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公开(公告)号：CN103383522A
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN201310153488.7
申请日：2013-04-27
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉川裕
Abstract: 本发明提供光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法，利用该光掩模能够可靠且精密地转印微细图案。光掩模在透明基板上具备转印用图案，该转印用图案具有透光部、形成有曝光光的一部分透射的半透光膜的半透光部以及形成有遮光性的膜的遮光部，其中，半透光膜相对于在转印用图案的转印中使用的曝光光的代表波长具有2%～60%的透射率，且具有90°以下的相移作用，半透光部与遮光部的边缘邻接，且形成为无法由曝光装置析像的宽度。
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公开(公告)号：CN110824828B
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN201911133180.X
申请日：2015-09-25
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/32
Abstract: 本发明提供光掩模和显示装置的制造方法。本发明得到有利地适合于显示装置制造用掩模的曝光环境、能够稳定地转印微细图案的优异的光掩模及其制造方法。一种光掩模，其具备形成在透明基板上的转印用图案，其中，所述转印用图案具有径为W1(μm)的主图案、配置在所述主图案的附近且宽度为d(μm)的辅助图案、以及配置在形成有所述主图案和所述辅助图案的区域以外的低透光部，透射所述主图案与所述辅助图案的代表波长的相位差大致为180度，径W1、宽度d、所述辅助图案的透射率T1(％)、所述低透光部的透射率T3(％)以及所述主图案的中心与所述辅助图案的宽度方向的中心的距离P(μm)具有规定的关系。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110673436B
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN201910982223.5
申请日：2015-07-16
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明涉及光掩模、光掩模的制造方法、光掩模坯料以及显示装置的制造方法。有利地适于显示装置制造用掩模的曝光环境、并且能够稳定地转印微小的图案。光掩模具有通过对成膜于透明基板上的半透光膜以及低透光膜分别进行图案化而形成的转印用图案，上述转印用图案具有：由露出上述透明基板的透光部构成的直径W1(μm)的主图案；配置于上述主图案的附近、由在上述透明基板上形成有上述半透光膜的半透光部构成的宽度d(μm)的辅助图案；以及配置于上述转印用图案的形成有上述主图案以及上述辅助图案以外的区域、在上述透明基板上至少形成有上述低透光膜的低透光部，上述主图案的直径W1、上述半透光部的透光率T1以及上述半透光部的宽度d具有规定的关系。
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公开(公告)号：CN110824828A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201911133180.X
申请日：2015-09-25
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/32
Abstract: 本发明提供光掩模和显示装置的制造方法。本发明得到有利地适合于显示装置制造用掩模的曝光环境、能够稳定地转印微细图案的优异的光掩模及其制造方法。一种光掩模，其具备形成在透明基板上的转印用图案，其中，所述转印用图案具有径为W1(μm)的主图案、配置在所述主图案的附近且宽度为d(μm)的辅助图案、以及配置在形成有所述主图案和所述辅助图案的区域以外的低透光部，透射所述主图案与所述辅助图案的代表波长的相位差大致为180度，径W1、宽度d、所述辅助图案的透射率T1(％)、所述低透光部的透射率T3(％)以及所述主图案的中心与所述辅助图案的宽度方向的中心的距离P(μm)具有规定的关系。
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公开(公告)号：CN105467745B
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201510624801.X
申请日：2015-09-25
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供光掩模和显示装置的制造方法。本发明得到有利地适合于显示装置制造用掩模的曝光环境、能够稳定地转印微细图案的优异的光掩模及其制造方法。一种光掩模，其具备形成在透明基板上的转印用图案，其中，所述转印用图案具有径为W1(μm)的主图案、配置在所述主图案的附近且宽度为d(μm)的辅助图案、以及配置在形成有所述主图案和所述辅助图案的区域以外的低透光部，透射所述主图案与所述辅助图案的代表波长的相位差大致为180度，径W1、宽度d、所述辅助图案的透射率T1(％)、所述低透光部的透射率T3(％)以及所述主图案的中心与所述辅助图案的宽度方向的中心的距离P(μm)具有规定的关系。
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公开(公告)号：CN103383523B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201310153490.4
申请日：2013-04-27
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/32 , G03F7/20 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法，能够形成微细且高精度的孔图案。光掩模具有通过对形成在透明基板上的至少半透光膜进行图案化而形成的包含透光部和半透光部的转印用图案，其中，透光部通过透明基板以5μm以下的宽度露出而形成，半透光部包围透光部，且由形成在透明基板上的半透光膜形成，半透光膜的相对于曝光光的代表波长的透射率为2%～60%、且相移量在90°以下。
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公开(公告)号：CN105467745A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201510624801.X
申请日：2015-09-25
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供光掩模和显示装置的制造方法。本发明得到有利地适合于显示装置制造用掩模的曝光环境、能够稳定地转印微细图案的优异的光掩模及其制造方法。一种光掩模，其具备形成在透明基板上的转印用图案，其中，所述转印用图案具有径为W1(μm)的主图案、配置在所述主图案的附近且宽度为d(μm)的辅助图案、以及配置在形成有所述主图案和所述辅助图案的区域以外的低透光部，透射所述主图案与所述辅助图案的代表波长的相位差大致为180度，径W1、宽度d、所述辅助图案的透射率T1(％)、所述低透光部的透射率T3(％)以及所述主图案的中心与所述辅助图案的宽度方向的中心的距离P(μm)具有规定的关系。
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