基板的制造方法及磁盘的制造方法

    公开(公告)号:CN103247304B

    公开(公告)日:2017-08-01

    申请号:CN201210583685.8

    申请日:2012-12-28

    Abstract: 本发明提供基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法。所述基板的制造方法可通过简便的方法以低成本制造高品质的基板,所述高品质基板的清洁度高、缺陷少且可优选用作对基板表面品质的要求比以往更严格的新一代磁盘用基板。所述基板优选作为例如磁盘用玻璃基板等,所述基板的制造方法包括:使用含有抛光磨粒的浆料和配备有一对抛光垫的平板,将浆料供给于抛光垫和基板之间,同时用一对抛光垫夹持基板的主表面来进行抛光的抛光处理;和在该抛光处理后实施、且在加工压力为2~6kPa、且浆料中的磨粒浓度超过0(零)且在5重量%以下、且供给到每单位面积平板的浆料流量为0.25~5ml/分钟/cm2的条件下对基板主表面进行处理的清洗处理。

    基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法

    公开(公告)号:CN103247304A

    公开(公告)日:2013-08-14

    申请号:CN201210583685.8

    申请日:2012-12-28

    Abstract: 本发明提供基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法。所述基板的制造方法可通过简便的方法以低成本制造高品质的基板,所述高品质基板的清洁度高、缺陷少且可优选用作对基板表面品质的要求比以往更严格的新一代磁盘用基板。所述基板优选作为例如磁盘用玻璃基板等,所述基板的制造方法包括:使用含有抛光磨粒的浆料和配备有一对抛光垫的平板,将浆料供给于抛光垫和基板之间,同时用一对抛光垫夹持基板的主表面来进行抛光的抛光处理;和在该抛光处理后实施、且在加工压力为2~6kPa、且浆料中的磨粒浓度超过0(零)且在5重量%以下、且供给到每单位面积平板的浆料流量为0.25~5ml/分钟/cm2的条件下对基板主表面进行处理的清洗处理。

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