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公开(公告)号：CN100418185C
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：CN200310103884.5
申请日：2003-11-18
Applicant: 大日本网目版制造株式会社 , 株式会社神户制钢所
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B3/00
CPC classification number: H01L21/67051 , G11B7/261 , G11B7/265 , H01L21/67028 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统。可使基板无损坏地顺利实行由湿式处理到干燥处理一系列处理。在显像处理单元(10A、10B)中对基板W顺序进行显像处理、冲洗处理和置换处理后，在该基板(W)由干燥防止液润湿的状态下，由主自动输送装置(30)湿式输送到超临界干燥单元(20)。由此超临界干燥单元(20)单独进行高压干燥处理(超临界干燥处理)。因此，不用限定显像处理可用的显像液种类，不会产生超临界干燥单元(20)的压力容器(202)内的腐蚀等问题，就可进行由显像处理到高压干燥处理的一系列处理。由于干燥防止液的存在，还具有防止基板(W)输送中基板(W)自然干燥的效果。
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公开(公告)号：CN1497667A
公开(公告)日：2004-05-19
申请号：CN200310102886.2
申请日：2003-10-22
Applicant: 株式会社神户制钢所 , 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , G03F7/00
CPC classification number: H01L21/67017 , B08B7/0021
Abstract: 本发明提供一种高压处理方法及高压处理装置，使用高压流体而对被处理体施予高压处理，其中，将所述高压流体冲撞到配置在高压处理室内的所述被处理体表面上之后，沿其表面流到该被处理体外边。
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公开(公告)号：CN110352336B
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN201880016726.0
申请日：2018-03-02
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 提供一种高温高压炉用的温度测量器（7），具备如下结构：能够防止绝缘管（10）相对于一对的金属体（8a、8b）的相对变位。在绝缘管（10）的轴向端部设置有顶端卡合部（22）。温度测量器（7）还具备将一对的金属体（8a、8b）的顶端部彼此连接的连接部件（15、17）。绝缘管（10）通过顶端卡合部（22）而卡止于连接部件（15、17），以便限制相对于一对的金属体（8a、8b）的周向的相对变位。
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公开(公告)号：CN105229402B
公开(公告)日：2017-10-24
申请号：CN201480030768.1
申请日：2014-05-02
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: B30B11/002 , B22F3/15 , B22F2003/153 , B22F2203/11 , B28B3/006 , F27B5/04 , F27B5/06 , F27B5/16 , F27B17/0025 , F27D7/02 , F27D7/04 , F27D7/06 , F27D9/00 , H01L21/67109
Abstract: 提供一种能够在抑制高压容器的下部的温度的同时将HIP处理的热区内效率良好地冷却的HIP装置（1）。该HIP装置（1）具备：气体不透过性的壳体（3、4），将被处理物（W）包围；加热部（7），设在壳体（3、4）的内侧，在被处理物（W）的周围形成热区；高压容器（2）；和冷却部，将在壳体的外侧被冷却的压媒气体向热区内引导而将该热区冷却。冷却部包括：气体导入部，将在壳体（3、4）的外侧被冷却的压媒气体向热区内导入；和冷却促进部（37），通过使在壳体的外侧被冷却的压媒气体与高压容器（2）的底体（11）热交换，将压媒气体冷却。
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公开(公告)号：CN105378415A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201480039833.7
申请日：2014-06-10
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: B30B11/002 , F27B17/00 , F27B17/0083 , F27D7/04 , F27D9/00
Abstract: 提供一种能够进行处理室内的迅速的冷却的HIP装置（1）。HIP装置（1）具备壳（3、4）、加热部（7）、高压容器（2）、蓄热器（43）、及冷却促进流路（42），前述壳（3、4）是非透气性的，前述蓄热器（43）被设置于处理室的下侧。壳（3、4）配置成形成第1循环流（41）并且形成第2循环流（42），前述第1循环流（41）为，传压介质气体穿过该壳内的内侧流路（22）及外侧流路（12）回到内侧流路（22），前述第2循环流（42）为，从第1循环流（41）分岔的传压介质气体与前述被处理物热（W）热交换后返回至第1循环流（41）。冷却促进流路（42）使与被处理物（W）热交换之后的前述第2循环流（42）的传压介质气体在该传压介质气体与前述第1循环流合流（41）之前引导至蓄热器（43），使其在该蓄热器（43）中冷却。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100477074C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200310102886.2
申请日：2003-10-22
Applicant: 株式会社神户制钢所 , 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , G03F7/00
CPC classification number: H01L21/67017 , B08B7/0021
Abstract: 本发明提供一种高压处理方法及高压处理装置，使用高压流体而对被处理体施予高压处理，其中，将所述高压流体冲撞到配置在高压处理室内的所述被处理体表面上之后，沿其表面流到该被处理体外边。
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公开(公告)号：CN1501439A
公开(公告)日：2004-06-02
申请号：CN200310103884.5
申请日：2003-11-18
Applicant: 大日本网目版制造株式会社 , 株式会社神户制钢所
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B3/00
CPC classification number: H01L21/67051 , G11B7/261 , G11B7/265 , H01L21/67028 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统。可使基板无损坏地顺利实行由湿式处理到干燥处理一系列处理。在显像处理单元(10A、10B)中对基板W顺序进行显像处理、冲洗处理和置换处理后，在该基板(W)由干燥防止液润湿的状态下，由主自动输送装置(30)湿式输送到超临界干燥单元(20)。由此超临界干燥单元(20)单独进行高压干燥处理(超临界干燥处理)。因此，不用限定显像处理可用的显像液种类，不会产生超临界干燥单元(20)的压力容器(202)内的腐蚀等问题，就可进行由显像处理到高压干燥处理的一系列处理。由于干燥防止液的存在，还具有防止基板(W)输送中基板(W)自然干燥的效果。
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公开(公告)号：CN110446900A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201880022418.9
申请日：2018-03-27
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 在热等静压加压装置中使被处理物的加压处理中的热区的均热性提高。HIP装置(100)具备外侧开口部(4H)开口的外侧壳(4)、内侧开口部(5H)开口的内侧壳(5)、配置于外侧壳(4)和内侧壳(5)之间的隔热体(R)、气流产生部(30)、多个第1气体导管(12)。在内侧壳(5)的内部形成施加加压处理的热区(P)。加压处理时由气流产生部(30)产生而通过第1气体导管(12)的低温的传压气体在壳间内侧流路(L1)上升后，从内侧开口部(5H)向热区(P)流入。即使在传压气体从底壁部(20)的周边漏泄而流入热区(P)的情况下，热区(P)的均热性被维持。
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公开(公告)号：CN107150456B
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201710123929.7
申请日：2017-03-03
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 本发明提供一种热等静压加压装置，其具备能够将压媒气体在冷却的同时向压力容器外排出的构造。在构成上盖（2）的上盖冷却板（10）上设有冷媒通路（15），所述上盖（2）将压力容器主体（1）的端部开口封闭；HIP装置（100）具有安装在上盖冷却板（10）的下表面（10b）（内侧面）上的流路形成板（8）。在上盖冷却板（10）与流路形成板（8）之间，形成有压媒气体的流路（20、21），该流路（20、21）一端（20a、21a）连接在压媒气体出入口（17a）上，另一端（20b、21b）在压力容器主体（1）中开口。
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公开(公告)号：CN105378415B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201480039833.7
申请日：2014-06-10
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: B30B11/002 , F27B17/00 , F27B17/0083 , F27D7/04 , F27D9/00
Abstract: 提供一种能够进行处理室内的迅速的冷却的HIP装置（1）。HIP装置（1）具备壳（3、4）、加热部（7）、高压容器（2）、蓄热器（43）、及冷却促进流路（42），前述壳（3、4）是非透气性的，前述蓄热器（43）被设置于处理室的下侧。壳（3、4）配置成形成第1循环流（41）并且形成第2循环流（42），前述第1循环流（41）为，传压介质气体穿过该壳内的内侧流路（22）及外侧流路（12）回到内侧流路（22），前述第2循环流（42）为，从第1循环流（41）分岔的传压介质气体与前述被处理物热（W）热交换后返回至第1循环流（41）。冷却促进流路（42）使与被处理物（W）热交换之后的前述第2循环流（42）的传压介质气体在该传压介质气体与前述第1循环流合流（41）之前引导至蓄热器（43），使其在该蓄热器（43）中冷却。
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