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公开(公告)号：CN112300331B
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202010730890.7
申请日：2020-07-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大竹俊裕
IPC: C08F265/04 , C08F220/38 , C08F120/34 , C08F220/34 , C08F293/00 , C08F285/00 , C08F226/06 , C08F230/00 , C08F220/36 , C09D11/322 , C09D11/30 , C09D17/00
Abstract: 本申请公开了一种颜料的分散性以及记录物的坚牢性良好的高分子分散剂、色料分散液及油墨组合物。一种高分子分散剂，具有第一嵌段和第二嵌段，所述第一嵌段包含来自第一单体的结构单元，该第一单体具有咪唑鎓盐部位和疏水性部位；所述第二嵌段包含来自第二单体的结构单元，该第二单体具有咪唑鎓盐部位和亲水性部位。
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公开(公告)号：CN101446710A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200810181920.2
申请日：2008-11-28
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02F1/1339 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/133377 , G02F1/133512 , G02F1/134363
Abstract: 提供一种更简单构造的半透射反射型的液晶装置、该液晶装置的制造方法、包括该液晶装置的电子设备。本应用例的液晶装置(100)包括：作为一对基板的元件基板(10)和对置基板(20)；在1个子像素内具有反射显示区域R和透射显示区域T的多个子像素SG；以及隔开被元件基板(10)和对置基板(20)夹持的反射显示区域R和透射显示区域T，并且分别划分多个子像素SG的间隔部(21)；在一对基板之间，在由间隔部(21)划分出的反射显示区域R中封入由第一液晶构成的第一液晶层(50a)，在由间隔部(21)划分出的透射显示区域T中封入由第二液晶构成的第二液晶层(50b)，将第一液晶层(50a)中的反射光的相位差值和第二液晶层(50b)中透射光的相位差值设置为大致相等。
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公开(公告)号：CN101446708A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200810177438.1
申请日：2008-11-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02F1/1337 , G02F1/1333 , G02F1/13363
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/133512 , G02F1/133514 , G02F1/13363 , G02F2001/133565 , G02F2413/09
Abstract: 提供一种减少相位差膜的外周部的漏光的图像质量好的半透射反射型的液晶装置及其制造方法。本适用例的液晶装置(100)包括：作为一对基板的元件基板(10)及相对基板(20)，被元件基板(10)和相对基板(20)夹持的液晶层(50)，在1个子像素SG内具有反射显示区R和透射显示区T的多个像素，以及设置在反射显示区R中的相位差膜(26)；在相对基板(20)的液晶层(50)侧设置区分相位差膜(26)的遮光性的隔壁部(61)。
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公开(公告)号：CN1617046A
公开(公告)日：2005-05-18
申请号：CN200410088963.8
申请日：2004-11-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G03F1/00 , G03F7/20 , G02F1/1335 , G02F1/133 , H01L21/00
CPC classification number: G03F7/0005 , G02F1/133555 , G03F1/50
Abstract: 本发明可藉助简易制造工序得到具有良好的光散射效果的反射层。本发明的曝光用掩模7a用于将膜体51的被加工区域511制作成为粗糙面的曝光处理中。此曝光用掩模7a具有第一区域71和第二区域72。其中第一区域71用作使射向被加工区域511的周边的光透射的透光部81。另一方面，第二区域72，在包含分别设置遮蔽射向被加工区域511的光的遮光部84的多个点区域721的同时，在点区域721以外的区域设置以低于透光部81的光透射率使射向被加工区域511的光透射的半透射部86。
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公开(公告)号：CN106009938A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610089604.7
申请日：2016-02-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大竹俊裕
IPC: C09D101/10 , C09D11/107
CPC classification number: C09D101/10 , A61L31/042 , B29C64/124 , B29K2001/08 , B29K2105/0002 , B29K2105/0079 , B33Y10/00 , B33Y70/00 , B33Y80/00 , C08B3/00 , C08B3/10 , C08L1/10 , C09D11/10 , C09D11/101 , C09D11/106 , C09D11/107 , C09D11/30 , C09D11/54 , C08L33/26
Abstract: 提供一种能适用于制造含有纤维素系材料，且强度优异的造形物的组合物组，并提供一种含有纤维素系材料并且强度优异的造形物，以及提供一种能高效地制造含有纤维素系材料，且强度优异的造形物的造形物的制造方法。本发明的组合物组的特征在于，具备第一组合物，其含有具有液晶性官能团的纤维素衍生物，以及第二组合物，其含有具有反应性官能团的液晶性化合物，并能够以液体状态存在。所述第一组合物优选的是，其表面的至少一部分含有由所述纤维素衍生物构成的粒子。此外，所述第一组合物优选的是，含有作为分散所述粒子的分散介质发挥作用的液体成分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104508015A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201380039036.4
申请日：2013-08-08
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大竹俊裕
CPC classification number: C08L83/04 , C08C19/10 , C08G77/28 , C08G77/48 , C08G77/80 , C08J7/12 , C08K3/04 , C08K7/24 , H01B1/24 , Y10T428/2982 , C08L83/14
Abstract: 本发明提供一种能够以低电压大幅发生位移的刺激响应性化合物、变形材料及使用其的驱动器。本发明的刺激响应性化合物具有：一对聚硅氧烷链、将一对聚硅氧烷链之间进行交联的交联部、和键合于聚硅氧烷链的液晶部；交联部具有：单元A，其具有作为旋转轴发挥作用的键、且具有位于该键的一端的第1基团和位于键的另一端的第2基团；配置于第1基团的第1键合部位的第1单元B；配置于第2基团的第1键合部位的第2单元B，第1单元C和第2单元C；第1单元C与一对聚硅氧烷链中的一条链键合，第2单元C与一对聚硅氧烷链中的另一条链键合，第1单元B与第2单元B通过还原反应而键合。
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公开(公告)号：CN101290422A
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200810092265.3
申请日：2008-04-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大竹俊裕
IPC: G02F1/1335 , G02F1/1337 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/13363 , G02F1/133555 , G02F2001/133565 , G02F2001/133633 , G02F2001/133638 , G02F2413/02 , G02F2413/07 , G02F2413/09
Abstract: 本发明的液晶装置(100)具备夹持液晶层(50)的一对基板(10、20)，在一个子像素区域内设置进行反射显示的反射显示区域(R)和进行透过显示的透过显示区域(T)，在所述一对基板中的一个基板(20)的反射显示区域(R)所对应的区域上设置相位差层(60)，所述相位差层(60)通过隔着取向膜(第一取向膜61、第二取向膜63)层叠多个液晶材料层(第一相位差层62和第二相位差层64)而形成。由此，提供一种能形成光学特性优异的相位差的液晶装置。
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公开(公告)号：CN1191488C
公开(公告)日：2005-03-02
申请号：CN02154087.X
申请日：2002-12-10
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335 , G09F9/35
CPC classification number: G02F1/133512 , G02F2201/48 , G02F2203/02
Abstract: 在液晶装置等的基板结构中，在多个显示用点与点间区域之间，抑制在表面形成凹凸。另外，确保遮光层与由该层包围的层例如着色层之间的平坦性。是具有形成多个显示用点D的基材1、设置在基材1上的基底层4、设置在基底层4上的发射层2和设置在发射层2上的着色层3r、g、b。基底层4设置在与显示用点D对应的区域，不设置在多个显示用点D间的区域。在该点D间区域形成凹陷，遮光层3k填入到该凹陷中，所以，遮光层3k与着色层3r、g、b成为平坦的。
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公开(公告)号：CN1497352A
公开(公告)日：2004-05-19
申请号：CN200310100065.5
申请日：2003-10-08
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 采用掩模对在基板上形成的感光性树脂进行曝光。该曝光中，通过适当设定掩模的透光部大小、和曝光间隙，将感光性树脂表面上的曝光强度分布构成为沿着其表面呈曲线状增减变化，通过用该曝光强度分布进行了曝光之后进行显影，形成具有表面凹凸形状的树脂层。之后，在该树脂层上形成由金属薄膜等构成的反射层。
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公开(公告)号：CN1450393A
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：CN03110403.7
申请日：2003-04-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/08 , G03F7/00
CPC classification number: G02F1/133553 , G02B5/08
Abstract: 本发明提供一种用以制造干涉条纹产生少的光反射膜的掩模、用该掩模形成的附光反射膜的基片、光反射膜的制造方法、设有干涉条纹产生少的光反射膜的光学显示装置、以及设有干涉条纹产生少的光反射膜的电器。其解决手段是采用透光部分或不透光部分由随机函数分配的、在平面上随机配置的掩模，制作在基体材料上形成的多个凸部或凹部在平面方向上随机配置的光反射膜。
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