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公开(公告)号：CN117377910A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202280033807.8
申请日：2022-07-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明的空间光调变单元(1)是用于一面使感光基板(10)沿着扫描方向(S)移动、一面于感光基板(10)将曝光图案进行曝光的曝光装置。空间光调变单元(1)具备：空间光调变器(11)，具有多个组件；控制器(12)，根据曝光图案控制多个组件；及SLM基板(13)，搭载空间光调变器(11)及控制器(12)。并且，控制器(12)相对于空间光调变器(11)而沿着扫描方向(S)排列配置。
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公开(公告)号：CN100490064C
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200480029973.2
申请日：2004-09-29
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 从投影光学系统PL入射到液体LQ上的曝光光之中，入射到光透过部44上的曝光光，不通过气体中地入射到光学部件41上而被集中。曝光装置，即便投影光学系统的数值孔径增大，也可以接收来自投影光学系统的曝光光，从而进行各种计测。
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公开(公告)号：CN101002300A
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200580026943.0
申请日：2005-08-09
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G01M11/02 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70133 , G03F7/70141 , G03F7/70258 , G03F7/70566 , G03F7/706
Abstract: 提供一种光学特性测量装置及方法、曝光装置及方法、及组件制造方法。由于光学特性测量装置(90)中设有光学系统单元(93)，因此可一并测量照明光学系统之照明形状及大小、投影光学系统之波面像差、照明光之偏振状态。因此，例如在以变形照明之一种的偏振照明进行曝光时，只要根据该测量结果调整各种光学系统，即可实现高精度的曝光。其中，该光学系统单元(93)将用以使照明光通过的开口部(97)、用以测量波面像差之微透镜阵列(98)、用以测量照明光之偏振光检测系统(99)选择性地配置于照明光之光路上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117651911A
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202280047477.8
申请日：2022-07-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 为了提高曝光装置的生产量，提供一种相对于物体曝光与描绘数据对应的、由空间光调制器生成的图案光的曝光装置，该曝光装置具备：向所述空间光调制器照射照明光的照明光学系统；向所述物体投影所述图案光的投影光学系统；保持所述物体的第1移动体，其配置在所述投影光学系统的下方；第1驱动部，其使所述第1移动体向在与所述投影光学系统的光轴正交的规定平面内彼此正交的第1方向和第2方向移动；保持所述空间光调制器的第2移动体；使所述第2移动体移动的第2驱动部；测量部，其得到包括所述物体的位置信息和所述第1移动体的位置信息的至少一项来作为测量结果；以及控制部，其基于利用所述测量部得到的所述测量结果控制所述第2移动体的驱动和所述投影光学系统的调节的至少一方，控制所述图案光的曝光位置。
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公开(公告)号：CN117616338A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202280045554.6
申请日：2022-07-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 图案曝光装置(EX)包括：空间光调制元件(10)，其具有基于描绘数据被选择性驱动的多个微镜；照明单元(ILU)，其以规定的入射角向空间光调制元件照射照明光；以及投影单元(PLU)，其使来自空间光调制元件的被选择的打开状态的微镜的反射光入射并投影到基板上，图案曝光装置(EX)将与描绘数据对应的图案投影曝光到基板上，照明单元包括：聚光光学构件，其将来自成为照明光的光源的规定形状的面光源的光聚光并倾斜照射到空间光调制元件上，且沿着相对于投影单元的光轴以入射角倾斜的光轴来配置，使面光源与投影单元的光瞳光学共轭；以及修正光学构件，其使面光源的轮廓的形状变形，以对由来自空间光调制元件的打开状态的微镜的反射光在投影单元的光瞳上形成的面光源的像的轮廓根据入射角而变形为椭圆状的情况进行修正。
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公开(公告)号：CN117561482A
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202280045409.8
申请日：2022-07-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 图案曝光装置具备：照明单元，其对具有以基于描绘数据切换成打开状态或关闭状态的方式被驱动的多个微镜的空间光调制元件照射照明光；以及投影单元，其入射来自所述空间光调制元件的成为打开状态的微镜的反射光来作为成像光束，将与所述描绘数据对应的图案的像投影至基板。图案曝光装置具备：控制单元，其将与根据所述空间光调制元件的打开状态的微镜的分布密度而产生的所述成像光束的角度变化有关的信息与所述描绘数据一并保存为制程信息；以及调节机构，其在基于所述制程信息驱动所述空间光调制元件而在所述基板上曝光图案时，根据与与所述角度变化有关的信息，对所述照明单元或者所述投影单元内的至少一个光学构件的位置或者角度、或者所述空间光调制元件的角度进行调节。
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公开(公告)号：CN117546099A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202280044691.8
申请日：2022-07-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明的曝光装置具备：照明光学系统；空间光调变器，被来自照明光学系统的光所照明；投影光学系统，将自空间光调变器射出的光照射至曝光对象；载台，载置曝光对象，使曝光对象与投影光学系统于既定的扫描方向相对移动；及控制部，控制空间光调变器。空间光调变器具备多个镜面，该多个镜面可切换为：ON状态，调整倾斜而能够向投影光学系统射出光；及OFF状态，不向投影光学系统射出光。控制部以将多个镜面切换第一状态与第二状态的方式控制空间光调变器。第一状态与第二状态是成为ON状态的镜面的至少一者互不相同，自第一状态的空间光调变器射出的光与自第二状态的空间光调变器射出的光形成形状相同的曝光图案。
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