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公开(公告)号：CN118725416A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410352703.4
申请日：2024-03-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供一种成型用材料，以规定范围的含量包含纤维素纤维，并且能够适用于强度以及耐冲击性优异的成型体的制造，成型体制造时的成型性优异。本发明的成型用材料包含纤维素纤维和特定纤维素衍生物，所述特定纤维素衍生物的纤维素所具有的构成羟基的氢原子的一部分被下述式(1)的通式的化学结构取代，并且所述氢原子的另一部分被下述式(2)的通式的化学结构取代，所述纤维素纤维的含量为50质量％以上且70质量％以下，‑(C＝O)RB (1)，‑(C＝O)RC‑IL (2)，#imgabs0#
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公开(公告)号：CN106009899B
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：CN201610090151.X
申请日：2016-02-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大竹俊裕
IPC: C09D11/10 , C09D11/106 , C09D11/03 , C08F285/00 , C08F251/02 , C08B15/00 , B33Y70/10 , B33Y70/00 , C09K19/44 , C09K19/46 , B29C67/00 , B33Y80/00 , A61L31/04
Abstract: 本发明提供理想地用于制造包含纤维素类材料且具有良好强度的造形物的组合物，并且提供包含纤维素类材料且具有良好强度的造形物，并且提供能够高效率地制造包含纤维素类材料且具有良好强度的造形物的造形物的制造方法。本发明的组合物的特征在于包含具有液晶性官能团的纤维素衍生物和具有反应性官能团的液晶性溶剂。优选地，所述反应性的官能团包含碳碳双键。优选地，所述反应性官能团是(甲基)丙烯酰基。
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公开(公告)号：CN112300331A
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN202010730890.7
申请日：2020-07-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大竹俊裕
IPC: C08F265/04 , C08F220/38 , C08F120/34 , C08F220/34 , C08F293/00 , C08F285/00 , C08F226/06 , C08F230/00 , C08F220/36 , C09D11/322 , C09D11/30 , C09D17/00
Abstract: 本申请公开了一种颜料的分散性以及记录物的坚牢性良好的高分子分散剂、色料分散液及油墨组合物。一种高分子分散剂，具有第一嵌段和第二嵌段，所述第一嵌段包含来自第一单体的结构单元，该第一单体具有咪唑鎓盐部位和疏水性部位；所述第二嵌段包含来自第二单体的结构单元，该第二单体具有咪唑鎓盐部位和亲水性部位。
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公开(公告)号：CN106009899A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610090151.X
申请日：2016-02-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大竹俊裕
IPC: C09D11/10 , C09D11/106 , C08F285/00 , C08F251/02 , C08B15/00 , B33Y70/00 , C09K19/44 , C09K19/46 , B29C67/00 , B33Y80/00 , A61L31/04
CPC classification number: C09D101/10 , A61L31/042 , B29C64/124 , B29K2001/08 , B29K2105/0002 , B29K2105/0079 , B33Y10/00 , B33Y70/00 , B33Y80/00 , C08B3/00 , C08L1/10 , C09D11/101 , C09D11/14 , C09D11/36 , C09D11/10 , A61L31/048 , C08B15/00 , C08F251/02 , C08F285/00 , C09D11/106 , C09K19/44 , C09K19/46 , C09K2219/01 , C08L51/02 , C08F220/36 , C08F220/34
Abstract: 本发明提供理想地用于制造包含纤维素类材料且具有良好强度的造形物的组合物，并且提供包含纤维素类材料且具有良好强度的造形物，并且提供能够高效率地制造包含纤维素类材料且具有良好强度的造形物的造形物的制造方法。本发明的组合物的特征在于包含具有液晶性官能团的纤维素衍生物和具有反应性官能团的液晶性溶剂。优选地，所述反应性的官能团包含碳碳双键。优选地，所述反应性官能团是(甲基)丙烯酰基。
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公开(公告)号：CN103490004A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310218292.1
申请日：2013-06-04
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L41/193 , H01L41/09
CPC classification number: H01L41/193 , B82Y30/00 , F03G7/005 , Y10S977/832
Abstract: 本发明提供能够以低电压产生大的变位的变形材料、以及使用其的驱动器。本发明的变形材料，其特征在于，包含通过氧化还原反应而分子的结构发生改变的刺激响应性化合物和电子导电性物质，所述刺激响应性化合物为通过聚合性官能团聚合而成的聚合物。所述电子导电性物质在变形材料中优选为粒子状。另外，所述电子导电性物质的平均粒径优选为1nm以上10μm以下。另外，作为所述电子导电性物质优选包含碳材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101369034A
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200810133621.1
申请日：2008-07-16
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大竹俊裕
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3058 , Y10T428/2457
Abstract: 本发明提供一种光学元件及其制造方法、液晶装置以及电子设备，其中该光学元件是在形成光学元件的保护层的工序中，通过不使保护层的材料流入到相邻的凸起体之间而在凸起体之间确实可靠地形成空洞部，从而提供具有出色的光学特性和耐久性的光学元件。光学元件(20)是具有偏振光分离功能的光学元件，其特征在于，具有：由配置在基底(21)上的导体构成的多个相互大致平行的直线状凸起体(22)、和覆盖多个凸起体(22)的上部且配置成在相邻的凸起体(22)之间形成空洞部(26)的保护层(24)；凸起体(22)的宽度，从凸起体(22)的高度的1/2的位置且在保护层(24)侧为最大。
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公开(公告)号：CN1331007C
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200310121331.2
申请日：2003-12-11
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G03F1/00
Abstract: 本发明提供一种电光装置用基板，其特征在于，具有：基板；在基板上形成的、在表面上具有多个凹部或凸部的基底层；在基底层的上边形成的、具有光反射性的反射层，多个凹部或凸部，被形成为不与基底层的缘端进行交叉。倘采用该电光装置用基板，由于凹凸面已被曝光为使其与基底层的缘端离开，故要形成缘端的侧壁面大体上变成为平坦面。因此，在感光性材料的显影处理时，就可以避免构成基底层的感光性材料的一部分发生剥离或再附着等的缺憾。
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公开(公告)号：CN1312517C
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200410062394.X
申请日：2004-07-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133514 , G02F2001/136222 , G02F2203/09
Abstract: 提供一种半透射反射型的电光装置中可以容易地分别调整反射型显示以及透射型显示的色显示特性的滤色器基板、半透射反射基板、滤色器基板的制造方法、电光装置以及电子设备。该滤色器基板20’具有基板21、设置在基板21上的树脂层22、设置在树脂层22上的具有反射部26b以及透射部26b的反射层23、以及设置在反射层23上的着色层25。在对应于树脂层22的至少一部分的区域上，以与该透射部26b对应设置的着色层25相同的颜色进行着色。
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公开(公告)号：CN1506758A
公开(公告)日：2004-06-23
申请号：CN200310121331.2
申请日：2003-12-11
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G03F1/00
CPC classification number: G02F1/133553 , G02F1/133555 , G02F1/1339
Abstract: 本发明提供一种电光装置用基板，其特征在于，具有：基板；在基板上形成的、在表面上具有多个凹部或凸部的基底层；在基底层的上边形成的、具有光反射性的反射层，多个凹部或凸部，被形成为不与基底层的缘端进行交叉。倘采用该电光装置用基板，由于凹凸面已被曝光为使其与基底层的缘端离开，故要形成缘端的侧壁面大体上变成为平坦面。因此，在感光性材料的显影处理时，就可以避免构成基底层的感光性材料的一部分发生剥离或再附着等的缺憾。
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公开(公告)号：CN1450392A
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：CN03110354.5
申请日：2003-04-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/08 , G03F7/00
CPC classification number: G02B5/08 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , G02B27/0025 , G02F1/133555 , G03F1/00
Abstract: 本发明的课题是，提供用于制造干涉条纹的发生少的光反射膜的掩模、使用该掩模的光反射膜、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹的发生少的光反射膜的光学显示装置和具有干涉条纹的发生少的光反射膜的电子装置。使用以RGB点100～2,000个或整个画面为一个单位使光透过部或光不透过部在平面方向随机地排列的用于制造带光反射膜的基板的掩模，作成以RGB点100～2,000个或整个画面为一个单位使该多个凸部或凹部在平面方向随机地排列的带光反射膜的基板。
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