-
公开(公告)号：CN116507960A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202180073728.5
申请日：2021-11-02
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G02B26/10
Abstract: 图案曝光装置，其具有：第1光分割器，其设置于第1光束的从第1光源装置到在基板上描绘图案的第1描绘单元之间的光路中，将第1光束的一部分分割为第1测量用光束；第2光分割器，其设置于第2光束的从第2光源装置到在基板上描绘图案的第2描绘单元之间的光路中，将第2光束的一部分分割为第2测量用光束；变动检测光学单元，其接受第1测量用光束和第2测量用光束，并检测第1光束与第2光束的相对的位置变动或者相对的倾斜变动；第1导光系统，其形成基于第1测量用光束的光路；以及第2导光系统，其形成基于第2测量用光束的光路。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110082905B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN201910086630.8
申请日：2016-09-27
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明是一种图案描绘装置(EX)，其是一面将来自光源(LS)的射束(LB)根据图案信息进行强度调变，一面将射束(LB)投射至基板(P)上而于主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上形成图案者，且具备：扫描装置(14)，其是为了使射束(LB)于主扫描方向上扫描，而将包含使来自光源(LS)的射束(LB)偏向的偏向构件(PM)的多个扫描单元(Un)，以投射至基板(P)上的射束(LB)的扫描轨迹相互错开的方式配置；及电光偏向装置(BDU)，其是为了将来自光源(LS)的射束(LB)分时供给至多个扫描单元(Un)的各者，而将来自光源(LS)的射束(LB)切换为偏向状态或非偏向状态，并且为了使射束(LB)的扫描轨迹于与主扫描方向交叉的副扫描方向移位，而可调整射束(LB)的偏向角。
-
公开(公告)号：CN113552778A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202110922904.X
申请日：2017-05-15
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明的图案描绘装置(EX)具备：位置计测部(MU)，其计测应藉由多个描绘单元(Un)描绘的基板(P)上的被曝光区域的位置；第1调整构件(HVP)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案相对于被曝光区域的位置误差减少，而根据利用位置计测部(MU)计测出的位置对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中于第2方向上进行调整；及第2调整构件(AOM1)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案于第2方向上的接合误差减少，而对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中以高于第1调整构件(HVP)的响应性在第2方向上进行调整。
-
公开(公告)号：CN110031965B
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN201910171306.6
申请日：2017-04-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 作为于基板(P)上一维地扫描光束(LBn)的光束扫描装置的扫描单元(Un)，具备于一方向具有聚焦力的第1柱面透镜(CY1)、使透过第1柱面透镜(CY1)的光束(LBn)偏向以便进行一维扫描的多面镜(PM)、将以远心的状态偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的fθ透镜系统(FT)、及入射透过fθ透镜系统(FT)的光束(LBn)且于一方向具有聚焦力的第2柱面透镜(CY2)，第1柱面透镜(CY1)与第2柱面透镜(CY2)于彼此正交的方向具有聚焦力，该扫描单元(Un)进而具备设置于第1柱面透镜(CY1)与多面镜(PM)之间的透镜系统(G10)。
-
公开(公告)号：CN109196423B
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN201780027995.2
申请日：2017-04-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 作为于基板(P)上一维地扫描光束(LBn)的光束扫描装置的扫描单元(Un)，具备于一方向具有聚焦力的第1柱面透镜(CY1)、使透过第1柱面透镜(CY1)的光束(LBn)偏向以便进行一维扫描的多面镜(PM)、将以远心的状态偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的fθ透镜系统(FT)、及入射透过fθ透镜系统(FT)的光束(LBn)且于一方向具有聚焦力的第2柱面透镜(CY2)，第1柱面透镜(CY1)与第2柱面透镜(CY2)于彼此正交的方向具有聚焦力，该扫描单元(Un)进而具备设置于第1柱面透镜(CY1)与多面镜(PM)之间的透镜系统(G10)。
-
公开(公告)号：CN109791371B
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201780061213.7
申请日：2017-05-15
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明的图案描绘装置(EX)具备：位置计测部(MU)，其计测应藉由多个描绘单元(Un)描绘的基板(P)上的被曝光区域的位置；第1调整构件(HVP)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案相对于被曝光区域的位置误差减少，而根据利用位置计测部(MU)计测出的位置对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中于第2方向上进行调整；及第2调整构件(AOM1)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案于第2方向上的接合误差减少，而对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中以高于第1调整构件(HVP)的响应性在第2方向上进行调整。
-
-
-
-
-
Search Results
16
records
(took 0.028 seconds)
