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公开(公告)号:CN105493184A
公开(公告)日:2016-04-13
申请号:CN201480047898.6
申请日:2014-08-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C15/02 , C03C23/0075 , C11D7/3209 , C11D11/0035 , C11D11/0047
Abstract: 本发明提供一种在清洗处理后可得到高平滑表面的磁盘用玻璃基板的制造方法。在本发明中,在玻璃基板的镜面研磨后,在使碱性的清洗液与玻璃基板的表面接触而进行清洗的清洗处理中,清洗液含有下述通式I的有机碱,在抑制清洗液中所含有的钠离子和钾离子的含量的同时进行清洗处理。通式I:[(R)4N]+OH-(其中,R表示烷基,与N原子键合的4个烷基之中的至少一个烷基具有一个以上的羟基(OH基))。
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公开(公告)号:CN104508742A
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:CN201380038866.5
申请日:2013-09-30
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/84 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法,该方法尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶化,能够实施高度洁净的清洗。本发明使用含有碱性试剂的清洗液,该碱性试剂不包含钠和钾,一边维持清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为4.00×10-3mol/L以下的条件,一边对两个以上的玻璃基板进行清洗处理,所述两个以上的玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分,且主表面进行了镜面研磨。
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公开(公告)号:CN104508741A
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:CN201380038855.7
申请日:2013-08-28
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法,其中,在使用含有包含氧化锆的研磨剂的研磨液对主表面进行研磨时,难以使异物残留于玻璃基板上。所述磁盘用玻璃基板的制造方法包括以下工序:研磨工序,利用研磨液对玻璃基板的表面的至少一部分进行研磨,该研磨液包含以氧化锆为主要成分的磨粒作为研磨剂;清洗工序,对上述研磨工序后的玻璃基板进行清洗;在上述以氧化锆为主要成分的磨粒的表面的一部分形成有作为氧化锆以外的物质的非氧化锆物质,在上述清洗工序中,使上述玻璃基板的经研磨的表面与可溶解上述非氧化锆物质的清洗液接触。
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公开(公告)号:CN104137181A
公开(公告)日:2014-11-05
申请号:CN201380009608.4
申请日:2013-02-28
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/044 , B24B37/08 , C09K3/1409 , C09K3/1436 , C09K3/1454
Abstract: 本发明提供磁盘用玻璃基板的制造方法,在使用氧化锆磨粒作为游离磨粒的研磨磨粒进行研磨来制造磁盘用玻璃基板时,难以引起磁头划碰故障、热粗糙故障等不良情况。该制造方法具有如下研磨工序:将至少具有一对主表面和构成内孔及外形的2个侧壁面的面包圈型的玻璃基板保持在载具中,在该状态下用安设于研磨定盘的研磨垫夹住上述一对主表面,向上述一对主表面供给研磨液,同时利用上述载具的行星齿轮运动来研磨上述玻璃基板,该制造方法的特征在于,上述研磨液含有利用湿式法制造的氧化锆颗粒作为研磨磨粒。
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公开(公告)号:CN103282160A
公开(公告)日:2013-09-04
申请号:CN201180063508.0
申请日:2011-12-29
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/044 , B24B37/08 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法,其中,使用具有与从过去为了磁盘用玻璃基板主表面的研磨而作为研磨剂使用的氧化铈相同的研磨性能的替代研磨剂。使用研磨液对磁盘用玻璃基板主表面进行研磨时,作为研磨液使用包含研磨剂、第一添加剂、第二添加剂的研磨液,所述研磨剂由粒状氧化锆组成,所述第一添加剂包含磷酸盐以及/或者磺酸盐,所述第二添加剂包含再凝集防止剂。
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