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公开(公告)号：CN119180772A
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN202411238745.1
申请日：2024-09-05
Applicant: 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城) , 湖南大学
Abstract: 本发明公开了一种基于暗通道先验的红外超透镜图像增强方法，涉及图像增强技术领域；本发明首先计算红外超透镜图像对应的暗通道图；利用上述暗通道图估算超透镜的散射光强；建立超透镜的图像退化模型；然后根据上述的模型、散射光强和暗通道图计算超透镜的透射率；再将散射光强和透射率代入上述的模型得到增强图像；最后结合输入图像信息对增强后的图像目标亮度进行恢复，得到最终的输出图像。利用本发明提出的方法，可以实现单帧实时提升红外超透镜图像的清晰度和对比度，且易于集成到硬件设备中部署。
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公开(公告)号：CN118818894A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410839896.6
申请日：2024-06-26
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: G03F7/00 , H01L21/027 , C09J175/14 , C09J171/02
Abstract: 本发明公开了一种高粘附比的转印印章及干式转印方法，属于微纳制造领域；在衬底上制备无粘附层金属微纳结构；衬底疏水修饰，在衬底上旋涂薄膜前体溶液退火得到纳米薄膜；将可变粘附的转印印章共形贴附在薄膜的上表面，冷却至室温后剥离薄膜，实现薄膜与硅基晶圆衬底的分离；将可变粘附的转印印章和薄膜共形贴附于受体衬底上；再次加热使得印章变软并匀速剥离印章，将薄膜释放在受体衬底上，完成薄膜的转印，去除薄膜，得到受体衬底上的金属微纳结构。光固化热响应印章采用可光固化的复合相变材料进行制备，在低温热刺激下展现出高可切换粘附比和高刚度力学性能切换。本发明方法可用于在曲面及柔性衬底上制造从纳米级到晶圆级的功能元件。
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公开(公告)号：CN118465895A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410747849.9
申请日：2024-06-11
Applicant: 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城) , 湖南大学
Abstract: 本发明公开了一种强电子干扰下成像的红外光学镜片及其制备方法，所述红外光学镜片，在红外光波段成像，并且具备较强的抗电子干扰能力，包括红外透过非导电衬底、金属网格结构和成像结构；所述红外透过非导电衬底的一侧为金属网格结构，另一侧为成像结构；强电子干扰下成像的基本过程如下：红外光学镜片在红外透过非导电衬底上，对红外透过非导电衬底两侧布设亚波长尺寸的微纳尺度孔隙结构实现光场与电场调控，在金属网格结构面通过亚波长结构的光学性能与电子性能相互作用，实现光波的透过与隔绝，在成像结构面的亚波长结构与入射的电磁场相互作用，引入光学参量突变实现成像。本发明可以应用在成像、探测设备中的红外窗口。
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公开(公告)号：CN117572543A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202311722457.9
申请日：2023-12-14
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种针对远红外大面积超构透镜、增透膜设计及加工方法，包括基底Si层，包括相对布置的上表面和下表面；所述基底Si层的上表面由内到外依次设置有第一ZnSe层、第一MgF2层和纳米微柱阵列层；所述基底Si层的下表面由内到外依次设置有第二ZnSe层和第二MgF2层。所提供的针对远红外大面积超构透镜，有效提高了超构透镜在远红外宽波段的透过率，特别是大幅度提高超构透镜在远红外波段(8‑14μm)的透过率，同时具有制备简单和膜层致密等特点，并且有效减少了增透膜的层数及厚度，使的最小膜层厚度维持在加工的稳定性范围内，从而提高了实际生产的稳定性。
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公开(公告)号：CN115216177B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202210587458.6
申请日：2022-05-25
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: C09D11/101 , C09D11/03 , C09D11/033 , G03F7/16 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 本发明公开了一种改性感光油墨辅助的大面积金属图案化材料及其制备方法，所述改性感光油墨按质量百分比组份包括感光油墨，80‑95％；溶剂，5‑20％；活性助剂，0.5‑2％；通过精准调控感光油墨材料表面能及控制转移时的参数(剥离温度、剥离速度、等)改变界面结合能，实现感光油墨结构全干法转印。并利用离子束溅射等金属沉积工艺，在柔性基底上加工出高密度可延展金属导电结构。该发明不仅解决了牺牲层辅助转印和湿法蚀刻带来的性能不匹配、界面失稳等问题，还通过实现感光油墨结构全干法转印原位制备金属图案，从而提高了大变形情况下金属结构的稳定性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115216177A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202210587458.6
申请日：2022-05-25
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: C09D11/101 , C09D11/03 , C09D11/033 , G03F7/16 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 本发明公开了一种改性感光油墨辅助的大面积金属图案化材料及其制备方法，所述改性感光油墨按质量百分比组份包括感光油墨，80‑95％；溶剂，5‑20％；活性助剂，0.5‑2％；通过精准调控感光油墨材料表面能及控制转移时的参数(剥离温度、剥离速度、等)改变界面结合能，实现感光油墨结构全干法转印。并利用离子束溅射等金属沉积工艺，在柔性基底上加工出高密度可延展金属导电结构。该发明不仅解决了牺牲层辅助转印和湿法蚀刻带来的性能不匹配、界面失稳等问题，还通过实现感光油墨结构全干法转印原位制备金属图案，从而提高了大变形情况下金属结构的稳定性。
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公开(公告)号：CN118795728A
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202410839894.7
申请日：2024-06-26
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种近零粘附光刻胶及干式光刻方法，属于微纳制造领域；所述近零粘附光刻胶包括：40‑99%光刻胶，0‑60%溶剂，0.4‑12%两亲性分子助剂；所述方法包括：在衬底上旋涂光刻胶前体溶液退火得到光刻胶薄膜，通过曝光、显影完成光刻胶结构的制备；光刻胶作为掩模进行金属或氧化物镀膜或者刻蚀；将胶带共形贴附在光刻胶的上表面，剥离光刻胶，剥离过程仅需使用胶带机械剥离，从而避免任何有机溶剂和有毒剥离剂的使用；得到硬质晶圆衬底上的金属或氧化物微纳结构或刻蚀后的微纳结构。用近零粘附光刻胶的可转移特性，该方法可以拓展到曲面衬底和柔性聚合物衬底的干式剥离光刻工艺，利于拓展光刻技术在柔性电子、生物电子、人机界面等领域的应用。
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公开(公告)号：CN117872640A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202311722461.5
申请日：2023-12-14
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: G02F1/1335 , G02B1/00
Abstract: 本发明公开了一种基于超构表面的反射式空间光调制器，包括设置在向列相液晶层上方的第一结构层和设置在设置在向列相液晶层下方的第二结构层，所述第一结构层包括从下至上依次设置的第二层光致取向层、氧化铟锡透明电极和顶层透明介质衬底，所述第二结构层包括从下至上依次设置的硅基衬底、金属反射层、间隔层、超构表面结构和第一层光致取向层，其中所述超构表面结构上间隔设置有介质填充层，并且所述第一结构层和第二结构层之间通过电压控制器连接。本发明通过共振来实现相位的调制，大大降低了器件的厚度，缩小器件工作时液晶分子所需转动角度，带来降低器件驱动电压；提高器件刷新率；降低像素大小，提高分辨率等各种优势。
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公开(公告)号：CN116224268A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202211739270.5
申请日：2022-12-30
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种用于无标记肿瘤组织的高光谱显微成像分析系统，包括依次连接的超构表面载玻片、高光谱成像系统和医学光学分析算法系统；所述超构表面载玻片包括从下至上依次设置的玻璃衬底、超表面微结构和生物相容性的涂料，组织切片放置在超表面微结构上。本发明针对目前传统癌症诊断技术存在高成本、低灵敏度、早期诊断困难和过度依赖医师经验等问题，面向在可见光范围内以无标记的方式实现对肿瘤组织的区分与识别，开发出与图像传感器构成快速、动态、高光谱分辨率的光谱成像系统，以图像位置提取光谱信息的方式来辅助医生的病理诊断，降低漏诊或误诊的可能性。
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公开(公告)号：CN119002184A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410839897.0
申请日：2024-06-26
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种大面积纳米结构紫外接触式光刻方法，涉及微纳制造领域；该方法通过使用近零粘附的可转印光刻胶作为中间介质薄膜，确保了光刻胶与光刻掩模版之间的零间隙柔性软接触，实现了光刻掩模版结构的1:1高保真复制，进而实现了大面积纳米结构的低成本光刻制造。本发明实现了高效、低成本的完美共形接触式光刻，能够用于构建大面积、亚微米分辨率的无拼接结构；可实现对溶剂不兼容衬底、曲面不规则衬底及柔性衬底的光刻制造，并提高光刻掩模版的使用寿命。本发明有效克服了传统接触式光刻所面临的诸多挑战，有望显著推动光刻技术及微纳米制造技术的发展。
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