硬掩模组合物和形成图案的方法、以及包括图案的半导体集成电路器件

    公开(公告)号:CN102540729B

    公开(公告)日:2014-01-08

    申请号:CN201110315277.X

    申请日:2011-10-17

    CPC classification number: G03F7/094

    Abstract: 本发明提供了硬掩模组合物和形成图案的方法、以及包括图案的半导体集成电路器件。所述硬掩模组合物包括含芳环化合物和溶剂,所述含芳环化合物包括由以下化学式1表示的部分和由以下化学式2表示的部分中的至少一种。在化学式1或2中,Ar、R1至R3以及n如在详细描述中所定义。此外,提供了通过使用硬掩模组合物用于形成图案的方法、以及包括通过图案形成方法形成的多个图案的半导体集成电路器件。根据本发明的硬掩模组合物具有优异的间隙填充性能和平面化特性以及改善的耐蚀刻性和光学性能。[化学式1][化学式2]

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