公开(公告)号：CN105074823A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：CN201480017936.3

申请日：2014-03-31

Applicant: HOYA株式会社 ,  HOYA玻璃磁盘越南第二公司

Inventor： 越阪部基延 ,  德光秀造 ,  山城祐治 ,  竹内亮太郎

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/73

CPC classification number: G11B5/8404

Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法即便在使用HDI传感器的情况下，也能够降低可引起磁头碰撞的异物缺陷。本发明包括下述研磨处理：使包含胶态二氧化硅的研磨液和研磨垫与玻璃基板的表面接触，对玻璃基板表面进行镜面研磨。作为研磨液，选择不含有含Al、Si和O的各元素的异物的研磨液，在将玻璃基板作成磁盘并用磁头进行记录再生时，上述各元素可抑制记录再生；利用该研磨液进行研磨处理。

公开(公告)号：CN103247304A

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：CN201210583685.8

申请日：2012-12-28

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 岛田隆 ,  仓田昇 ,  石川菜美 ,  山城祐治

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/725

Abstract: 本发明提供基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法。所述基板的制造方法可通过简便的方法以低成本制造高品质的基板，所述高品质基板的清洁度高、缺陷少且可优选用作对基板表面品质的要求比以往更严格的新一代磁盘用基板。所述基板优选作为例如磁盘用玻璃基板等，所述基板的制造方法包括：使用含有抛光磨粒的浆料和配备有一对抛光垫的平板，将浆料供给于抛光垫和基板之间，同时用一对抛光垫夹持基板的主表面来进行抛光的抛光处理；和在该抛光处理后实施、且在加工压力为2～6kPa、且浆料中的磨粒浓度超过0（零）且在5重量%以下、且供给到每单位面积平板的浆料流量为0.25～5ml/分钟/cm2的条件下对基板主表面进行处理的清洗处理。