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公开(公告)号:CN114466950A
公开(公告)日:2022-05-10
申请号:CN202080068880.X
申请日:2020-09-30
Applicant: 日本活塞环株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供具有示出恒定且稳定的抗削性和耐磨损性、并且耐剥离性(密合性)优异的包覆膜的滑动构件、及该包覆膜。其解决方法是滑动构件(10),其在基材(11)上的滑动面(16)上具有包覆膜(1),在通过明视野TEM图像观察包覆膜(1)的剖面时,包含相对地由黑色表示的黑色硬质碳层(B)和相对地由白色表示的白色硬质碳层(W)的重复单元在厚度方向(Y)上层叠,且具有1μm~50μm的范围内的合计厚度,在相邻的黑色硬质碳层B和白色硬质碳层(W)中,白色硬质碳层(W)的硬度比黑色硬质碳层(B)高,白色硬质碳层(W)的[sp2/(sp2+sp3)]比比黑色硬质碳层(B)大。
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公开(公告)号:CN106795619A
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201480082002.8
申请日:2014-09-17
Abstract: 本发明提供一种不仅充分地改善低摩擦性与耐磨损性的并存而且也改善耐碎片性(耐缺损性)或耐剥离性的被覆膜及其制造方法以及PVD装置。一种被覆膜,被覆在基材的表面上,并且形成有在通过明视场TEM图像对截面进行观察时在相对于基材垂直的方向上相连呈柱状的硬质碳层,硬质碳层是使用PVD法而形成,在利用拉曼分光法对硬质碳层进行测定时,拉曼分光光谱的D频带与G频带的波峰的面积强度比ID/IG比为1~6。本发明的被覆膜的制造方法及装置使用电弧式PVD法,以将基材温度维持于250℃~400℃的方式控制偏向电压、电弧电流、加热器温度和/或炉内压力,并且一面使基材自转和/或公转一面在基材的表面上被覆硬质碳膜。
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公开(公告)号:CN114466950B
公开(公告)日:2024-09-13
申请号:CN202080068880.X
申请日:2020-09-30
Applicant: 日本活塞环株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供具有示出恒定且稳定的抗削性和耐磨损性、并且耐剥离性(密合性)优异的包覆膜的滑动构件、及该包覆膜。其解决方法是滑动构件(10),其在基材(11)上的滑动面(16)上具有包覆膜(1),在通过明视野TEM图像观察包覆膜(1)的剖面时,包含相对地由黑色表示的黑色硬质碳层(B)和相对地由白色表示的白色硬质碳层(W)的重复单元在厚度方向(Y)上层叠,且具有1μm~50μm的范围内的合计厚度,在相邻的黑色硬质碳层B和白色硬质碳层(W)中,白色硬质碳层(W)的硬度比黑色硬质碳层(B)高,白色硬质碳层(W)的[sp2/(sp2+sp3)]比比黑色硬质碳层(B)大。
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公开(公告)号:CN108368602B
公开(公告)日:2020-08-25
申请号:CN201680073541.4
申请日:2016-12-16
Abstract: 提供一种技术,其为PVD法,却可将耐久性优异的厚膜的硬质碳膜成膜,并且可使经成膜的硬质碳膜的耐碎片性与耐磨损性并存,并且可改善低摩擦性与耐剥离性。一种被覆膜,其为被覆于基材的表面上的被覆膜,且在利用明视场TEM图像观察截面时,在厚度方向上交替层叠有相对地以白显示的白色的硬质碳层、与以黑显示的黑色的硬质碳层且具有超过1μm且50μm以下的总膜厚,并且白色的硬质碳层具有在厚度方向上呈扇状成长的区域。一种被覆膜的制造方法,其为使用PVD法在基材的表面上将所述被覆膜成膜的制造方法。一种PVD装置,其为所述的被覆膜的制造方法中使用的电弧式物理气相沉积装置。一种活塞环,其至少在外周滑动面上具有所述的被覆膜。
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公开(公告)号:CN119256175A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202380040628.1
申请日:2023-09-22
Applicant: 日本活塞环株式会社
Abstract: 技术问题在于提供呈现耐崩裂性和耐磨损性且耐剥离性优异,能够实现摩擦的降低,特别是不容易产生缺损、龟裂,能够以高生产率实现均质化和厚膜化的新的滑动部件等。通过以下方案解决上述技术问题,滑动部件(10)在基材(11)上的滑动面(16)具有包覆膜(1),包覆膜(1)具有多个层叠部(3)和在各层叠部(3)之间设置的碳层(4),对于层叠部(3)来说,在利用明视场TEM像观察截面时,在厚度方向(Y)上层叠有呈现相对黑色或偏黑色的黑色的硬质碳层(B)与呈现相对白色或偏白色的白色的硬质碳层(W)的反复单位(2),碳层(4)具有柱状组织(4c)。优选层叠部(3)的厚度在2~9μm的范围内,包覆膜(1)的厚度在4~40μm的范围内。
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公开(公告)号:CN117062936A
公开(公告)日:2023-11-14
申请号:CN202280024219.8
申请日:2022-03-25
Applicant: 日本活塞环株式会社
IPC: C23C14/06
Abstract: 本发明提供一种表现出耐崩裂性和耐磨损性,并且耐剥离性(密合性)优异,并且实现了摩擦的降低的滑动部件及包覆膜。本发明提供一种滑动部件(10),其在基材(11)上的滑动面(16)具有包覆膜(1),其中,包覆膜(1)具有:叠层部(1A),其在厚度方向(Y)上叠层有重复单元,所述重复单元包含在利用明场TEM图像观察截面时相对地以黑色表示的黑色的硬质碳层(B)和相对地以白色表示的白色的硬质碳层(W);以及表层部(1C),其由设置在所述叠层部(1A)上的白色的硬质碳层构成,关于维氏硬度,黑色的硬质碳层在700~1600HV的范围内,所述白色的硬质碳层比相邻的所述黑色的硬质碳层高且在1200~2200HV的范围内,所述表层部比所述白色的硬质碳层低且在800~1200HV的范围内。
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公开(公告)号:CN107075659B
公开(公告)日:2020-07-28
申请号:CN201480082001.3
申请日:2014-09-17
Abstract: 本发明提供一种不仅充分地改善低摩擦性与耐磨损性的并存且改善耐碎片性或耐剥离性的被覆膜及其制造方法以及PVD装置。一种被覆膜,被覆在基材的表面上,且具有在通过明视场TEM图像对截面进行观察时相对地以黑白显示的硬质碳,白色的硬质碳在厚度方向上相连成网格状、黑色的硬质碳分散在网格的间隙中的网格状硬质碳层是使用PVD法而形成,在利用拉曼分光法对网格状硬质碳层进行测定时,拉曼分光光谱的D频带与G频带的波峰的面积强度比ID/IG比为1~6。本发明使用电弧式PVD法,以将基材温度维持于超过200℃且为300℃以下的方式控制偏向电压、电弧电流、加热器温度等,并且一面使基材自转和/或公转一面在基材的表面上被覆硬质碳膜。
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公开(公告)号:CN110770362A
公开(公告)日:2020-02-07
申请号:CN201880040572.9
申请日:2018-06-15
Abstract: 本发明的课题是提供具有示出一定且稳定的抗削性和耐磨损性、并且耐剥离性(密合性)优异的包覆膜的滑动构件、及该包覆膜。其解决方法是滑动构件(10),其在基材(11)的滑动面(16)具有由硬质碳层形成的包覆膜(1),上述包覆膜(1)如下所述地构成:通过明视野TEM图像观察包覆膜(1)的剖面时,包含相对地由黑色表示的黑色硬质碳层(B)和相对地由白色表示的白色硬质碳层(W)的重复单元在厚度方向上层叠,且具有1μm~50μm的范围内的厚度,包覆膜(1)具有设置于基材侧的倾斜区域(2)和设置于滑动构件(10)的表面侧的均质区域(3),在上述倾斜区域(2),重复单元中的白色硬质碳层(W)的厚度在厚度方向上逐渐变大,在上述均质区域(3),重复单元中的白色硬质碳层(W)的厚度在厚度方向上相同或大致相同,从而解决了上述问题。
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公开(公告)号:CN107075659A
公开(公告)日:2017-08-18
申请号:CN201480082001.3
申请日:2014-09-17
Abstract: 本发明提供一种不仅充分地改善低摩擦性与耐磨损性的并存且改善耐碎片性或耐剥离性的被覆膜及其制造方法以及PVD装置。一种被覆膜,被覆在基材的表面上,且具有在通过明视场TEM图像对截面进行观察时相对地以黑白显示的硬质碳,白色的硬质碳在厚度方向上相连成网格状、黑色的硬质碳分散在网格的间隙中的网格状硬质碳层是使用PVD法而形成,在利用拉曼分光法对网格状硬质碳层进行测定时,拉曼分光光谱的D频带与G频带的波峰的面积强度比ID/IG比为1~6。本发明的被覆膜的制造方法及装置使用电弧式PVD法,以将基材温度维持于超过200℃且为300℃以下的方式控制偏向电压、电弧电流、加热器温度等,并且一面使基材自转和/或公转一面在基材的表面上被覆硬质碳膜。
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公开(公告)号:CN110770362B
公开(公告)日:2022-03-22
申请号:CN201880040572.9
申请日:2018-06-15
Abstract: 本发明的课题是提供具有示出一定且稳定的抗削性和耐磨损性、并且耐剥离性(密合性)优异的包覆膜的滑动构件、及该包覆膜。其解决方法是滑动构件(10),其在基材(11)的滑动面(16)具有由硬质碳层形成的包覆膜(1),上述包覆膜(1)如下所述地构成:通过明视野TEM图像观察包覆膜(1)的剖面时,包含相对地由黑色表示的黑色硬质碳层(B)和相对地由白色表示的白色硬质碳层(W)的重复单元在厚度方向上层叠,且具有1μm~50μm的范围内的厚度,包覆膜(1)具有设置于基材侧的倾斜区域(2)和设置于滑动构件(10)的表面侧的均质区域(3),在上述倾斜区域(2),重复单元中的白色硬质碳层(W)的厚度在厚度方向上逐渐变大,在上述均质区域(3),重复单元中的白色硬质碳层(W)的厚度在厚度方向上相同或大致相同,从而解决了上述问题。
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