公开(公告)号：CN1761914A

公开(公告)日：2006-04-19

申请号：CN200480007046.0

申请日：2004-03-18

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 赤川裕之

IPC: G03F1/14 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/60

Abstract: 一种中间掩模用基板，被用于形成安装在步进曝光装置上使用的中间掩模，具有相互相对的主表面、侧面以及设置在主表面和侧面之间的倒角面，其特征在于，从主表面与倒角面的边界除去内侧3mm区域的平坦度测定区域上的平坦度小于等于0.5μm，并且，主表面与倒角面的边界上的基准面起的最大高度大于等于－1μm小于等于0μm。

公开(公告)号：CN1755519A

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN200510107561.2

申请日：2005-09-29

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 田边胜 ,  川口厚 ,  赤川裕之 ,  河原明宏

IPC: G03F1/14 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/60 ,  G03F1/50 ,  Y10T428/31616

Abstract: 一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状。