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公开(公告)号：CN104662619A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201480002490.7
申请日：2014-07-24
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: H05K3/207 , H05K2201/0129 , H05K2201/0376 , H05K2201/09681 , H05K2203/06 , H05K2203/1545
Abstract: 本发明涉及一种埋入型柔性电极薄膜的制造方法以及由此制造出的埋入型柔性电极薄膜，所述制造方法包括：1)制备离型基底；2)在所述离型基底上形成导电图形层；3)在所述导电图形层上布置转移基底，然后进行热和压力层压，使得在所述离型基底上形成的所述导电图形层被插入或埋入所述转移基底的表面；以及4)将所述离型基底与所述导电图形层彼此分开。
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公开(公告)号：CN104126136A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201280069065.0
申请日：2012-12-05
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3075 , G02B5/1809 , G02B5/1838 , G02B5/3058
Abstract: 本申请涉及一种偏振分离元件，制造偏振分离元件的方法，光照射装置，照射光的方法以及制造光配向膜的方法。根据本申请的紫外线偏振分离元件对紫外线和热具有优异的耐久性，由于偏振特性的低间距依赖性而仅需要简单的制造过程。此外，根据本申请的偏振分离元件即使在短波长区域内也可以实现优异的偏振度和消光比。
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公开(公告)号：CN104105987A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201280069066.5
申请日：2012-12-05
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3091 , B01J19/12 , B29D11/00 , B29D11/00644 , G02B5/1838 , G02B5/3058 , G02B5/3075 , G02B27/283
Abstract: 本申请提供一种偏振光分离元件、其制备方法、光照射装置、照射光的方法和制备有序光控取向膜的方法。所述偏振光分离元件相对于紫外线和热具有优异的耐久性，以及低间距依赖性的偏振特性，使得其易于制备。此外，该偏振光分离元件即使在短波长区内也可以实现高偏振度和消光比。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104126136B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201280069065.0
申请日：2012-12-05
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3075 , G02B5/1809 , G02B5/1838 , G02B5/3058
Abstract: 本申请涉及一种偏振分离元件，制造偏振分离元件的方法，光照射装置，照射光的方法以及制造光配向膜的方法。根据本申请的紫外线偏振分离元件对紫外线和热具有优异的耐久性，由于偏振特性的低间距依赖性而仅需要简单的制造过程。此外，根据本申请的偏振分离元件即使在短波长区域内也可以实现优异的偏振度和消光比。
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公开(公告)号：CN103998956B
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201280062257.9
申请日：2012-12-17
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/13357
CPC classification number: G02F1/133536 , G02B5/3058 , G02F2001/133548
Abstract: 本申请涉及一种反射式偏光器、制备该反射式偏光器的方法、光学元件和显示装置。本申请的反射式偏光器即使在暴露于光源或外部摩擦下时，也可以具有优良的热耐久性和物理耐久性。此外，根据本申请的制备反射式偏光器的方法可以在不使用昂贵设备的情况下，提供具有较大尺寸的反射式偏光器。
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公开(公告)号：CN104937697A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201480005571.2
申请日：2014-08-01
Applicant: LG化学株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F1/22
CPC classification number: G03F7/70058 , G03F1/00 , G03F1/34 , G03F1/50 , G03F1/60 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/703 , G03F7/7035
Abstract: 本发明涉及一种光掩模，一种曝光装置及一种方法。根据本申请的掩模、曝光装置和方法，可以在圆柱形模具上容易地形成具有亚微米大小的精细图案，并且有图案形成于其中的圆柱形模具可容易地应用于自动化工艺，诸如辊对辊工艺。此外，使用由挠性材料形成的光掩模，因此可以大规模形成具有各种大小的精细图案，并且这些精细图案可以分开地或独立地形成在圆柱形模具的曲面上，本发明在工艺的自由度方面表现出优异的效果。
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公开(公告)号：CN103443660B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201280012424.9
申请日：2012-11-26
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: C03C15/00 , B81B2203/0361 , B81C1/00206 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明涉及一种超疏水基板，其中多个突起部以伪随机分布排列在所述基板的一个表面上，并且突起部间的平均间隔大于可见光波长。根据本发明的超疏水基板的优点在于，突起部间的平均间隔大于可见光波长，以确保耐久性；并且突起部以伪随机分布进行排列，以调节突起部的尺寸和分布，从而确保基板的透明性。
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公开(公告)号：CN103443660A
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201280012424.9
申请日：2012-11-26
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: C03C15/00 , B81B2203/0361 , B81C1/00206 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明涉及一种超疏水基板，其中多个突起部以伪随机分布排列在所述基板的一个表面上，并且突起部间的平均间隔大于可见光波长。根据本发明的超疏水基板的优点在于，突起部间的平均间隔大于可见光波长，以确保耐久性；并且突起部以伪随机分布进行排列，以调节突起部的尺寸和分布，从而确保基板的透明性。
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