被覆膜及其制造方法以及PVD装置

    公开(公告)号:CN106795619B

    公开(公告)日:2019-10-01

    申请号:CN201480082002.8

    申请日:2014-09-17

    Abstract: 本发明提供一种不仅充分地改善低摩擦性与耐磨损性的并存而且也改善耐碎片性(耐缺损性)或耐剥离性的被覆膜及其制造方法以及PVD装置。一种被覆膜,被覆在基材的表面上,并且形成有在通过明视场TEM图像对截面进行观察时在相对于基材垂直的方向上相连呈柱状的硬质碳层,硬质碳层是使用PVD法而形成,在利用拉曼分光法对硬质碳层进行测定时,拉曼分光光谱的D频带与G频带的波峰的面积强度比ID/IG比为1~6。本发明的被覆膜的制造方法及装置使用电弧式PVD法,以将基材温度维持于250℃~400℃的方式控制偏向电压、电弧电流、加热器温度和/或炉内压力,并且一面使基材自转和/或公转一面在基材的表面上被覆硬质碳膜。

    被覆膜与其制造方法及PVD装置

    公开(公告)号:CN108368602A

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201680073541.4

    申请日:2016-12-16

    Abstract: 提供一种技术,其为PVD法,却可将耐久性优异的厚膜的硬质碳膜成膜,并且可使经成膜的硬质碳膜的耐碎片性与耐磨损性并存,并且可改善低摩擦性与耐剥离性。一种被覆膜,其为被覆于基材的表面上的被覆膜,且在利用明视场TEM图像观察截面时,在厚度方向上交替层叠有相对地以白显示的白色的硬质碳层、与以黑显示的黑色的硬质碳层且具有超过1μm且50μm以下的总膜厚,并且白色的硬质单素层具有在厚度方向上呈扇状成长的区域。一种被覆膜的制造方法,其为使用PVD法在基材的表面上将被覆膜成膜的被覆膜的制造方法,且以基材在超过50℃且200℃以下的低温区域与超过200℃且300℃以下的高温区域之间交替重复进行升温与降温的方式控制对基材的成膜条件,并且使基材自转和/或公转。

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