公开(公告)号：CN110168703A

公开(公告)日：2019-08-23

申请号：CN201780081552.1

申请日：2017-12-22

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 茅洼大辅 ,  长沼纯

IPC: H01L21/304 ,  C11D3/04 ,  C11D3/20 ,  C11D3/34 ,  C11D7/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/34 ,  C11D17/08

Abstract: 本发明在一种实施方式中提供一种用于半导体装置用基板的清洗剂组合物，其对于氧化铈的清洗性优异，且可抑制氧化铈的溶解性的经时变化。本发明在一种实施方式中涉及一种用于半导体装置用基板的清洗剂组合物，其含有下述成分A、下述成分B、下述成分C及下述成分D。成分A：硫酸成分B：抗坏血酸成分C：硫脲及二硫苏糖醇中的至少一种成分D：水。

公开(公告)号：CN104853853A

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201380063534.2

申请日：2013-12-03

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 青野信幸 ,  长沼纯 ,  宫本定治

IPC: B08B3/08 ,  C11D7/04 ,  C11D7/32 ,  C11D17/08 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

CPC classification number: G11B23/505 ,  C11D1/02 ,  C11D1/72 ,  C11D3/04 ,  C11D3/044 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D7/06 ,  C11D7/3209 ,  C11D11/0035

Abstract: 本发明提供一种抑制在碱清洗中的玻璃基板表面粗糙度变差、可进一步提高清洗性的玻璃基板的清洗方法。在一种或数种实施方式中，本发明的玻璃基板的清洗方法包括使被清洗玻璃基板与清洗剂组合物接触，所述清洗剂组合物含有包含1个以上且10个以下氮原子的胺以及无机碱，相对于所述清洗剂组合物的水以外的成分的总质量，所述胺的含量为5.00质量％以上且70.00质量％以下，所述被清洗玻璃基板为结晶化玻璃基板，清洗时的清洗剂组合物的pH值为9.00以上且11.50以下。

公开(公告)号：CN113165027B

公开(公告)日：2023-07-07

申请号：CN201980080692.6

申请日：2019-12-04

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 长沼纯 ,  司马宽也

IPC: B08B3/08 ,  C11D1/72 ,  C11D3/20 ,  C11D3/32

Abstract: 本公开在一个方式中提供一种助焊剂除去性优异的清洗方法。本公开在一个方式中涉及一种清洗方法，其包括利用清洗剂组合物对具有助焊剂残渣的被清洗物进行清洗的工序，上述清洗剂组合物含有有机溶剂(成分A)、及在咪唑环或哌嗪环的氮原子上具有碳数1以上且4以下的烷基的化合物(成分B)。

公开(公告)号：CN113557323A

公开(公告)日：2021-10-26

申请号：CN202080020092.3

申请日：2020-05-28

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 龟上翔吾 ,  长沼纯 ,  司马宽也 ,  沟奥隆司 ,  阿良田龙哉 ,  木村彰克 ,  堀宽 ,  若狭崇志 ,  高力骏介

IPC: C23F11/12 ,  C10M129/16 ,  C10M141/06 ,  C10N30/12

Abstract: 本发明提供不仅对铁构件也对非铁金属构件具有优异的防锈、防腐蚀性能、能够长时间防止锈、腐蚀的防锈剂、含有上述防锈剂的防锈剂组合物、被膜形成材料、由上述防锈剂、上述防锈剂组合物、或上述被膜形成材料得到的被膜、及具有上述被膜的金属部件。本发明的防锈剂含有至少1种由下述化学式(1)表示的化合物。(式中，R1为氢原子或碳数1以上且33以下的脂肪族烃基，R2为碳数1以上且33以下的脂肪族烃基，R1与R2的合计碳数为1以上且34以下，X为单键或碳数1以上且5以下的脂肪族烃基，A1和A2中的任意一者为‑OH，另一者为‑O‑CH2‑CH(OH)‑CH2OH或‑O‑CH(‑CH2‑OH)2。)(1)：

公开(公告)号：CN113165093A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980080694.5

申请日：2019-12-04

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 司马宽也 ,  长沼纯

IPC: B23K1/00 ,  B08B3/08 ,  C11D7/32 ,  C11D7/36 ,  C11D7/50 ,  H05K3/34

Abstract: 本公开在一个方式中提供一种确保稳定的液体状态且助焊剂除去性及锡除去性优异的助焊剂残渣除去用清洗剂组合物。本公开在一个方式中涉及：含有溶剂(成分A)、汉森溶解度参数的极性项(δp)为7.8以下的胺(成分B)、及下述式(VI)所表示的二膦酸(成分C)的助焊剂残渣除去用清洗剂组合物；或者配合成分A、成分B及成分C而成的助焊剂残渣除去用清洗剂组合物。

公开(公告)号：CN104853853B

公开(公告)日：2018-02-06

申请号：CN201380063534.2

申请日：2013-12-03

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 青野信幸 ,  长沼纯 ,  宫本定治

IPC: B08B3/08 ,  C11D7/04 ,  C11D7/32 ,  C11D17/08 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

CPC classification number: G11B23/505 ,  C11D1/02 ,  C11D1/72 ,  C11D3/04 ,  C11D3/044 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D7/06 ,  C11D7/3209 ,  C11D11/0035

Abstract: 本发明提供一种抑制在碱清洗中的玻璃基板表面粗糙度变差、可进一步提高清洗性的玻璃基板的清洗方法。在一种或数种实施方式中，本发明的玻璃基板的清洗方法包括使被清洗玻璃基板与清洗剂组合物接触，所述清洗剂组合物含有包含1个以上且10个以下氮原子的胺以及无机碱，相对于所述清洗剂组合物的水以外的成分的总质量，所述胺的含量为5.00质量％以上且70.00质量％以下，所述被清洗玻璃基板为结晶化玻璃基板，清洗时的清洗剂组合物的pH值为9.00以上且11.50以下。