曝光装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101526759B

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN200910129712.2

    申请日:2004-09-29

    Abstract: 本发明提供一种曝光装置,通过将曝光光经由液体照射在基板上而将所述基板曝光,其中,具备:投影光学系统;以及计测装置,具有设置在所述投影光学系统的像面侧的光透过部,以及经由该光透过部而接收通过了所述投影光学系统的曝光光的光接收器,所述计测装置的光接收器,在所述投影光学系统和所述光透过部之间没有液体的状态下,接收通过了所述光透过部以及投影光学系统的曝光光。

    曝光装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101526759A

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200910129712.2

    申请日:2004-09-29

    Abstract: 本发明提供一种曝光装置,通过将曝光光经由液体照射在基板上而将所述基板曝光,其中,具备:投影光学系统;以及计测装置,具有设置在所述投影光学系统的像面侧的光透过部,以及经由该光透过部而接收通过了所述投影光学系统的曝光光的光接收器,所述计测装置的光接收器,在所述投影光学系统和所述光透过部之间没有液体的状态下,接收通过了所述光透过部以及投影光学系统的曝光光。

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