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公开(公告)号：CN103155103A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180037725.2
申请日：2011-08-02
Applicant: 国立大学法人大阪大学 , EMD株式会社
IPC: H01L21/205 , C23C16/509 , H01L21/3065 , H05H1/46
CPC classification number: H01L21/02104 , C23C16/24 , C23C16/509 , H01J37/3211 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/32568 , H01J37/32623 , H01J37/32834 , H01J37/32899 , H01J37/32954 , H01L21/465 , H05H1/46 , H05H2001/4667
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够根据离解的气体分子的种类或其离解能来容易地控制等离子体中的电子的能量分布的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置(10)具备：等离子体处理室(11)；与等离子体处理室(11)连通的等离子体生成室(12)；用于生成等离子体的高频天线(16)；用于控制等离子体中的电子的能量的等离子体控制板(17)；用于调整等离子体控制板(17)的位置的操作棒(171)及移动机构(172)。在该等离子体处理装置(10)中，仅通过利用移动机构(172)使操作棒(171)沿着长度方向移动来调整高频天线(16)与等离子体控制板(17)之间的距离，就能够控制在等离子体生成室(12)内生成的等离子体的电子的能量分布，因此能够容易地进行与离解的气体分子的种类或其离解能对应的等离子体处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101855947B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200880115832.0
申请日：2008-11-12
Applicant: EMD株式会社
IPC: H05H1/46 , C23C16/505 , H01L21/3065
CPC classification number: H05H1/46 , C23C16/503 , H01J37/321 , H01J37/3211 , H01J37/3266 , H01J37/3277
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够高效率地利用所产生的等离子体的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置(10)的特征在于，具备：真空容器(11)；设置成向真空容器(11)的内部空间(111)突出的天线(等离子体产生机构)支承部(12)；安装于天线支承部(12)的高频天线(等离子体产生机构)(13)。由此，安装高频天线的部分的面积变小，等离子体的利用效率提高。
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公开(公告)号：CN101855947A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN200880115832.0
申请日：2008-11-12
Applicant: EMD株式会社
IPC: H05H1/46 , C23C16/505 , H01L21/3065
CPC classification number: H05H1/46 , C23C16/503 , H01J37/321 , H01J37/3211 , H01J37/3266 , H01J37/3277
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够高效率地利用所产生的等离子体的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置(10)的特征在于，具备：真空容器(11)；设置成向真空容器(11)的内部空间(111)突出的天线(等离子体产生机构)支承部(12)；安装于天线支承部(12)的高频天线(等离子体产生机构)(13)。由此，安装高频天线的部分的面积变小，等离子体的利用效率提高。
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公开(公告)号：CN103155103B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201180037725.2
申请日：2011-08-02
Applicant: EMD株式会社
IPC: H01L21/205 , C23C16/509 , H01L21/3065 , H05H1/46
CPC classification number: H01L21/02104 , C23C16/24 , C23C16/509 , H01J37/3211 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/32568 , H01J37/32623 , H01J37/32834 , H01J37/32899 , H01J37/32954 , H01L21/465 , H05H1/46 , H05H2001/4667
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够根据离解的气体分子的种类或其离解能来容易地控制等离子体中的电子的能量分布的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置(10)具备：等离子体处理室(11)；与等离子体处理室(11)连通的等离子体生成室(12)；用于生成等离子体的高频天线(16)；用于控制等离子体中的电子的能量的等离子体控制板(17)；用于调整等离子体控制板(17)的位置的操作棒(171)及移动机构(172)。在该等离子体处理装置(10)中，仅通过利用移动机构(172)使操作棒(171)沿着长度方向移动来调整高频天线(16)与等离子体控制板(17)之间的距离，就能够控制在等离子体生成室(12)内生成的等离子体的电子的能量分布，因此能够容易地进行与离解的气体分子的种类或其离解能对应的等离子体处理。
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公开(公告)号：CN102349357B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201080011245.4
申请日：2010-03-10
Applicant: EMD株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , C23C16/505 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/3211 , H01J37/321
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，其中，在真空容器内形成强的高频感应电场且能够使等离子体的密度分布更加均匀，并且，能够防止因颗粒的发生或高频天线的导体的溅射而引起的基体污染。本发明的等离子体处理装置(10)是基于高频放电的感应耦合方式的等离子体处理装置，其特征在于，具备：真空容器(11)、在所述真空容器(11)的壁的内面(111B)和外面(111A)之间所设置的天线配置部(12)、配置于所述天线配置部(12)的且不卷绕成圈地形成终端的一个高频天线、将所述天线配置部(12)和所述真空容器的内部(112)隔开的电介质制的分隔件(15)，所述高频天线(13)的长度比该高频波的1/4波长的长度短。
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公开(公告)号：CN102349357A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201080011245.4
申请日：2010-03-10
Applicant: EMD株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , C23C16/505 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/3211 , H01J37/321
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，其中，在真空容器内形成强的高频感应电场且能够使等离子体的密度分布更加均匀，并且，能够防止因颗粒的发生或高频天线的导体的溅射而引起的基体污染。本发明的等离子体处理装置(10)是基于高频放电的感应耦合方式的等离子体处理装置，其特征在于，具备：真空容器(11)、在所述真空容器(11)的壁的内面(111B)和外面(111A)之间所设置的天线配置部(12)、配置于所述天线配置部(12)的且不卷绕成圈地形成终端的一个高频天线、将所述天线配置部(12)和所述真空容器的内部(112)隔开的电介质制的分隔件(15)，所述高频天线(13)的长度比该高频波的1/4波长的长度短。
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