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公开(公告)号：CN101813883A
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN201010180900.0
申请日：2005-09-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1755519A
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200510107561.2
申请日：2005-09-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/14 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状。
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公开(公告)号：CN101813883B
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201010180900.0
申请日：2005-09-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/44
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状。
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公开(公告)号：CN1755519B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200510107561.2
申请日：2005-09-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/14 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状。
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公开(公告)号：CN1749853A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200510099938.4
申请日：2005-09-13
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G03F1/38 , G03F1/32 , G03F1/60 , Y10T428/31616
Abstract: 在需要具有预定光学特性的用于掩模板的透明基片中，通过切割预定的角部分成为倾斜部分形成基片标记。该标记的形状根据该基片的光学特性加以确定。
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公开(公告)号：CN1749853B
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200510099938.4
申请日：2005-09-13
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G03F1/38 , G03F1/32 , G03F1/60 , Y10T428/31616
Abstract: 在需要具有预定光学特性的用于掩模板的透明基片中，通过切割预定的角部分成为倾斜部分形成基片标记。该标记的形状根据该基片的光学特性加以确定。
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