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公开(公告)号：CN108040500A
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201680056621.9
申请日：2016-09-28
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/677 , B65G49/00 , G03F7/20 , H01L21/02
CPC classification number: B65G49/00 , G03F7/20 , H01L21/02 , H01L21/677
Abstract: 本发明的制造系统(10)，是一边将长条的可挠性片材基板(P)搬送于长边方向、一边通过多个处理装置(PR)连续的对该片材基板施以处理，其具备设置在该多个处理装置(PR)中的第1处理装置(PR2)与相邻的第2处理装置(PR3)之间的蓄积部(BF1)，以及于第1处理装置(PR2)中，暂时停止对该片材基板(P)的处理、或该片材基板(P)的搬送时，判定该蓄积部(BF1)的该片材基板(P)的蓄积状态是否满足以预想的该第1处理装置(PR2)的停止时间决定的所需蓄积状态的控制装置(14,18)。
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公开(公告)号：CN101258581B
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200680032751.5
申请日：2006-09-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
Abstract: 本发明提供曝光装置。曝光装置(EX)具备浸液系统(1)、第一移动体(4)、和给定构件(30)。曝光装置(EX)经由光学构件(FL)和液体(LQ)将基板(P)曝光。浸液系统(1)进行上述液体(LQ)的供给和回收。第一移动体(4)在第一区域(10)中移动，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。给定构件(30)在上述第一移动体(4)离开上述光学构件(FL)的对置位置后被从上述第一移动体(4)上取下，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。
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公开(公告)号：CN101258581A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200680032751.5
申请日：2006-09-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
Abstract: 本发明提供曝光装置。曝光装置(EX)具备浸液系统(1)、第一移动体(4)、和给定构件(30)。曝光装置(EX)经由光学构件(FL)和液体(LQ)将基板(P)曝光。浸液系统(1)进行上述液体(LQ)的供给和回收。第一移动体(4)在第一区域(10)中移动，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。给定构件(30)在上述第一移动体(4)离开上述光学构件(FL)的对置位置后被从上述第一移动体(4)上取下，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。
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公开(公告)号：CN114229474A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202210005576.1
申请日：2017-08-07
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65G49/06 , B65H20/02 , B65H23/188 , B65H26/00 , G03F7/20 , G03F7/24 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
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公开(公告)号：CN109154784B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201780030933.7
申请日：2017-04-17
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明是将具有可挠性的长条片状基板(P)的一部分沿圆筒状的外周面的圆周方向卷绕而加以支承的转筒(DR)，包括：圆筒体(50)，其具有距中心轴(AXo)为固定半径的圆筒状外周面；光电感测器(PDi)，其输出与朝向圆筒体(50)的外周面投射并射入至形成于圆筒体(50)的外周面的一部分的开口部(50n)的光束(LBn)的强度对应的信号；及感测器电路基板(60)，其输入来自光电感测器(PDi)的信号，以进行用以测量光束(LBn)的强度变化或光束位置的信号处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108885337A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780022102.5
申请日：2017-03-28
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明的将通过反射面的角度会变化的多面镜(PM)而偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的扫描单元(Un)具备：再反射光学系统(CY2、M10)，其反射最初于多面镜(PM)反射的第1反射光束(LBn)而产生朝向多面镜(PM)的第2反射光束(LBn)，并且于与多面镜(PM)的偏向方向交叉的非偏向方向上使第2反射光束(LBn)收敛；及扫描用光学系统(FT、CY3)，其入射第2反射光束(LBn)于多面镜(PM)再次反射所得的第3反射光束(LBn)并朝向基板(P)射出。
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公开(公告)号：CN102712436A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201080060044.3
申请日：2010-12-28
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65H75/14 , H01L21/673 , B65H18/02
CPC classification number: H01L21/67126 , B65H75/28 , B65H75/285 , B65H2405/421 , B65H2601/25 , H01L21/67363
Abstract: 基板盒，包括：轴部，卷绕有片状基板，该片状基板具有经电路生成处理后的电路区域；以及罩部，用以收容卷绕于该轴部的状态的基板；轴部，具有保持基板的开始卷绕的一端部中与电路区域不同的区域的保持部。
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公开(公告)号：CN117730406A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202280050815.3
申请日：2022-07-27
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/768 , H05K3/24 , H05K3/18 , H01L29/786 , H01L29/49 , H01L29/423 , H01L29/417 , H01L23/532 , H01L21/336 , H01L21/3205 , H01L21/288 , C23C18/32
Abstract: 一种金属布线的制造方法，其为在基板上制造金属布线的方法，其具备：在上述基板上的至少一部分形成包含第一材料的第一层的工序；在上述第一层形成裂纹，形成具有裂纹的第一层的工序；以及在具有上述裂纹的第一层形成包含第二材料的第二层的工序。
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公开(公告)号：CN108885337B
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN201780022102.5
申请日：2017-03-28
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明的将通过反射面的角度会变化的多面镜(PM)而偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的扫描单元(Un)具备：再反射光学系统(CY2、M10)，其反射最初于多面镜(PM)反射的第1反射光束(LBn)而产生朝向多面镜(PM)的第2反射光束(LBn)，并且于与多面镜(PM)的偏向方向交叉的非偏向方向上使第2反射光束(LBn)收敛；及扫描用光学系统(FT、CY3)，其入射第2反射光束(LBn)于多面镜(PM)再次反射所得的第3反射光束(LBn)并朝向基板(P)射出。
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公开(公告)号：CN102712436B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201080060044.3
申请日：2010-12-28
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65H75/14 , H01L21/673 , B65H18/02
CPC classification number: H01L21/67126 , B65H75/28 , B65H75/285 , B65H2405/421 , B65H2601/25 , H01L21/67363
Abstract: 基板盒，包括：轴部，卷绕有片状基板，该片状基板具有经电路生成处理后的电路区域；以及罩部，用以收容卷绕于该轴部的状态的基板；轴部，具有保持基板的开始卷绕的一端部中与电路区域不同的区域的保持部。
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