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公开(公告)号：CN103348289A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201280007859.4
申请日：2012-02-21
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/075 , C08F290/14 , C08G77/14 , C08G77/20
CPC classification number: C08F283/122 , C08G77/12 , C08G77/14 , C08L83/06 , G03F7/027 , G03F7/033 , G03F7/0757 , G03F7/40 , C08L83/00
Abstract: 本发明提供一种感放射线性组成物，其可形成以高水准且以良好的平衡而兼具对保护膜或层间绝缘膜的要求特性的硬化膜，且可利用无机碱显影液进行显影。本发明的感放射线性组成物含有以下的成分[A1]、成分[B]及成分[C]：[A1]使四乙氧基硅烷或其部分水解物、下述式(1)所表示的水解性硅烷化合物或其部分水解物、及下述式(2)所表示的水解性硅烷化合物或其部分水解物进行水解缩合而获得的聚硅氧烷；[B]具有2个以上的乙烯性不饱和基的化合物(其中成分[A1]除外)；[C]光自由基聚合起始剂。下述式中，R1及R3表示碳数1～6的烷基，R2表示碳数1～20的烷基等，m表示1～3的整数，n表示0～6的整数，x表示1～3的整数，y表示1～6的整数，z表示0～3的整数。
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公开(公告)号：CN102053493A
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN201010531429.5
申请日：2010-10-26
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法。该放射线敏感性组合物适合用于形成在满足透明性、耐热透明性、表面硬度等一般要求的性质的同时，即使在高温、高湿的苛刻条件下，对ITO透明导电膜或钼等金属布线的密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜。该放射线敏感性组合物包含[A]硅氧烷聚合物、[B]具有下述式(1)(式中，R1是氢原子或者碳原子数为1～4的烷基，R2～R6各自独立地是氢原子、羟基或者碳原子数为1～4的烷基，B是单键、-COO-*或者-CONH-*，m是0～3的整数。其中，R2～R6中的至少一个是羟基，-COO-*或者-CONH-*中的各个*的连接键和(CH2)m的碳连接)所示的重复单元的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂或者放射线敏感性碱产生剂。
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公开(公告)号：CN101907828A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN201010198420.7
申请日：2010-06-07
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/075 , G02F1/1362 , G03F7/00
Abstract: 本发明涉及放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法。所述放射线敏感性组合物可以形成透明性、耐热性等优异，同时对ITO基板密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜，而且具有足够分辨率。本发明的放射线敏感性组合物包括：[A]硅氧烷聚合物，[B]选自由式(1)和(3)分别表示的化合物构成的群组中的至少一种硅烷化合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]硅氧烷聚合物优选为式(4)的水解性硅烷化合物的水解缩合物。还可以进一步含有[D]脱水剂。作为[C]放射线敏感性酸产生剂优选使用选自由三苯基锍盐和四氢噻吩鎓盐构成的群组中的至少一种。(R1O)3Si-R2-Si(OR3)3 (1)(R7)q-Si-(OR8)4-q (4)
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公开(公告)号：CN101328298A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200810128340.7
申请日：2005-11-28
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种组合物，其含有聚合物，该聚合物含有下述聚合单元：来自(a1)具有环氧乙基或氧杂环丁基的聚合性不饱和化合物、(a2)具有以甲基丙烯酸1－二乙基丙酯为代表的特定结构的聚合性不饱和化合物的聚合单元及(a3)与上述聚合单元(a1)、(a2)不同的聚合单元。上述组合物能够形成保存稳定性优良、平坦性高的固化膜，而且，优选用于形成透明性及表面硬度高、耐热耐压性、耐酸性、耐碱性、耐溅射性、蚀刻耐性等各种的耐性优良的光设备用保护膜。
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公开(公告)号：CN102156387B
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201010610519.3
申请日：2010-12-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物以及固化膜。本发明目的在于提供一种具有形成保护膜等的材料所必要的高涂布性、放射线敏感度、图案形成性、以及所得固化膜的透明性和密合性，并且具有高折射率的正型的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物，以及由该组合物所形成的固化膜。本发明是一种放射线敏感性组合物，其含有[A]水解缩合物，该水解缩合物包含由铝、锆、钛、锌和锡构成的群组中选出的至少一种元素和硅；以及[B]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]成分的水解缩合物，优选含有来自于(R1)n-Si-(OR2)4-n所表示的水解性化合物的部分，以及来自于(R3)m-M-(OR4)p-m所表示的水解性化合物的部分。
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公开(公告)号：CN101609256B
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN200910149137.2
申请日：2009-06-17
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明是涉及一种保护膜形成用感射线性树脂组合物及保护膜的形成方法，该树脂组合物作为保护膜的透明度高、与透明导电膜间的粘着性优越、高硬度，且耐磨擦性优越。一种触摸面板的保护膜形成用感射线性树脂组合物，其特征在于包含：(A)碱溶性树脂、(B)在1分子中具有1个羧基的乙烯类不饱和化合物、(C)感射线性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN102419515B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201110282258.1
申请日：2011-09-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种聚硅氧烷组合物、聚硅氧烷组合物的制造方法、显示元件的固化膜及其形成方法。本发明提供可以使保护膜及层间绝缘膜等显示元件的固化膜所需特性得到高水平且兼顾平衡的聚硅氧烷组合物。该聚硅氧烷组合物含有以下成分[A]～[D]：[A]由(a1)具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物和(a2)不具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物进行共水解缩合而得到的具有自由基聚合性有机基团的聚硅氧烷，该聚硅氧烷中的(a1)具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物的比例超过15摩尔％、[B]不具有自由基聚合性有机基团的聚硅氧烷、[C]自由基聚合引发剂、及[D]溶剂。
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公开(公告)号：CN102566278A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110288607.0
申请日：2011-09-19
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种硅氧烷聚合物组合物、固化膜以及固化膜的形成方法。本发明的课题在于提供一种硅氧烷聚合物组合物，该硅氧烷聚合物组合物适合喷出喷嘴式涂布法，没有涂布不均，外观优异，而且可以实现高度平整性(膜厚均匀性)和高速涂布，且可以形成透明性、耐擦伤性优异的作为保护膜和层间绝缘膜的固化膜。一种硅氧烷聚合物组合物，其包含：[A]具有自由基反应性官能团的硅氧烷聚合物，[B]自由基聚合引发剂，以及[C]有机溶剂；其中，固体成分浓度为5质量％以上、30质量％以下，25℃时的粘度为2.0mPa·s以上、10mPa·s以下，而且作为[C]有机溶剂至少包含(C1)20℃时的蒸气压是0.1mmHg以上、不足1mmHg的有机溶剂。
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公开(公告)号：CN1912008B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200610109355.X
申请日：2006-08-10
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L101/06 , C08K5/521 , G02B5/20
Abstract: 提供一种树脂组合物，即使是表面平坦性低的基体，其也能够在该基体上形成平坦性高的固化膜，而且，适合用于形成透明性和表面硬度高、耐热耐压性、耐酸性、耐碱性、耐溅射性等各种耐受性优良的光学器件用保护膜。一种树脂组合物，相对于100重量份(A)(a1)具有环氧乙烷基或氧杂环丁烷基的聚合性不饱和化合物与(a2)上述(a1)以外的聚合性不饱和化合物的共聚物，含有0.01-50重量份(B)具有下述式(1)表示的结构的磷酸类酯。[式(1)中的X代表0-2的整数。R1代表氢原子或者与磷原子相邻的原子为碳原子的有机基团。R2代表与氧原子相邻的原子为碳原子的有机基团。
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公开(公告)号：CN102419515A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201110282258.1
申请日：2011-09-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种聚硅氧烷组合物、聚硅氧烷组合物的制造方法、显示元件的固化膜及其形成方法。本发明提供可以使保护膜及层间绝缘膜等显示元件的固化膜所需特性得到高水平且兼顾平衡的聚硅氧烷组合物。该聚硅氧烷组合物含有以下成分[A]～[D]：[A]由(a1)具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物和(a2)不具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物进行共水解缩合而得到的具有自由基聚合性有机基团的聚硅氧烷，该聚硅氧烷中的(a1)具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物的比例超过15摩尔％、[B]不具有自由基聚合性有机基团的聚硅氧烷、[C]自由基聚合引发剂、及[D]溶剂。
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