公开(公告)号：CN104698755A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201410211435.0

申请日：2014-05-19

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 权孝英 ,  南宫烂 ,  姜真熙 ,  李范珍 ,  田桓承

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/016

CPC classification number: G03F7/0233

Abstract: 本发明公开了正性光敏树脂组合物、光敏树脂膜及使用其的显示装置。所述正性光敏树脂组合物包括：(A)包含由以下化学式1表示的重复单元的碱溶性树脂；(B)光敏重氮醌化合物；以及(C)溶剂，[化学式1]在以上化学式1中，各取代基与在具体实施方式中定义的相同。

公开(公告)号：CN103959170A

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN201280059402.8

申请日：2012-11-21

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权孝英 ,  赵娟振 ,  金润俊 ,  金永珉 ,  尹龙云 ,  李忠宪

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  C07C35/44

CPC classification number: C07C39/14 ,  B05D1/005 ,  B05D3/007 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/06 ,  C07C39/12 ,  C07C2603/50 ,  C07C2603/54 ,  C09D173/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36

Abstract: 本发明涉及一种由化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包括该单体的硬掩模组合物、以及使用其的图案形成方法。

公开(公告)号：CN104854507B

公开(公告)日：2019-06-04

申请号：CN201380064963.1

申请日：2013-07-08

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 权智慧 ,  权孝英 ,  南成龙 ,  吴世一 ,  禹昌秀 ,  李连洙 ,  李昌珉 ,  崔承集 ,  河京珍

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  H01L51/50

Abstract: 本发明涉及：一种可光固化组合物，包含(A)可光固化单体和(B)包含磷和酰胺基团的单体；以及包括由所述组合物形成的阻挡层的设备。

公开(公告)号：CN103901727B

公开(公告)日：2017-06-09

申请号：CN201310239669.1

申请日：2013-06-17

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 李俊昊 ,  权孝英 ,  田桓承

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0233

Abstract: 本发明提供了一种正感光性树脂组合物、由其制造的有机绝缘膜和显示装置。所述正感光性树脂组合物包含：（A）选自包含由下列化学式1表示的重复单元的化合物和包含由下列化学式2表示的重复单元的化合物中的至少一种溶解控制剂，（B）聚苯并噁唑前体，（C）感光性重氮醌化合物，和（D）溶剂。[化学式1][化学式2]在化学式1和2中，各个取代基与具体实施方式中限定的相同。

公开(公告)号：CN105229532A

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201380075787.1

申请日：2013-11-05

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 金民兼 ,  权孝英 ,  李俊昊 ,  田桓承

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  G03F7/26

Abstract: 提供一种用于抗蚀剂底层膜的组合物，所述组合物包括化合物与溶剂，所述化合物包含由化学式1表示的部分。在化学式1中，A1至A3、X1、X2、L1、L2、Z以及m分别定义于说明书中。

公开(公告)号：CN104570608A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201410214041.0

申请日：2014-05-20

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 南宫烂 ,  权孝英 ,  田桓承

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/016

CPC classification number: G03F7/023 ,  C08G69/26 ,  C08G73/22 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明公开了正型光敏树脂组合物、使用其制备的光敏树脂膜以及显示装置。所述正型光敏树脂组合物包含：（A）聚苯并噁唑前体，在端基处包括被约400nm至约550nm波长区的光分解并且酸化的官能团；（B）光敏重氮醌化合物；以及（C）溶剂。

公开(公告)号：CN104122754A

公开(公告)日：2014-10-29

申请号：CN201310546101.4

申请日：2013-11-06

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 权孝英 ,  金民兼 ,  李俊昊 ,  田桓承

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/092

Abstract: 本发明公开了抗蚀剂下层组合物、图案形成方法以及包括该图案的半导体集成电路装置。该抗蚀剂下层组合物包括包含由以下化学式1表示的部分的化合物和溶剂。在上述化学式1中，A1、A2、B1、R1、R2与具体实施方式中所定义的相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN104024940A

公开(公告)日：2014-09-03

申请号：CN201280065648.6

申请日：2012-11-29

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 金润俊 ,  田桓承 ,  赵娟振 ,  尹龙云 ,  李忠宪 ,  权孝英 ,  崔有廷

IPC: G03F7/11 ,  G03F1/38 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C39/21 ,  C07C39/225 ,  C08G65/38 ,  G03F1/00 ,  G03F7/094 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/31144

Abstract: 本发明涉及一种由式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及使用该硬掩模组合物形成图案的方法。