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公开(公告)号：CN114573045B
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202210159615.3
申请日：2022-02-22
Applicant: 厦门大学
IPC: H01M4/505
Abstract: 本发明公开了一种锂离子电池无钴正极前驱体材料的制备方法及其应用，包括如下步骤：(1)将可溶性金属盐和去离子水混合均匀，获得金属盐溶液；(2)将络合剂和去离子水混合均匀，获得络合剂溶液；(3)将沉淀剂和去离子水混合均匀，获得沉淀剂溶液；(4)将上述金属盐溶液和沉淀剂溶液在氮气或惰性气体保护下缓慢泵入络合剂溶液中，搅拌混合进行共沉淀反应获取沉淀物；(5)将步骤(4)所得的沉淀物依次经陈化、过滤、洗涤和真空干燥后，即得所述无钴富锂正极前驱体材料。本发明简单、温和、环保，能够大幅度降低成本，适合工业化生产。
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公开(公告)号：CN220149646U
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202321650839.0
申请日：2023-06-27
Applicant: 厦门大学
Inventor： 罗晴
IPC: C23C14/35
Abstract: 本实用新型提供一种磁控溅射门防下垂装置，包括：机体；限位框，所述限位框分别设置于所述机体的正面的两侧，所述限位框的一侧的顶部和底部均固定安装有安装板，所述安装板固定安装于所述机体的正面；连接板，所述连接板固定安装于所述限位框的底部，所述连接板的底部固定安装有固定框，所述固定框的内侧面的顶部固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端固定安装有螺纹套。本实用新型提供的一种磁控溅射门防下垂装置，通过驱动电机、固定框、螺纹套、螺纹杆、托板等结构相互进行配合，在进行使用的时候，能够避免托板的顶部和门体的底部进行摩擦，从而造成托板和门体的损坏，增加门体和托板的使用寿命。
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公开(公告)号：CN220149645U
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202321650838.6
申请日：2023-06-27
Applicant: 厦门大学
Inventor： 罗晴
Abstract: 本实用新型提供一种磁控溅射真空镀膜机组，包括：底座；所述镀膜箱设置于所述底座顶部的一侧，所述镀膜箱的内部设置有镀膜腔，所述镀膜腔内腔的顶部固定安装有驱动装置，所述驱动装置的输出轴底端固定连接有旋转装置，所述旋转装置内部的底部固定安装有放置座，所述放置座的两侧均转动安装有转动装置；两个限位装置分别螺纹啮合在转动装置外表面的两侧。本实用新型提供一种磁控溅射真空镀膜机组，通过转动驱动装置啮合外表面两侧的限位装置相互靠近或相互远离，使得限位装置夹持住放置座上的工件，本装置结构简单，实用性强，可以对待加工的工件进行限位，保持镀膜效果。
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公开(公告)号：CN216639625U
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202123055675.0
申请日：2021-12-07
Applicant: 厦门大学
Inventor： 罗晴
Abstract: 本实用新型提供一种磁控溅射过渡室，包括：过渡室主体；多个第一转动辊设置于过渡室主体内壁的一侧，多个调节组件均设置于过渡室主体的内部，多个挤压组件均设置于多个调节组件的一侧，冷凝组件设置于过渡室主体内壁的底部，输送组件设置于过渡室主体的背面。本实用新型提供的一种磁控溅射过渡室，在过渡室主体内壁的底部设置冷凝组件可以将过渡室主体的内部空气冷却滑，在第一转动辊的表面设置调节组件配合挤压组件使用能够使织物与第一转动辊的接触面增大，在过渡室主体内壁的一侧设置输送组件能够将输送管内部的液体或者冷气输送至第一转动辊和第二转动辊的内部，有利于与织物接触时能对织物表面的水分进行去除。
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公开(公告)号：CN212819941U
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202021081923.1
申请日：2020-06-12
Applicant: 厦门大学
Inventor： 罗晴
Abstract: 本实用新型公开了一种Pd基催化剂制备用负载骨架，包括液压缸、第一固定架和第二固定架，所述第一固定架和第二固定架均为半圆状，且第一固定架和第二固定架的直径均相等，所述第一固定架和第二固定架的下端面两端分别固定有第一支撑柱和第二支撑柱，且第一支撑柱和第二支撑柱均设有两个，所述第一支撑柱的长度大于第二支撑柱的长度，所述液压缸共设有四个，所述液压缸通过液压杆固定在第一支撑柱和第二支撑柱的下端面，所述第一固定架和第二固定架的一端外侧通过铰链活动连接，所述第一固定架背离铰链的一端外侧中间处固定有固定块。本实用新型有利于在Pd基催化剂制备的过程中，对制备的工具进行支撑的骨架的优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN220149648U
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202321650842.2
申请日：2023-06-27
Applicant: 厦门大学
Inventor： 罗晴
Abstract: 本实用新型提供一种磁控溅射镀膜生产线，包括：传输装置，所述传输装置的一侧设置有上料区，所述上料区的一侧分别设置有进料室、前过渡室、前缓冲室、镀膜机、后过渡室和后缓冲室，所述下料区设置于所述后缓冲室的一侧，所述回传路线设置于所述下料区和所述传输装置之间；所述镀膜机包括机体，所述机体的内部设置有多个转动杆，多个所述挂接组件从上至下依次设置于多个所述转动杆的表面；多个放置组件，多个所述放置组件设置于所述转动杆的表面。本实用新型提供的一种磁控溅射镀膜生产线，在转动杆的表面设置多个挂接组件和多个放置组件便于同时对板状和环状的物体进行加工，能代替现在的分多次加工的方式，能提高加工时的效率和便捷性。
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公开(公告)号：CN220149647U
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202321650840.3
申请日：2023-06-27
Applicant: 厦门大学
Inventor： 罗晴
IPC: C23C14/35
Abstract: 本实用新型提供一种磁控溅射镀膜装置，包括：镀膜箱；工作腔设置于镀膜箱的内部，工作腔内部的一侧设置有滑槽，工作腔内部的另一侧设置有限位槽，限位槽的内部固定安装有限位杆，滑槽的内部转动安装有螺纹装置，螺纹装置的一侧螺纹啮合有驱动装置。本实用新型提供一种磁控溅射镀膜装置，通过测距仪观察靶材和传动装置上基材之间的距离，并控制外部电源连接驱动装置啮合螺纹装置转动，使得螺纹装置螺纹啮合溅射装置在传动装置上的距离，本装置结构简单，实用性强，可以根据靶材的磨损调节靶材和传动装置之间的距离，使得靶材和传动装置之间的距离保持恒定，保持镀膜时的稳定性。
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公开(公告)号：CN216639634U
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202123052581.8
申请日：2021-12-07
Applicant: 厦门大学
Inventor： 罗晴
IPC: C23C14/35
Abstract: 本实用新型提供一种用于磁控溅射设备回流传输的调整装置，包括：支架；支撑杆，所述支撑杆固定连接于所述支架的顶部的前后两侧，所述支撑杆的顶端固定连接有第一固定板；第二固定板，所述第二固定板设置于所述第一固定板的顶部的中间；卡接组件，所述卡接组件固定连接于所述第一固定板的底部的中间。本实用新型提供的用于磁控溅射设备回流传输的调整装置，通过在第二固定板的条形槽中开设卡槽，第一固定板底部的卡接组件可卡在卡槽中，从而对第二固定板进行固定，需要调整时，也只需将工字板向上抬升，然后便可沿着条形槽一次性调整第一固定板和第二固定板的位置，位置调整方便，节省时间。
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公开(公告)号：CN217104054U
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202123055687.3
申请日：2021-12-07
Applicant: 厦门大学
Inventor： 罗晴
IPC: C23C14/35
Abstract: 本实用新型提供一种提升均匀性的磁控溅射镀膜装置，包括：加工箱主体；多个所述磁吸组件均设置于所述加工箱主体内壁的一圈，所述磁吸组件包括弧形滑块，所述弧形滑块的表面套设有滑套，所述滑套的一侧固定连接有连接套，所述连接套的内部设置有连接扣，所述连接扣的一侧固定连接有磁控靶；多个调节组件，多个所述调节组件均设置于所述加工箱主体的内壁。本实用新型提供的一种提升均匀性的磁控溅射镀膜装置，在加工箱主体的内壁设置滑轨和滑套配合调节组件能带动磁控靶进行位置的调节，可以在加工箱主体工作时能对磁控靶进行位置的调节，能防止磁控靶出现松动时需要停止工作进行维修，能防止加工时间增长的情况。
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公开(公告)号：CN216687131U
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202123052585.6
申请日：2021-12-07
Applicant: 厦门大学
Inventor： 罗晴
IPC: B66C5/02
Abstract: 本实用新型提供一种用于磁控溅射换靶的辅助装置。所述用于磁控溅射换靶的辅助装置，包括：龙门架组件，所述龙门架组件包括横梁，所述横梁底部的两侧均通过螺栓固定安装有支撑组件，所述支撑组件包括底部支撑柱。本实用新型提供的用于磁控溅射换靶的辅助装置，通过底部支撑柱、内部支撑柱和中间支撑柱的可伸缩设计，可在运输的过程中将内部支撑柱和中间支撑柱统一收纳至底部支撑柱的内部，且横梁与其液为可拆卸式设计，可方便对其进行运输，并且，底部支撑柱、内部支撑柱和中间支撑柱均为中空设计，通过采用中空设计，可方便工作人员进行搬运，在运输过程无需多人配合，从而可简化装置整体的操作步骤，方便进行使用。
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