公开(公告)号：CN101952935A

公开(公告)日：2011-01-19

申请号：CN200980105797.9

申请日：2009-01-29

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 岸本克史 ,  福冈裕介

IPC: H01L21/02 ,  C23C14/56 ,  C23C16/44 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/6719 ,  H01L21/67775

Abstract: 真空处理装置(1)包括：第1处理室(101)，容纳被处理物(107)而进行真空处理；第2处理室(102)，容纳进行真空处理之前的被处理物和进行真空处理之后的被处理物，且可进行真空排气；门部(103)，在第1处理室和第2处理室之间，以能够对第1处理室安装或从第1处理室拆卸地安装；搬送装置(202)，通过门部(103)，将进行真空处理之前的被处理物从搬入部(108)搬入真空处理部(104)，并将进行真空处理之后的被处理物从真空处理部(104)搬送到搬出部(119)；以及移动机构(200)，将第1处理室和第2处理室隔开。

公开(公告)号：CN101910460A

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200880124530.X

申请日：2008-12-19

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 岸本克史 ,  福冈裕介

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/205 ,  H05H1/46

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/5096 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32568 ,  H01L21/02529 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262

Abstract: 本发明提供等离子体处理设备，该等离子体处理设备即使当两个电极的面积增加时也能均匀地将气体供应到阴极电极和阳极电极之间的空间，并且能够减小两个电极的厚度。两对阳极电极(4)和阴极电极(12)在等离子体处理设备(100)的腔(15)中布置为彼此相对。阴极电极(12)具有喷淋板(2)、后板(3)和中空室(17)。喷淋板(2)设置有第一喷气孔(18)，用于将引入中空腔(17)的气体喷到两个电极(12，4)之间的空间。用于从外部引入气体的进气口(31)布置在后板(3)的下表面(面对喷淋板(2)的中空腔(17)内壁(19))的电极端面上。用于将气体喷到中空腔(17)的第二喷气孔(32)以及用于将气体从进气口(31)引导到第二喷气孔(32)的气体引导部分(33)设置在中空室的内壁(19)上。