移动体装置
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108957966A

    公开(公告)日:2018-12-07

    申请号:CN201810948284.5

    申请日:2015-03-30

    Inventor: 白户章仁

    Abstract: 本发明的基板载台装置(20),具备能沿包含X轴及Y轴的平面内移动的基板保持具(34)、能沿Y轴方向与基板保持具同步移动的读头单元(60)、标尺(52)设于基板保持具且读头(66x、66y)设于读头单元并根据上述读头的输出求出于X轴及Y轴方向的基板保持具的位置信息的基板位置测量用编码器系统、求出读头单元于Y轴方向的位置信息的读头单元位置测量用编码器系统,以及根据上述基板位置测量用编码器系统及读头单元位置测量用编码器系统的输出进行基板保持具于XY平面内的位置控制的位置控制系。

    曝光装置、平面显示器之制造方法、以及元件制造方法

    公开(公告)号:CN108139677A

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201680057154.1

    申请日:2016-09-29

    Inventor: 白户章仁

    CPC classification number: G03F7/20 H01L21/68

    Abstract: 一种液晶曝光装置,对沿着XY平面移动之基板保持具(34)所保持之基板(P),在基板保持具(34)往X轴方向之移动中经由光学系(16)照射照明光,其具有:标尺(52),根据基板保持具往X轴方向之移动而被测量;读头(66x、66y),根据基板保持具往X轴方向之移动,一边相对标尺(52)往X轴方向相对移动一边测量标尺(52);多个标尺(56),根据基板保持具往Y轴方向之移动而被测量,配置于在X轴方向彼此不同之位置;以及多个读头(64x、64y),对应标尺(56)之各个设置,且根据基板往Y轴方向之移动,一边相对标尺(56)往Y轴方向相对移动一边测量标尺(56)。

    曝光方法及曝光装置
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101836166A

    公开(公告)日:2010-09-15

    申请号:CN200980100816.9

    申请日:2009-01-07

    Inventor: 白户章仁

    CPC classification number: G03F7/70475

    Abstract: 本发明提供一种曝光装置,是使用相对于物体M并排设置的多个投影光学模块PLa~PLg将所述物体的投影像转印到感光基板P上的曝光装置EX,具备:调整机构14,其使所述投影像向所述感光基板的转印特性变化;存储机构80,其存储有表示每个所述投影光学模块的所述转印特性的转印特性信息;连接信息取得机构,其取得表示与所述物体的投影像中的在所述感光基板上被接上的第一投影像和第二投影像的连接位置对应的连接位置信息;控制机构CONT,其以所述转印特性信息及所述连接位置信息为基础,算出与所述连接位置的所述第一投影像和所述第二投影像的所述转印特性的特性差对应的所述调整机构的调整值,基于该调整值使所述调整机构动作,使相对于所述第一投影像及所述第二投影像的至少一方的所述转印特性变化。

    曝光装置、平面显示器之制造方法、以及元件制造方法

    公开(公告)号:CN113359395B

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202110601500.0

    申请日:2016-09-29

    Inventor: 白户章仁

    Abstract: 一种液晶曝光装置,对沿着XY平面移动之基板保持具(34)所保持之基板(P),在基板保持具(34)往X轴方向之移动中经由光学系统(16)照射照明光,其具有:标尺(52),根据基板保持具往X轴方向之移动而被测量;读头(66x、66y),根据基板保持具往X轴方向之移动,一边相对标尺(52)往X轴方向相对移动一边测量标尺(52);多个标尺(56),根据基板保持具往Y轴方向之移动而被测量,配置于在X轴方向彼此不同之位置;以及多个读头(64x、64y),对应标尺(56)之各个设置,且根据基板往Y轴方向之移动,一边相对标尺(56)往Y轴方向相对移动一边测量标尺(56)。

    移动体装置及曝光装置
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111948916B

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202010833688.7

    申请日:2015-03-30

    Inventor: 白户章仁

    Abstract: 本发明的基板载台装置(20),具备能沿包含X轴及Y轴的平面内移动的基板保持具(34)、能沿Y轴方向与基板保持具同步移动的读头单元(60)、标尺(52)设于基板保持具且读头(66x、66y)设于读头单元并根据上述读头的输出求出于X轴及Y轴方向的基板保持具的位置信息的基板位置测量用编码器系统、求出读头单元于Y轴方向的位置信息的读头单元位置测量用编码器系统,以及根据上述基板位置测量用编码器系统及读头单元位置测量用编码器系统的输出进行基板保持具于XY平面内的位置控制的位置控制系。

    曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法

    公开(公告)号:CN113900361A

    公开(公告)日:2022-01-07

    申请号:CN202111202524.5

    申请日:2016-09-29

    Abstract: 控制系根据使用多个读头(66a~66d)中测量光束照射于第1格子群之标尺(152a~152c)及第2格子群之标尺(152d~152f)之至少两个标尺之至少四个读头(66a~66d)所测量之移动体之位置信息,取得与标尺(152a~152c)及标尺(152d~152f)之至少两个相关之格子修正信息,格子修正信息用在使用测量光束照射于标尺(152a~152c)及标尺(152d~152f)中之至少两个格子之至少三个读头的移动体之移动控制。

    曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法

    公开(公告)号:CN113641083A

    公开(公告)日:2021-11-12

    申请号:CN202110958833.9

    申请日:2016-09-29

    Abstract: 控制系,根据用以补偿因多个格子区域(RG)(标尺(152))、多个读头(66a~66d)、以及基板保持具(34)的移动的至少一个而产生的包含编码器系统的测量系的测量误差的修正信息、以及以测量系测量的位置信息,控制基板保持具的驱动系,多个读头分别在基板保持具于X轴方向的移动中,来自读头的测量光束从多个格子区域(RG)的一个脱离,且移至相邻的另一格子区域(RG)。

    曝光装置、平面显示器之制造方法、以及元件制造方法

    公开(公告)号:CN108139677B

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN201680057154.1

    申请日:2016-09-29

    Inventor: 白户章仁

    Abstract: 一种液晶曝光装置,对沿着XY平面移动之基板保持具(34)所保持之基板(P),在基板保持具(34)往X轴方向之移动中经由光学系统(16)照射照明光,其具有:标尺(52),根据基板保持具往X轴方向之移动而被测量;读头(66x、66y),根据基板保持具往X轴方向之移动,一边相对标尺(52)往X轴方向相对移动一边测量标尺(52);多个标尺(56),根据基板保持具往Y轴方向之移动而被测量,配置于在X轴方向彼此不同之位置;以及多个读头(64x、64y),对应标尺(56)之各个设置,且根据基板往Y轴方向之移动,一边相对标尺(56)往Y轴方向相对移动一边测量标尺(56)。

    曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法

    公开(公告)号:CN108139683A

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201680057941.6

    申请日:2016-09-29

    CPC classification number: G01B11/00 G03F7/20

    Abstract: 控制系根据使用多个读头(66a~66d)中测量光束照射于第1格子群之标尺(152a~152c)及第2格子群之标尺(152d~152f)之至少两个标尺之至少四个读头(66a~66d)所测量之移动体之位置信息,取得与标尺(152a~152c)及标尺(152d~152f)之至少两个相关之格子修正信息,格子修正信息用在使用测量光束照射于标尺(152a~152c)及标尺(152d~152f)中之至少两个格子之至少三个读头的移动体之移动控制。

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