公开(公告)号：CN105764650A

公开(公告)日：2016-07-13

申请号：CN201480063615.7

申请日：2014-11-17

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 宫谷克明 ,  上村直己

IPC: B24B37/005 ,  B24B37/24 ,  B24B37/28 ,  C03C19/00

CPC classification number: B24B37/28 ,  B24B13/015

Abstract: 一种玻璃板的制造方法，将玻璃板保持于在双面研磨装置的太阳齿轮与齿圈之间进行行星齿轮运动的玻璃板用支座，将保持于玻璃板用支座的玻璃板夹持于安装在上平板和下平板的研磨垫之间，一边供给含有磨粒的研磨液一边进行研磨，由此制造玻璃板，其中，在负载有研磨时的研磨载荷的状态下，研磨垫的各自的变形量的平均值Dp为0.04mm以上。

公开(公告)号：CN103987832A

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201280061689.8

申请日：2012-11-21

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 吉田伊织 ,  宫谷克明

IPC: C11D7/26 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/30625 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  C11D7/267 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02024 ,  H01L21/02052 ,  H01L29/1608

Abstract: 本发明提供对于利用含有锰化合物的研磨剂研磨后的碳化硅单晶基板利用安全且简便的方法有效地清洗残留、附着于基板表面的锰成分的清洗剂。本发明涉及一种清洗剂，其用于对利用含有锰化合物的研磨剂研磨后的碳化硅单晶基板进行清洗，所述清洗剂中，含有抗坏血酸和异抗坏血酸中的至少一种，并且pH为6以下。

公开(公告)号：CN103680525A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201310403706.8

申请日：2013-09-06

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 宫谷克明

IPC: G11B5/73 ,  G11B5/84

Abstract: 本发明涉及信息记录介质用玻璃基板及其制造方法、以及磁盘。本发明的目的在于提供更平滑的信息记录介质用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法，制造信息记录介质用玻璃基板的方法中包括使用含有胶态二氧化硅的浆料进行抛光的工序。本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，依次包括使用含铈抛光剂对玻璃进行抛光的工序、使用加热后的含有硫酸和过氧化氢水溶液的清洗液对玻璃进行清洗的清洗工序以及使用含有胶态二氧化硅的浆料对玻璃主表面进行抛光的工序，所述制造方法的特征在于，该浆料中含有直链饱和二元羧酸。

公开(公告)号：CN105702265A

公开(公告)日：2016-06-22

申请号：CN201510920652.1

申请日：2015-12-11

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 宫谷克明 ,  小林大介

IPC: G11B5/73 ,  G11B5/84 ,  C09G1/02 ,  C03C23/00 ,  C03C19/00

CPC classification number: G11B5/7315 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0075 ,  C09G1/02 ,  G11B5/8404 ,  G11B5/8408

Abstract: 本发明涉及磁记录介质用玻璃基板和磁记录介质。本发明的课题在于提供可以稳定地进行磁记录介质的读写的磁记录介质用玻璃基板。一种磁记录介质用玻璃基板，其为具有要形成磁性层的主平面的磁记录介质用玻璃基板，其中，在将上述玻璃基板的上述主平面的表层的第13族元素的原子浓度的合计设为C1(原子％)、将上述表层的Si元素的原子浓度设为C2(原子％)、将上述玻璃基板的内部的第13族元素的合计设为C3(原子％)、将上述玻璃基板的内部的Si元素的原子浓度设为C4(原子％)时，由下述式(1)表示的R1为0.30～0.90。

公开(公告)号：CN101950565B

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201010226127.7

申请日：2010-07-08

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 田村昌彦 ,  百濑彻 ,  宫谷克明 ,  中岛哲也

IPC: G11B5/84 ,  C03C23/00

CPC classification number: G11B5/8404 ,  B24B37/042 ,  B24B37/08 ,  C03C19/00 ,  G11B5/7315

Abstract: 本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板及其制造方法以及磁记录介质，所述制造方法包含以下工序：对包含含碱铝硅酸盐玻璃的玻璃圆板进行研磨的研磨工序；和之后使用含有氧化铈磨粒的浆料进行抛光的氧化铈抛光工序，其特征在于，含碱铝硅酸盐玻璃中的SiO2含量减Al2O3含量得到的差(SiO2-Al2O3)为62摩尔％以下；还包含以下工序：紧接着氧化铈抛光工序，使用硫酸浓度为20质量％以上且80质量％以下、过氧化氢浓度为1质量％以上且10质量％以下的清洗液在50℃以上且100℃以下的液温下对玻璃圆板进行清洗的清洗工序，和在所述清洗工序后使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的精抛光工序。

公开(公告)号：CN102754152A

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN201180007939.5

申请日：2011-10-26

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 中岛哲也 ,  宫谷克明

IPC: G11B5/84 ,  C03C3/087 ,  C03C3/091 ,  C03C19/00

CPC classification number: G11B5/7315 ,  C03C3/091 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0075 ,  G11B5/8404

Abstract: 本发明涉及从由低碱铝硅酸盐玻璃构成的玻璃圆板、经过使用包含氧化铈磨粒的浆料的研磨工序来制造信息记录媒体用玻璃基板的方法，在该方法中，可抑制氧化铈磨粒的残留并且减少主表面的表面粗糙。信息记录媒体用玻璃基板的制造方法，其为包括对由不含有碱金属氧化物或含有合计低于4摩尔％的碱金属氧化物的低碱铝硅酸盐玻璃构成的玻璃圆板进行研磨的研磨工序，和然后使用包含氧化铈磨粒的浆料进行研磨的氧化铈研磨工序，该制造方法的特征是，包括：接着氧化铈研磨工序之后，使用含有浓度为20质量％以上80质量％以下的硫酸、浓度为0.5质量％以上10质量％以下的过氧化氢的清洗液以50℃以上100℃以下的液温对玻璃圆板进行清洗的清洗工序；和在所述清洗工序后使用包含胶体二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行研磨的精磨工序。