.6

    申请日:2023-04-17

    Applicant: 南昌大学

    Abstract: 本发明提出一种大面积二硒化钼薄膜的制备方法,该方法包括:先将衬底进行超声清洗,而后将衬底表面吹干;在称量纸上分别称取一定量相对应的(NH4)2MoO4、硒粉与KCl,并将称取的(NH4)2MoO4与KCl充分混合后放入干净的第一刚玉舟中,将称量的硒粉放置在第二刚玉舟中;将洗净的衬底倒扣在第一刚玉舟所放置的混合药品的正上方距离为10‑20mm处,将第一刚玉舟放置于多温区管式炉的下游温区中,另一装载硒粉的第二刚玉舟置于上游温区,随后通入氩氢混合气体,对多温区管式炉进行三次洗气,再开启多温区管式炉,在8×104Pa‑9×104Pa下持续通入氩氢混合气体进行硒化反应,得到二维二硒化钼薄膜。本发明得到的MoSe2薄膜能达到厘米级别,且均匀性好,可控性强,结晶性好等特点。

    一种超声清洗装置用夹具
    18.
    实用新型

    公开(公告)号:CN214767406U

    公开(公告)日:2021-11-19

    申请号:CN202120012210.8

    申请日:2021-01-05

    Applicant: 南昌大学

    Abstract: 本实用新型公开了一种超声清洗装置用夹具,包括安装顶板与安装底板,所述安装顶板与安装底板之间通过衔接机构连接,且所述衔接机构均匀设置于安装底板顶面四角,所述安装顶板与安装底板的一侧四角分别均匀挖设有第一通口与第二通口,所述衔接机构两端分别设置于相对的两个所述第一通口与第二通口内,所述安装顶板与安装底板顶面分别均匀设置有第一长条口与第二长条口,所述衔接套筒分别设置于第一通口与第二通口的内壁,并为卡合连接,所述衔接套筒一侧顶面挖设有衔接口,所述衔接口内腔通过第一螺纹连接有支撑杆,所述支撑杆与第一螺纹连接处设置有第二螺纹,根据手机屏幕的高度调节,提高了适用范围。

    一种超声清洗装置用可调节放置架

    公开(公告)号:CN214767405U

    公开(公告)日:2021-11-19

    申请号:CN202120012208.0

    申请日:2021-01-05

    Applicant: 南昌大学

    Abstract: 本实用新型涉及一种超声清洗装置用可调节放置架,包括超声清洗机,所述超声清洗机内腔开设有清洗槽,所述清洗槽两侧对称转动设有丝杆,所述超声清洗机内腔顶部固定安装有步进电机,所述步进电机输出轴与丝杆传动连接,所述清洗槽内腔设有升降框,所述升降框两侧对称固定设有滑动螺母,所述滑动螺母与丝杆连接,所述升降框内腔滑动设有放置框,所述放置框内腔均匀固定设有隔板,方便工件摆放在放置框内,再将放置框放入升降框内,并让升降框向下移动进入清洗槽内,从而使得不同规格的工件都可以浸没在清洗槽中进行清洗,提高清洗效果和对不同工件清洗的适应性。

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