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公开(公告)号:CN100490064C
公开(公告)日:2009-05-20
申请号:CN200480029973.2
申请日:2004-09-29
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 从投影光学系统PL入射到液体LQ上的曝光光之中,入射到光透过部44上的曝光光,不通过气体中地入射到光学部件41上而被集中。曝光装置,即便投影光学系统的数值孔径增大,也可以接收来自投影光学系统的曝光光,从而进行各种计测。
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公开(公告)号:CN100490064C
公开(公告)日:2009-05-20
申请号:CN200480029973.2
申请日:2004-09-29
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 从投影光学系统PL入射到液体LQ上的曝光光之中,入射到光透过部44上的曝光光,不通过气体中地入射到光学部件41上而被集中。曝光装置,即便投影光学系统的数值孔径增大,也可以接收来自投影光学系统的曝光光,从而进行各种计测。