公开(公告)号：CN101328573B

公开(公告)日：2010-11-10

申请号：CN200810134035.9

申请日：2005-08-30

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 林嘉隆 ,  藤井俊茂 ,  笹登 ,  藤原将行

IPC: C23C14/08 ,  C23C14/34 ,  G11B7/26

Abstract: 一种一次写入多次读取光学记录介质，其能够在蓝色激光波长或更短的波长在，即500nm或更小波长下，特别在邻近405nm的波长下表现出优异的记录-再现性能和高密度记录。为此，本发明的一次写入多次读取光学记录介质包括使用由BiOx(0＜x＜1.5)表示的材料的记录层，其中记录标记包含Bi晶体和/或Bi氧化物晶体。另一种一次写入多次读取光学记录介质包括含有Bi、氧、和M(M表示选自Mg、Al、Cr、Mn、Co、Fe、Cu、Zn、Li、Si、Ge、Zr、Ti、Hf、Sn、Mo、V、Nb、Y、和Ta的至少一种元素)的记录层，其中记录标记包括含在该记录层中的元素的晶体和该元素的氧化物的晶体。

公开(公告)号：CN101496105A

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200780028420.9

申请日：2007-07-27

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 鸣海慎也 ,  山田胜幸 ,  笹登 ,  林嘉隆 ,  藤井俊茂 ,  藤原将行 ,  加藤将纪 ,  木边刚 ,  甲田卓也 ,  三浦裕司

IPC: G11B7/24 ,  G11B7/243 ,  G11B7/254 ,  G11B7/257 ,  B41M5/26

CPC classification number: G11B7/2433 ,  G11B7/0062 ,  G11B7/24079 ,  G11B7/2437 ,  G11B7/2585 ,  G11B7/259 ,  G11B2007/24306 ,  G11B2007/2431 ,  G11B2007/24314 ,  G11B2007/2432

Abstract: 提供一种可记录光学记录介质，其包含：基板、记录层以及反射层，其中该记录层和该反射层形成于该基板上，该记录层由无机材料形成，以及利用通过照射蓝色激光导致的在该记录层的不可逆变化，信息记录在该可记录光学记录介质上。

公开(公告)号：CN101328573A

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：CN200810134035.9

申请日：2005-08-30

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 林嘉隆 ,  藤井俊茂 ,  笹登 ,  藤原将行

IPC: C23C14/08 ,  C23C14/34 ,  G11B7/26

Abstract: 一种一次写入多次读取光学记录介质，其能够在蓝色激光波长或更短的波长在，即500nm或更小波长下，特别在邻近405nm的波长下表现出优异的记录－再现性能和高密度记录。为此，本发明的一次写入多次读取光学记录介质包括使用由BiOx(0＜x＜1.5)表示的材料的记录层，其中记录标记包含Bi晶体和/或Bi氧化物晶体。另一种一次写入多次读取光学记录介质包括含有Bi、氧、和M(M表示选自Mg、Al、Cr、Mn、Co、Fe、Cu、Zn、Li、Si、Ge、Zr、Ti、Hf、Sn、Mo、V、Nb、Y、和Ta的至少一种元素)的记录层，其中记录标记包括含在该记录层中的元素的晶体和该元素的氧化物的晶体。

公开(公告)号：CN101037766A

公开(公告)日：2007-09-19

申请号：CN200710085608.9

申请日：2007-03-01

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 林嘉隆 ,  笹登 ,  藤井俊茂 ,  藤原将行 ,  三浦裕司 ,  加藤将纪 ,  木边刚 ,  鸣海慎也

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/06 ,  B22F3/10 ,  G11B7/243 ,  G11B7/24

CPC classification number: C23C14/08 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/3414 ,  G11B7/243 ,  G11B7/2585 ,  G11B7/266 ,  G11B2007/2431 ,  G11B2007/24314 ,  G11B2007/2432 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3414 ,  H01J37/3429 ,  Y10T428/21

Abstract: 本发明提供一种以含有Bi和B为特征的用于制作追记型光记录介质的溅射靶及其制造方法、使用该溅射靶的追记型高密度光记录介质，以及可以提高制膜速度来提高生产性、制膜时的强度高、并且提高了填充密度的用于制作追记型光记录介质的溅射靶。

公开(公告)号：CN1942936A

公开(公告)日：2007-04-04

申请号：CN200580011815.9

申请日：2005-04-18

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 笹登 ,  林嘉隆 ,  藤井俊茂

IPC: G11B7/0045 ,  G11B7/125

Abstract: 本发明公开了一种记录和再现方法，用于在/从包括导槽和记录层的光记录介质上记录/再现数据。所述记录/再现方法包括步骤：通过将激光辐射时间和激光辐射强度的至少一个调制为两个或多个值来向光记录介质上辐射激光束；其中，将再现功率(Pr)和偏置功率(Pbi)的比率Pbi/Pr设置到不小于0.5的值；其中，通过总是提供具有功率级的激光束来记录数据，所述功率级包括被加到偏置功率(Pbi)的再现功率(Pr)。