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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103180902B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201180051246.6
申请日：2011-10-26
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C03C15/02 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C09G1/02 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种玻璃硬盘基板的制造方法，其具有将玻璃基板用酸性研磨液进行研磨后进行碱洗涤的工序，其能够在研磨工序中维持研磨速度的状态下、抑制碱洗涤工序中的玻璃基板的表面粗糙度的恶化、进而还能够提高清洁性。一种玻璃硬盘基板的制造方法，其包括以下工序(1)及(2)：(1)使用含有分子内具有2～10个氮原子的多元胺化合物的pH1.0～4.2的研磨液组合物，对被研磨玻璃基板进行研磨的工序；(2)将工序(1)中获得的基板，用pH8.0～13.0的洗涤剂组合物进行洗涤的工序。
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公开(公告)号：CN107532115A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680024905.X
申请日：2016-06-09
Applicant: 花王株式会社
Inventor： 青野信幸
CPC classification number: C11D3/30 , C11D1/002 , C11D1/22 , C11D3/37 , C11D11/0035 , G11B5/84 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种清洗性较高且可抑制基板的表面粗糙度恶化的玻璃制硬盘基板用清洗剂组合物。在一个实施方式中，本发明涉及一种玻璃制硬盘基板用清洗剂组合物，其含有下述式(I)所表示的胺(成分A)及下述式(II)所表示的表面活性剂(成分B)。
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公开(公告)号：CN104853853B
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201380063534.2
申请日：2013-12-03
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: G11B23/505 , C11D1/02 , C11D1/72 , C11D3/04 , C11D3/044 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D7/06 , C11D7/3209 , C11D11/0035
Abstract: 本发明提供一种抑制在碱清洗中的玻璃基板表面粗糙度变差、可进一步提高清洗性的玻璃基板的清洗方法。在一种或数种实施方式中，本发明的玻璃基板的清洗方法包括使被清洗玻璃基板与清洗剂组合物接触，所述清洗剂组合物含有包含1个以上且10个以下氮原子的胺以及无机碱，相对于所述清洗剂组合物的水以外的成分的总质量，所述胺的含量为5.00质量％以上且70.00质量％以下，所述被清洗玻璃基板为结晶化玻璃基板，清洗时的清洗剂组合物的pH值为9.00以上且11.50以下。
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公开(公告)号：CN104853853A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201380063534.2
申请日：2013-12-03
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: G11B23/505 , C11D1/02 , C11D1/72 , C11D3/04 , C11D3/044 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D7/06 , C11D7/3209 , C11D11/0035
Abstract: 本发明提供一种抑制在碱清洗中的玻璃基板表面粗糙度变差、可进一步提高清洗性的玻璃基板的清洗方法。在一种或数种实施方式中，本发明的玻璃基板的清洗方法包括使被清洗玻璃基板与清洗剂组合物接触，所述清洗剂组合物含有包含1个以上且10个以下氮原子的胺以及无机碱，相对于所述清洗剂组合物的水以外的成分的总质量，所述胺的含量为5.00质量％以上且70.00质量％以下，所述被清洗玻璃基板为结晶化玻璃基板，清洗时的清洗剂组合物的pH值为9.00以上且11.50以下。
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公开(公告)号：CN103180902A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201180051246.6
申请日：2011-10-26
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C03C15/02 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C09G1/02 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种玻璃硬盘基板的制造方法，其具有将玻璃基板用酸性研磨液进行研磨后进行碱洗涤的工序，其能够在研磨工序中维持研磨速度的状态下、抑制碱洗涤工序中的玻璃基板的表面粗糙度的恶化、进而还能够提高清洁性。一种玻璃硬盘基板的制造方法，其包括以下工序(1)及(2)：(1)使用含有分子内具有2～10个氮原子的多元胺化合物的pH1.0～4.2的研磨液组合物，对被研磨玻璃基板进行研磨的工序；(2)将工序(1)中获得的基板，用pH8.0～13.0的洗涤剂组合物进行洗涤的工序。
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