玻璃基板的制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104625939A

    公开(公告)日:2015-05-20

    申请号:CN201410642262.8

    申请日:2014-11-11

    CPC classification number: B24B37/107 B24B37/042

    Abstract: 本发明涉及一种玻璃基板的制造方法,所述玻璃基板的制造方法包括:研磨工序,所述研磨工序使用研磨垫和研磨液对保持在研磨用载具的保持孔中的玻璃基板的主平面进行研磨,所述研磨垫具有肖氏D硬度为40以下的发泡树脂的研磨层,所述研磨液含有初级粒径为3~50nm的二氧化硅作为磨粒;和清洗工序,所述清洗工序对玻璃基板的表面进行清洗,所述玻璃基板的制造方法的特征在于,所述研磨工序中,使用将1μl研磨液滴加至研磨垫的研磨面起50秒后研磨液的接触角为50°以下的研磨垫和研磨液对玻璃基板的主平面进行研磨。

    玻璃制品的制造方法及磁盘的制造方法

    公开(公告)号:CN104093524A

    公开(公告)日:2014-10-08

    申请号:CN201380008201.X

    申请日:2013-02-01

    CPC classification number: B24B37/044 G11B5/8404 B24B37/00 C03C15/00

    Abstract: 本发明提供一种玻璃制品的制造方法,经过使用铈基研磨剂对玻璃进行研磨的研磨工序以及利用加热后的含有硫酸及过氧化氢水溶液的清洗液对玻璃进行清洗的清洗工序来制造玻璃制品,该方法能够防止玻璃的表面粗糙。本发明涉及一种玻璃制品的制造方法,包括使用铈基研磨剂对玻璃进行研磨的研磨工序以及之后使用加热后的含有硫酸及过氧化氢水溶液的清洗液对玻璃进行清洗的清洗工序,所述制造方法中,该铈基研磨剂为不含LaOF晶体的铈基研磨剂。

    信息记录介质用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法

    公开(公告)号:CN102906814A

    公开(公告)日:2013-01-30

    申请号:CN201180025053.3

    申请日:2011-05-18

    Abstract: 一种经由使用含有氧化铈磨粒的浆料对玻璃圆板进行抛光的抛光工序来制造信息记录介质用玻璃基板的方法,该方法抑制氧化铈磨粒的残留,而且减少主表面的表面粗糙。本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法,包括:对玻璃圆板进行研磨的研磨工序和然后使用氧化铈磨粒进行抛光的氧化铈抛光工序,其中,紧接在氧化铈抛光工序后,在对玻璃圆板进行干燥的干燥工序(a)之后或者在使用选自由硫酸和硝酸组成的组中的一种以上无机酸的浓度为55质量%以上、温度为30℃以下的第一清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(b)之后,具有:使用硫酸的浓度为55~80质量%、过氧化氢的浓度为1~10质量%、温度为70℃以上的第二清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(c)。

    信息记录媒体用玻璃基板制造方法

    公开(公告)号:CN102754152B

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201180007939.5

    申请日:2011-10-26

    Abstract: 本发明涉及从由低碱铝硅酸盐玻璃构成的玻璃圆板、经过使用包含氧化铈磨粒的浆料的研磨工序来制造信息记录媒体用玻璃基板的方法,在该方法中,可抑制氧化铈磨粒的残留并且减少主表面的表面粗糙。信息记录媒体用玻璃基板的制造方法,其为包括对由不含有碱金属氧化物或含有合计低于4摩尔%的碱金属氧化物的低碱铝硅酸盐玻璃构成的玻璃圆板进行研磨的研磨工序,和然后使用包含氧化铈磨粒的浆料进行研磨的氧化铈研磨工序,该制造方法的特征是,包括:接着氧化铈研磨工序之后,使用含有浓度为20质量%以上80质量%以下的硫酸、浓度为0.5质量%以上10质量%以下的过氧化氢的清洗液以50℃以上100℃以下的液温对玻璃圆板进行清洗的清洗工序;和在所述清洗工序后使用包含胶体二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行研磨的精磨工序。

    信息记录介质用玻璃基板及其制造方法以及磁记录介质

    公开(公告)号:CN101950565A

    公开(公告)日:2011-01-19

    申请号:CN201010226127.7

    申请日:2010-07-08

    CPC classification number: G11B5/8404 B24B37/042 B24B37/08 C03C19/00 G11B5/7315

    Abstract: 本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板及其制造方法以及磁记录介质,所述制造方法包含以下工序:对包含含碱铝硅酸盐玻璃的玻璃圆板进行研磨的研磨工序;和之后使用含有氧化铈磨粒的浆料进行抛光的氧化铈抛光工序,其特征在于,含碱铝硅酸盐玻璃中的SiO2含量减Al2O3含量得到的差(SiO2-Al2O3)为62摩尔%以下;还包含以下工序:紧接着氧化铈抛光工序,使用硫酸浓度为20质量%以上且80质量%以下、过氧化氢浓度为1质量%以上且10质量%以下的清洗液在50℃以上且100℃以下的液温下对玻璃圆板进行清洗的清洗工序,和在所述清洗工序后使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的精抛光工序。

    玻璃制品的制造方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103747917B

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:CN201280034544.9

    申请日:2012-06-28

    Inventor: 宫谷克明

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种玻璃制品的制造方法,该方法包括在使用含有三氧化二锰磨粒的研磨剂将玻璃研磨的研磨工序之后,将附着至玻璃上的含有三氧化二锰磨粒的研磨剂有效地清洗的工序。本发明涉及玻璃制品的制造方法,其包括使用含有三氧化二锰磨粒的研磨剂将玻璃研磨的研磨工序,及其后使用清洗液将该玻璃清洗的清洗工序,其中该清洗液是含有抗坏血酸与异抗坏血酸中的至少一种的清洗液。

    信息记录介质用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法

    公开(公告)号:CN102906814B

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201180025053.3

    申请日:2011-05-18

    Abstract: 一种经由使用含有氧化铈磨粒的浆料对玻璃圆板进行抛光的抛光工序来制造信息记录介质用玻璃基板的方法,该方法抑制氧化铈磨粒的残留,而且减少主表面的表面粗糙。本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法,包括:对玻璃圆板进行研磨的研磨工序和然后使用氧化铈磨粒进行抛光的氧化铈抛光工序,其中,紧接在氧化铈抛光工序后,在对玻璃圆板进行干燥的干燥工序(a)之后或者在使用选自由硫酸和硝酸组成的组中的一种以上无机酸的浓度为55质量%以上、温度为30℃以下的第一清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(b)之后,具有:使用硫酸的浓度为55~80质量%、过氧化氢的浓度为1~10质量%、温度为70℃以上的第二清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(c)。

    玻璃制品的制造方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103747917A

    公开(公告)日:2014-04-23

    申请号:CN201280034544.9

    申请日:2012-06-28

    Inventor: 宫谷克明

    CPC classification number: C09K3/1463 C03C23/0075 B24B37/04 C09K3/1409

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种玻璃制品的制造方法,该方法包括在使用含有三氧化二锰磨粒的研磨剂将玻璃研磨的研磨工序之后,将附着至玻璃上的含有三氧化二锰磨粒的研磨剂有效地清洗的工序。本发明涉及玻璃制品的制造方法,其包括使用含有三氧化二锰磨粒的研磨剂将玻璃研磨的研磨工序,及其后使用清洗液将该玻璃清洗的清洗工序,其中该清洗液是含有抗坏血酸与异抗坏血酸中的至少一种的清洗液。

    化学强化玻璃和化学强化玻璃的制造方法

    公开(公告)号:CN107129160A

    公开(公告)日:2017-09-05

    申请号:CN201710102390.7

    申请日:2017-02-24

    CPC classification number: C03C21/002 C03C23/0095

    Abstract: 本发明涉及化学强化玻璃和化学强化玻璃的制造方法。本发明的目的在于提供一种即使对玻璃表面进行研磨,面强度也优良的化学强化玻璃。本发明涉及一种化学强化玻璃,其在表层具有压应力层,并且满足以下的(1)~(5)的条件:(1)在表面具有研磨损伤;(2)纹理方向指数(Stdi)为0.70以上;(3)利用下式(i)求出的表面硅烷醇基量为1以下,(表面硅烷醇基量)=(玻璃内部的阳离子量)‑(玻璃表面的阳离子量)…式(i);(4)自玻璃的最外表面起算的深度X=0.1~0.4(μm)的区域内的氢浓度C小于0.070mol/L;(5)利用AFM在1μm见方的条件下测定的表面粗糙度(Ra)为0.35nm以下。

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