固态成像装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN100490164C

    公开(公告)日:2009-05-20

    申请号:CN200410031962.X

    申请日:2004-03-31

    CPC classification number: H01L27/14601 H01L27/14609

    Abstract: 一种固态成像装置(100),包括多个光敏单元(8)和用于驱动多个光敏单元(8)的驱动单元。每个光敏单元(8)包括:光电二极管(5),形成为暴露在半导体衬底的表面上,用于积累通过对入射光进行光电转换而获得的信号电荷;转移晶体管,用于转移由光电二极管(5)积累的信号电荷;浮动扩散层(1),用于暂时积累由转移晶体管转移的信号电荷;以及放大器晶体管(2),用于放大暂时积累在浮动扩散层(1)中的信号电荷。设置在放大器晶体管(2)中的源/漏扩散层(3)被自对准金属硅化物层(4)覆盖,并且浮动扩散层(1)形成为暴露在半导体衬底的表面上。

    固态成像装置
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101369595A

    公开(公告)日:2009-02-18

    申请号:CN200810212857.4

    申请日:2004-02-17

    Abstract: 一种固态成像装置,包括:多个光电二极管,用于执行光电转换,每一个光电二极管按行方向和列方向被二维设置在半导体衬底上;多个传输门,用于传输由执行光电转换所获得的信号电荷;多个浮置扩散层,用于暂时存储所传输的信号电荷;放大器晶体管,用于放大传送到其栅极的信号电荷;复位晶体管,用于复位浮置扩散层中存储的信号电荷;以及垂直信号线,用于输出与浮置扩散层中的信号电荷相对应的信号;其中至少一个有源区中包括的浮置扩散层连接至与浮置扩散层在列方向相邻的有源区中包括的放大器晶体管的栅极;以及垂直信号线在列方向输出该信号。

    固态摄像装置
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1855519A

    公开(公告)日:2006-11-01

    申请号:CN200610068289.6

    申请日:2006-03-27

    Abstract: 本发明提供了一种具有高信噪比的MOS固态摄像装置。在形成于半导体基底内部的图像检测部分(2)的表面上,提供了其面积小于图像检测部分(2)表面积、具有涂覆于其间的绝缘薄膜(6)的抗反射薄膜(10)。抗反射薄膜(10)被形成为未覆盖图像检测部分(2)和外围区域之间的边界部分。每个抗反射薄膜(10)与栅电极(7)之间的间隙S1的距离和抗反射薄膜(10)与元件隔离区域(5)之间的间隙S2的距离优选等于或大于0.2μm。当抗反射薄膜(10)面积等于或大于图像检测部分(2)表面积的70%时,即使用于带有可互换镜头的照相机,也能抑制像素灵敏度的波动。

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