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公开(公告)号：CN101191194B
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN200610130966.2
申请日：2006-11-22
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: C23C14/3414 , C23C14/085 , C23C14/086 , G11B7/266
Abstract: 提供一种用于形成可记录光学记录介质的记录层的溅射靶，其中该溅射靶包括Bi和Fe，且该溅射靶的堆积密度高于96％，还提供一种利用该溅射靶制造的可记录光学记录介质，该可记录光学记录介质即使在蓝色激光波长范围内也能够进行高密度记录。
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公开(公告)号：CN101037766B
公开(公告)日：2011-03-02
申请号：CN200710085608.9
申请日：2007-03-01
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: C23C14/08 , C23C14/0036 , C23C14/3414 , G11B7/243 , G11B7/2585 , G11B7/266 , G11B2007/2431 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432 , H01J37/34 , H01J37/3414 , H01J37/3429 , Y10T428/21
Abstract: 本发明提供一种以含有Bi和B为特征的用于制作追记型光记录介质的溅射靶及其制造方法、使用该溅射靶的追记型高密度光记录介质，以及可以提高制膜速度来提高生产性、制膜时的强度高、并且提高了填充密度的用于制作追记型光记录介质的溅射靶。
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公开(公告)号：CN101208744A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200680019730.X
申请日：2006-03-31
Applicant: 株式会社理光
IPC: G11B7/0045 , G11B7/125
Abstract: 用标记长度记录方法记录信息的光记录方法，其中非晶标记和晶体间隙仅记录在具有导向槽的基底的槽中，标记和间隙的临时长度为nT(T表示基准时钟周期；n表示自然数)。间隙至少通过擦除功Pe率的脉冲形成；所有的4T或更长的标记通过交替照射功率Pw的加热脉冲和功率Pb的冷却脉冲且Pw＞Pb的多脉冲形成；并且Pe和Pw满足以下的关系：0.15≤Pe/Pw≤0.4，且0.4≤τw/(τw+τb)≤0.8，其中τw表示加热脉冲的长度之和，τb表示冷却脉冲的长度之和。
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公开(公告)号：CN1942937B
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN200680000015.1
申请日：2006-03-02
Applicant: 株式会社理光
IPC: G11B7/0045 , G11B7/125
CPC classification number: G11B7/126 , G11B7/0045
Abstract: 本发明涉及一种用于多层光记录介质的记录方法，所述多层光记录介质包括M个相变记录层，并且M≥2。所述方法包括：通过利用包括多个激光束脉冲的记录脉冲串而用激光照射所述记录层中的第K个，在第K记录层中记录标记。用于第K记录层的记录脉冲串具有t(K)[T]的周期，第1记录层是与激光束最近的记录层，并且第M记录层是与激光束最远的记录层，T是时钟周期。满足以下关系：t(1)＜t(M)，并且记录脉冲串的周期在激光束照射的方向上从一个记录层到下一个记录层不减小。
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公开(公告)号：CN101496105B
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：CN200780028420.9
申请日：2007-07-27
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G11B7/2433 , G11B7/0062 , G11B7/24079 , G11B7/2437 , G11B7/2585 , G11B7/259 , G11B2007/24306 , G11B2007/2431 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432
Abstract: 提供一种可记录光学记录介质，其包含：基板、记录层以及反射层，其中该记录层和该反射层形成于该基板上，该记录层由无机材料形成，以及利用通过照射蓝色激光导致的在该记录层的不可逆变化，信息记录在该可记录光学记录介质上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101191194A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200610130966.2
申请日：2006-11-22
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: C23C14/3414 , C23C14/085 , C23C14/086 , G11B7/266
Abstract: 提供一种用于形成可记录光学记录介质的记录层的溅射靶，其中该溅射靶包括Bi和Fe，且该溅射靶的堆积密度高于96％，还提供一种利用该溅射靶制造的可记录光学记录介质，该可记录光学记录介质即使在蓝色激光波长范围内也能够进行高密度记录。
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公开(公告)号：CN101080327A
公开(公告)日：2007-11-28
申请号：CN200580043011.7
申请日：2005-12-13
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明提供一次写入多次读取的光记录介质，从激光束入射平面起依次包含基底、含铋和铋的氧化物中的任何一种的记录层、上涂层和反射层，其中当将激光施加到该基底的平坦部分上时，上述一次写入多次读取的光记录介质的反射率为35％或更低；或者下述一次写入多次读取的光记录介质，从激光束入射平面起依次包含基底、底涂层、含铋和铋的氧化物中的任何一种的记录层、上涂层和反射层，其中当将激光施加到该基底的平坦部分上时，上述一次写入多次读取的光记录介质的反射率为35％或更低。
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公开(公告)号：CN100399445C
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200610004988.4
申请日：2003-01-30
Applicant: 株式会社理光
IPC: G11B7/243
CPC classification number: G11B7/0062 , G11B7/243 , G11B7/258 , G11B20/1426 , G11B2007/2431 , G11B2007/24312 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316
Abstract: 本发明提供了一种光记录介质，包括：一个衬底；一个叠置在衬底上的记录层，记录层具有GeαGaβSbγTe100-α-β-γ的配方，其中α是原子百分比从1到5的一个数，β是原子百分比单位中从1到5的一个数，γ是原子百分比单位中从70到80的一个数；以及一个叠置在记录层上的反射层。
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公开(公告)号：CN101025966A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200710005944.8
申请日：2007-02-15
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明提供了一种双层可记录光学记录介质，包括：第一信息层；置于所述第一信息层上的中间层；以及置于所述中间层上的第二信息层，从激光照射侧依次沉积所述第一信息层、中间层和第二信息层，其中所述第一信息层从所述激光照射侧至少包括：包含Bi作为主成分的薄膜、电介质层、反射层和热扩散层，所述第二信息层从所述激光照射侧至少包括：包含Bi作为主成分的薄膜、电介质层和反射层，且其中所述第二信息层的电介质层的厚度(t2)与第一信息层的电介质层的厚度(t1)之比t2/t1的范围为0.7至1.5或者4.5至6.0。
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公开(公告)号：CN1836274A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200480023487.X
申请日：2004-08-24
Applicant: 株式会社理光
IPC: G11B7/0045 , G11B7/125 , G11B7/007 , G11B7/24
Abstract: 本发明提供一种光记录方法，在该光记录方法中使用的光记录介质及光记录装置，该光记录方法在对相变型光记录介质进行记录时，记录光由加热脉冲和冷却脉冲的脉冲串和用于消除的光构成，用峰功率(Pp)、底功率(Pb)以及消除脉冲(Pe)三个值控制照射功率，并在光记录介质中的可能的最低记录线速度和最高记录线速度的范围内，使Pe/Pp、Pp、Pb以及Pe的至少一个可变，进而使各脉冲照射时间与对应于记录线速度的时钟T成比例地变化的记录方法中，将抖动急剧恶化而表示极大值的记录线速度作为特异记录线速度，从比该特异记录线速度慢的特定记录线速度开始，至少使所述Pe/Pp变化来进行记录。
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